JPH0370378B2 - - Google Patents

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JPH0370378B2
JPH0370378B2 JP62078713A JP7871387A JPH0370378B2 JP H0370378 B2 JPH0370378 B2 JP H0370378B2 JP 62078713 A JP62078713 A JP 62078713A JP 7871387 A JP7871387 A JP 7871387A JP H0370378 B2 JPH0370378 B2 JP H0370378B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate bias
potential
generation circuit
transistor
input protection
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP62078713A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63244872A (ja
Inventor
Kazuyuki Uchida
Yukihiro Saeki
Hiroaki Nakamura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP62078713A priority Critical patent/JPS63244872A/ja
Publication of JPS63244872A publication Critical patent/JPS63244872A/ja
Publication of JPH0370378B2 publication Critical patent/JPH0370378B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D89/00Aspects of integrated devices not covered by groups H10D84/00 - H10D88/00
    • H10D89/60Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD]
    • H10D89/601Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs
    • H10D89/811Integrated devices comprising arrangements for electrical or thermal protection, e.g. protection circuits against electrostatic discharge [ESD] for devices having insulated gate electrodes, e.g. for IGFETs or IGBTs using FETs as protective elements

Landscapes

  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、半導体装置の入力保護装置に関する
もので、特に基板バイアス発生回路の入力保護に
使用されるものである。
(従来の技術) 一般に基板バイアス発生回路は、Nチヤンネ
ル・トランジスタの場合、基準電位(GND)よ
り低い電位を基板バイアスとして与えるものであ
り、多くの製品に使用されている。第2図に基板
バイアス発生回路の一例を示す。即ち発振回路1
の出力を、チヤージ・ポンプ・キヤパシタ2の入
力端に接続する。前記チヤージ・ポンプ・キヤパ
シタ2の出力端3を、第1のトランジスタ4の2
端子および第2のトランジスタ5の1端子に接続
し、第1のトランジスタ4の他の1端子を基準電
位6に接続し、第2のトランジスタ5の別の2端
子を基板バイアス発生回路の出力端7に接続す
る。
すなわち、前記発振回路1によつて発生した連
続パルスを、前記キヤパシタ2によつて前記出力
端3を遷移さるせる。前記出力端3の電位が前記
基準電位6よりも高くなつた場合、前記第1のト
ランジスタ4がオン状態になり、前記基準電位6
に電流を流し、前記出力端3の電位を前記基準電
位にする。逆に、前記出力端3の電位が前記基準
電位6よりも低い場合、前記第1のトランジスタ
4はオフ状態になり、前記出力端3の電位を保持
する。
次に、前記基板バイアス発生回路の出力端7の
電位が前記出力端3より高い場合、前記第2のト
ランジスタ5がオン状態になり、前記基板バイア
ス出力端7の電位を、前記出力端3の電位にす
る。逆に、前記基板バイアス出力端7の電位が前
記出力端3よりも低い場合、前記第2のトランジ
スタ5はオフ状態になり、前記基板バイアス出力
端7の電位を保持する。
以上のようにして、前記基板バイアス回路出力
端子7の電位はマイナス電位に保持される。
(発明が解決しようとする問題点) 従来、基板バイアス発生回路の外部への出力端
子には、静電破壊の入力保護装置が設けられてい
なかつたため、静電破壊に対して弱かつた。即ち
基板バイアス発生回路に入力保護装置が設けられ
ていなかつた理由は、以下の理由による。
従来の集積回路の内部回路の入力保護装置は、
第3図に示されるようなトランジスタを接続した
ものであつた。即ち、入力保護トランジスタ10
の一端に外部への端子7′を接続し、他の2端子
を基板電位6に接続する。外部端子に非常に高い
電位が加わつた場合、前記トランジスタ10のブ
レークダウン特性によつて、前記基準電位6に電
流を流し、ICの内部回路11を保護する。前記
外部端子7′に基準電位6より低い電位が加われ
ば、前記トランジスタ10がオン状態になり、前
記外部端子7′の電位を前記基準電位6にする。
従来の入力保護装置を、基板バイアス発生回路
に接続した場合、基板バイアス発生回路が発生さ
せたマイナス電位を、入力保護装置によつて、基
準電位にしてしまい、使用できないものであつ
た。
そこで本発明は、基板バイアス発生回路の特性
をそこなうことなく、入力保護を行なうことを目
的とする。
〔発明の構成〕
(問題点を解決するための手段と作用) 本発明は、バイアス発生回路をチツプ上に持つ
半導体装置において、前記基板バイアス発生回路
の出力端子と電源端子の間に入力保護用MOSト
ランジスタを接続し前記トランジスタの入力ゲー
トを前記基板バイアス回路の出力端子に接続した
ことを特徴とする半導体入力保護装置である。即
ち本発明は、基板バイアス発生回路によつて発生
すべき電位においては、前記入力保護用MOSト
ランジスタはオフして何ら影響を与えず、基板バ
イアス発生回路の外部端子に基板バイアス範囲外
の電位が加わつた場合に、前記トランジスタによ
り基板バイアス発生回路を保護するようにしたも
のである。
(実施例) 以下図面を参照して本発明の一実施例を説明す
る。第1図は同実施例の回路図であるが、これは
第2図のものと対応する場合の例であるから、対
応個所には同一符号を付して説明を省略し、特徴
とする点の説明を行なう。即ち基板バイアス発生
回路の出力端7に入力保護トランジスタ20のゲ
ートとソースを接続と、ドレインを基準電位6に
接続する。別の入力保護トランジスタ21のゲー
トとソースも、前記基板バイアス発生回路出力端
7に接続し、ドレインは電源8に接続する。
しかして第1図の回路において、基板バイアス
発生回路の外部端子7に、基板バイアス電位より
も非常に低い電位が加わつた場合、主に前記入力
保護トランジスタ21あるいは前記別の入力保護
トランジスタ20のブレークダウン特性によつて
電流を流し、基板バイアス発生回路を保護する。
前記基板バイアス発生回路の外部端子7に、基
準電位6より高い電位が加わつた場合、主に前記
入力保護トランジスタ20あるいは前記別の入力
保護トランジスタ21がオン状態になつて電流を
流し、基準電位6あるいは電源8の電位にして、
基板バイアス発生回路を保護する。
そして、基板バイアス発生回路によつて発生す
べき電位においては、前記入力保護トランジスタ
20および前記別の入力保護トランジスタ21は
オフしており、外部端子7には影響を与えない。
さらに入力保護装置は、外部端子7における基準
電位より高い電圧をカツトするため、基板バイア
ス発生回路の動作開始時の特性が良くなる利点を
持つものである。
なお本発明は実施例のみに限られることなく
種々の応用が可能である。例えば実施例では、入
力保護トランジスタ21,22をNチヤンネルと
したがPチヤンネルを用いた基板バイアス発生回
路の場合、トランジスタ21,22をPチヤンネ
ルMOSトランジスタで置きかえることもできる。
また本発明にあつてはトランジスタ21,22の
うちいずれか一方を用いる場合にも適用できる。
〔発明の効果〕
以上説明した如く本発明によれば、基板バイア
ス発生回路の特性を損なうことなく、入力保護を
行なうことができるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の回路図、第2図は
従来の基板バイアス発生回路図、第3図は従来の
入力保護装置を示す回路図である。 1…発振回路、2…チヤージ・ポンプ・キヤパ
シタ、3…チヤージ・ポンプ・キヤパシタの出力
端、4,5…Nチヤンネルトランジスタ、6…基
準電圧、7…基板バイアス発生回路出力端、8…
電源、20,21…入力保護トランジスタ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 基板バイアス発生回路をチツプ上に持つ半導
    体装置において、前記基板バイアス発生回路の出
    力端子と電源端子の間に入力保護用MOSトラン
    ジスタを接続し前記トランジスタの入力ゲートを
    前記基板バイアス回路の出力端子に接続したこと
    を特徴とする半導体入力保護装置。
JP62078713A 1987-03-31 1987-03-31 半導体入力保護装置 Granted JPS63244872A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62078713A JPS63244872A (ja) 1987-03-31 1987-03-31 半導体入力保護装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62078713A JPS63244872A (ja) 1987-03-31 1987-03-31 半導体入力保護装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63244872A JPS63244872A (ja) 1988-10-12
JPH0370378B2 true JPH0370378B2 (ja) 1991-11-07

Family

ID=13669510

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62078713A Granted JPS63244872A (ja) 1987-03-31 1987-03-31 半導体入力保護装置

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JPS63244872A (ja) 1988-10-12

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