JPH0369114A - 常圧ｃｖｄ装置 - Google Patents
常圧ｃｖｄ装置Info
- Publication number
- JPH0369114A JPH0369114A JP20592089A JP20592089A JPH0369114A JP H0369114 A JPH0369114 A JP H0369114A JP 20592089 A JP20592089 A JP 20592089A JP 20592089 A JP20592089 A JP 20592089A JP H0369114 A JPH0369114 A JP H0369114A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- belt
- parallelism
- wafer
- sensor
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は常圧ＣＶＤ装置に関する。
従来半導体装置の製造に用いられる常圧ＣＶＤ装置は、
ガス混合吹き出しヘッドと、ベルトもしくはベルト上の
ウェハーのと平行度とその隙間が一度調整されると、あ
とは連続してベルトが駆動され、ウェハーに膜付は処理
がなされていた。
ガス混合吹き出しヘッドと、ベルトもしくはベルト上の
ウェハーのと平行度とその隙間が一度調整されると、あ
とは連続してベルトが駆動され、ウェハーに膜付は処理
がなされていた。
上述した従来の常圧ＣＶＤ装置は、予めガス混合吹き出
しヘッドと、ベルトもしくはベルト上のウェハーとの平
行度及びその隙間距離を調整するにとどまり、この調整
は連続的あるいはあるインターバルごとに行われていな
かったため、経時変化等のために平行度及び隙間距離が
ずれてくるという問題が生じ、結果として常圧ＣＶＤ処
理後の膜圧がばらつくという欠点を持っていた。
しヘッドと、ベルトもしくはベルト上のウェハーとの平
行度及びその隙間距離を調整するにとどまり、この調整
は連続的あるいはあるインターバルごとに行われていな
かったため、経時変化等のために平行度及び隙間距離が
ずれてくるという問題が生じ、結果として常圧ＣＶＤ処
理後の膜圧がばらつくという欠点を持っていた。
本発明の常圧ＣＶＤ装置は、ウェハーを搬送するベルト
とこのベルト上のウェハーにガスを吹きつけるガス混合
吹き出しヘッドとを備えた常圧ＣＶＤ装置において、前
記ガス混合吹き出しヘッドとベルト上のウェハーとの平
行度及び隙間距離を一定に保つための平行度及び隙間距
離を測定するセンサーと、このセンサーからの測定信号
に基づき前記平行度及び隙間距離を設定値に調整する調
整手段とを装備したものである。
とこのベルト上のウェハーにガスを吹きつけるガス混合
吹き出しヘッドとを備えた常圧ＣＶＤ装置において、前
記ガス混合吹き出しヘッドとベルト上のウェハーとの平
行度及び隙間距離を一定に保つための平行度及び隙間距
離を測定するセンサーと、このセンサーからの測定信号
に基づき前記平行度及び隙間距離を設定値に調整する調
整手段とを装備したものである。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す斜視図である。
第１図において、ウェハー搬送用ベルト１を水平に張設
し、このベルト１上に膜付けするウェハー２が一定間隔
をおいて載置され、駆動用シャフト３の回転によりベル
ト１が右方向へ移動することによりガス混合吹き出しヘ
ッド（以下単にヘッドという）４の真下をウェハー２が
通過する様にｉ戒されている。５はガス導入ホースであ
る。このヘッド４は、ヘッド４とベルト１上のウェハー
２との平行度及び隙間距離を設定値に調整するための調
整装Ｎ６に搭載しである。
し、このベルト１上に膜付けするウェハー２が一定間隔
をおいて載置され、駆動用シャフト３の回転によりベル
ト１が右方向へ移動することによりガス混合吹き出しヘ
ッド（以下単にヘッドという）４の真下をウェハー２が
通過する様にｉ戒されている。５はガス導入ホースであ
る。このヘッド４は、ヘッド４とベルト１上のウェハー
２との平行度及び隙間距離を設定値に調整するための調
整装Ｎ６に搭載しである。
この調整装置６は、搬送用ベルト１の移動方向に沿って
前後に配列し昇降する２本の支持アーム５ａ、６ａと、
この２本の支持アーム６ａ、６ａ間に横架された支持シ
ャフト６ｂと、支持アーム６Ｃとコントロールユニット
６ｄから構成されている。以下その動作について説明す
る。
前後に配列し昇降する２本の支持アーム５ａ、６ａと、
この２本の支持アーム６ａ、６ａ間に横架された支持シ
ャフト６ｂと、支持アーム６Ｃとコントロールユニット
６ｄから構成されている。以下その動作について説明す
る。
支持シャフト６ｂはガス混合吹き出しヘッド４の端部を
回転可能に支持しており、ＣＰＵやパルスモー・夕等か
らなるコントロールユニット６ｄに制御される支持アー
ム６Ｃにてヘッド４の支持シャフト６ｂのまわりに回転
させ搬送用ベルト１を横切る方向のヘッド４の姿勢を制
御する。一方前後の支持アーム６ａ、６ａを左右独立に
昇降させ、搬送用ベルト１の移動方向に沿うヘッド４の
姿勢を制御することにより、ヘッド４と搬送用ベルト上
及びウェハー２との平行度及び隙間距離を設定値に調整
する。ヘッド４には、複数個の距離測定用センサー７が
搬送用ベルト］の移動方向に沿って前後に配設されてお
り、このセンサー７にてベルト１までの距離を測定し、
ウェハー１とヘッド４との平行度及び隙間距離を測定す
る。
回転可能に支持しており、ＣＰＵやパルスモー・夕等か
らなるコントロールユニット６ｄに制御される支持アー
ム６Ｃにてヘッド４の支持シャフト６ｂのまわりに回転
させ搬送用ベルト１を横切る方向のヘッド４の姿勢を制
御する。一方前後の支持アーム６ａ、６ａを左右独立に
昇降させ、搬送用ベルト１の移動方向に沿うヘッド４の
姿勢を制御することにより、ヘッド４と搬送用ベルト上
及びウェハー２との平行度及び隙間距離を設定値に調整
する。ヘッド４には、複数個の距離測定用センサー７が
搬送用ベルト］の移動方向に沿って前後に配設されてお
り、このセンサー７にてベルト１までの距離を測定し、
ウェハー１とヘッド４との平行度及び隙間距離を測定す
る。
コントロールニーニット６ｄはセンサー７からの測定デ
ーターを基にして、あらかじめ入力された規格値と比較
し規格値との差を求め、その差がなくなるようにヘッド
４に接続された支持アーム６ａ、６ｃを自動的に調整し
てヘッド４の位置を最適に保つようにする。
ーターを基にして、あらかじめ入力された規格値と比較
し規格値との差を求め、その差がなくなるようにヘッド
４に接続された支持アーム６ａ、６ｃを自動的に調整し
てヘッド４の位置を最適に保つようにする。
このように構成された本実施例によればヘッド４は調整
装置６により制御されるため、常にウェハー２とヘッド
４との平行度及び隙間距離は均一に保たれ、ウェハー２
上にはＣＶＤ処理により膜厚のばらつきのない薄膜が形
成される。
装置６により制御されるため、常にウェハー２とヘッド
４との平行度及び隙間距離は均一に保たれ、ウェハー２
上にはＣＶＤ処理により膜厚のばらつきのない薄膜が形
成される。
上記実施例においては距離測定用センサー７をヘッド４
に配設し、ウェハー搬送用ベルト１との距離をこのセン
サー７により測定してヘッド４のウェハ一対応面の平行
度及び隙間距離を設定値に保つように調整したが、コン
トロールユニットにタイマーを設けると共に、センサー
７の位置を変更し、かつベルト１上のウェハー２の通過
時間と同期させ、ベルト１とセンサー７との距離でなく
、直接ウェハー２との距離を測定する様にしてもよい、
この場合ウェハー２とヘッド４のウェハ一対応面の平行
度及び隙間距離の精度がより向上したものとなる。
に配設し、ウェハー搬送用ベルト１との距離をこのセン
サー７により測定してヘッド４のウェハ一対応面の平行
度及び隙間距離を設定値に保つように調整したが、コン
トロールユニットにタイマーを設けると共に、センサー
７の位置を変更し、かつベルト１上のウェハー２の通過
時間と同期させ、ベルト１とセンサー７との距離でなく
、直接ウェハー２との距離を測定する様にしてもよい、
この場合ウェハー２とヘッド４のウェハ一対応面の平行
度及び隙間距離の精度がより向上したものとなる。
以上説明したように本発明は、気相成長処理時のベルト
上のウェハーとガス混合吹き出しヘッドのウェハ一対応
面の平行度及び隙間距離を常に設定値に保つためのセン
サと調整手段とを設けることにより、気相成長処理によ
り形成されるウェハー上の薄膜の膜厚のばらつきを少く
できるという効果がある。
上のウェハーとガス混合吹き出しヘッドのウェハ一対応
面の平行度及び隙間距離を常に設定値に保つためのセン
サと調整手段とを設けることにより、気相成長処理によ
り形成されるウェハー上の薄膜の膜厚のばらつきを少く
できるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例の斜視図である。
Claims (1)
- ウェハーを搬送するベルトとこのベルト上のウェハーに
ガスを吹きつけるガス混合吹き出しヘッドとを備えた常
圧ＣＶＤ装置において、前記ガス混合吹き出しヘッドと
ベルト上のウェハーとの平行度及び隙間距離を一定に保
つための平行度及び隙間距離を測定するセンサーと、こ
のセンサーからの測定信号に基づき前記平行度及び隙間
距離を設定値に調整する調整手段とを装備したことを特
徴とする常圧ＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20592089A JPH0369114A (ja) | 1989-08-08 | 1989-08-08 | 常圧ｃｖｄ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20592089A JPH0369114A (ja) | 1989-08-08 | 1989-08-08 | 常圧ｃｖｄ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0369114A true JPH0369114A (ja) | 1991-03-25 |
Family
ID=16514934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20592089A Pending JPH0369114A (ja) | 1989-08-08 | 1989-08-08 | 常圧ｃｖｄ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0369114A (ja) |
-
1989
- 1989-08-08 JP JP20592089A patent/JPH0369114A/ja active Pending
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