JPH0369256U - - Google Patents

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JPH0369256U
JPH0369256U JP1989131166U JP13116689U JPH0369256U JP H0369256 U JPH0369256 U JP H0369256U JP 1989131166 U JP1989131166 U JP 1989131166U JP 13116689 U JP13116689 U JP 13116689U JP H0369256 U JPH0369256 U JP H0369256U
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gate electrode
floating gate
semiconductor substrate
isolation region
control gate
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  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Non-Volatile Memory (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の不揮発性メモリの要部平面図
、第2図は従来の不揮発性メモリの要部を示す平
面図、第3図は第2図のX−Y断面図である。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 半導体基板の一主面に一定の間隔をおいて
    配列形成される各メモリセルを区画する島状の分
    離領域と、 上記半導体基板から絶縁され隣接する2つの上
    記分離領域間に亘つて形成され所定の電荷を蓄積
    する浮遊ゲート電極と、 この浮遊ゲート電極から絶縁されると共に浮遊
    ゲート電極に沿つて形成され上記浮遊ゲート電極
    に所定の電界を与える制御ゲート電極と、 を備えた不揮発性メモリに於いて、 上記分離領域に重畳する上記浮遊ゲート電極及
    び制御ゲート電極が上記分離領域に沿つて突出せ
    しめられたことを特徴とする不揮発性メモリ。 (2) 上記浮遊ゲート電極及び制御ゲート電極の
    突出部のサイズに依つて上記浮遊ゲート電極と上
    記半導体基板との間、或いは上記制御ゲート電極
    と上記浮遊ゲート電極との間の容量が設定される
    ことを特徴とする請求項第1項記載の不揮発性メ
    モリ。
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JPH0369256U true JPH0369256U (ja) 1991-07-09

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63150971A (ja) * 1986-12-13 1988-06-23 Nec Corp 不揮発性メモリ

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63150971A (ja) * 1986-12-13 1988-06-23 Nec Corp 不揮発性メモリ

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