JPH0370849B2 - - Google Patents
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- JPH0370849B2 JPH0370849B2 JP1929383A JP1929383A JPH0370849B2 JP H0370849 B2 JPH0370849 B2 JP H0370849B2 JP 1929383 A JP1929383 A JP 1929383A JP 1929383 A JP1929383 A JP 1929383A JP H0370849 B2 JPH0370849 B2 JP H0370849B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
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- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
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Description
〔発明の属する技術分野〕
本発明は、磁気記録媒体に対して書込みおよび
読取りを行い、薄膜を有する磁気ヘツドに用いら
れる基体に関する。特に、高密度磁気記録を行う
に適する薄膜磁気ヘツドおよび垂直磁気記録方式
の磁気ヘツドに用いられる基体に関するものであ
る。 〔従来技術の説明〕 近年、情報量の増加に伴い磁気記録の高記録密
度化についての要求が高まつている。この高記録
密度化を達成させるために、磁気記録に係わる磁
気ヘツド等の諸部品の改良、新規磁気記録方式の
開発等に関する研究が活発化している。 磁気ヘツドについてみると、フエライトコアを
使用した汎用のリング型磁気ヘツドは、高密度磁
気記録において限界があると考えられており、こ
れに代わり高記録密度化を可能にする磁気ヘツド
として特開昭55−84018に開示されるような薄膜
磁気ヘツドが開発されている。 上記薄膜磁気ヘツドは、非磁性基体と、この非
磁性基体の一つの面の上に形成された書込みまた
は読取り用変換ギヤツプ層を含む複数の薄膜層で
作られた書込みまたは読取り変換器と、上記薄膜
層を被覆する非磁性保護板とを備えている。これ
らの薄膜層は、通常、非磁性基体上にスパツタリ
ングまたは蒸着により形成される。 また、磁気記録方式についてみると、従来の長
手磁気記録方式も高記録密度化には限界があるこ
とが示され、この記録方式に代わり、高記録密度
化を可能にする記録方式として垂直磁気記録方式
が提案されている。この垂直磁気記録に用いる磁
気ヘツドを製作する場合も、通常、非磁性基体上
に軟磁性薄膜がスパツタリングまたは蒸着により
形成される。 これらの磁気ヘツドに用いられる基体は、前述
したようにその上に薄膜を形成させるため、十分
な表面平滑性を必要とし、通常、その表面は鏡面
加工される。上記基体内に直径の大きな空孔が存
在したり、あるいは多くの空孔が存在すると、鏡
面加工を施したとしても、その基体表面は十分な
平滑度を得ることができず、この表面にスパツタ
リングまたは蒸着により形成された薄膜に円孔が
存在することになり、そのためこの薄膜は良好な
磁気特性を持つことができない。また空孔内のガ
スが抜け難いために、スパツタリングまたは蒸着
の際に必要とされる真空度を得ることが困難とな
る。 現在、これらの磁気ヘツド用基体としては、表
面平滑性が得られるアルミナ系セラミツクスの集
合体が一般に使用されている。しかしこのアルミ
ナ系セラミツクスの材料は硬度が高く、磁気記録
媒体との摺動の際に記録媒体の表面を傷付けやす
い欠点を有する。 この欠点を解消するため、従来、薄膜磁気ヘツ
ドが摺動する磁気記録媒体の表面には、潤滑剤が
塗布されたり、あるいは磁気記録媒体表面に保護
膜が被覆されたりしているが、潤滑剤を塗布して
も揮散等により潤滑作用を長時間持続させておく
ことは困難で、定期的に潤滑剤を再塗布しなけれ
ばならない欠点があり、記録媒体に保護膜を設け
ることは保護膜を被覆するための工程が増え、か
つ薄膜磁気ヘツドと記録媒体との間隔を増大させ
る欠点があつた。 〔発明の目的〕 本発明は、極めて高い表面平滑性を有し、鏡面
加工した面に、良好な磁気特性を持つ薄膜を形成
させることを可能にし、かつ磁気記録媒体の表面
に潤滑剤を塗布することなく、また磁気記録媒体
の表面に保護膜を形成することなく磁気記録媒体
の表面を永久的に損傷させず、磁気記録媒体との
接触面の摩耗が少ない磁気ヘツド用基体を提供す
ることを目的とする。 〔発明の特徴〕 第一発明の特徴は、薄膜の形成される面が極め
て高い平滑性を有し、密度が1.40ｇ／cm3以上のガ
ラス状カーボン材料集合体で構成された磁気ヘツ
ド用基体である点にあり、また第二発明の特徴
は、薄膜の形成される面が極めて高い平滑性を有
し、密度が1.40ｇ／cm3以上のガラス状カーボン材
料および熱硬化性樹脂を含む複合材料集合体で構
成された磁気ヘツド用基体である点にある。 なお本明細書で「極めて高い平滑性」とは、薄
膜が形成される面に直径0.5μｍ以上の空孔が形成
されていないことをいう。 本発明の磁気ヘツド用基体は、薄膜が形成され
る面に直径が0.5μｍ以上の空孔が形成されていな
いために基体表面に磁気特性の良い薄膜を形成さ
せることができる。また基体の密度は、磁気特性
の良好な薄膜の形成とは直接には関係しないが、
1.40ｇ／cm3未満の低密度の基体は、薄膜が形成さ
れる面に直径0.5μｍ以上の空孔を持たない場合で
も、薄膜形成面以外の面あるいは基体内部に多数
の空孔が形成されていて、この基体を用いた場合
は、スパツタリングまたは蒸着に必要とされる真
空度を得ることが困難となるが、または磁気記録
媒体との接触の際に摩耗減量が大きくなり、本発
明の目的を達成することができない。なお、薄膜
が形成される面に直径0.1μｍ以上の空孔を持たな
ければ、この基体表面に磁気特性のより良好な薄
膜を形成させることができる。 以下、本発明を補足的に説明すると、本発明に
係わるカーボン材料は、熱硬化性樹脂を炭素化し
て得られるカーボン材料、共重合や共縮合などに
より熱硬化するように変性された樹脂を炭素化し
て得られるカーボン材料、硬化あるいは炭素化の
過程で化学処理により結晶化を著しく妨げること
により得られるカーボン材料、メタン、エチレ
ン、ベンゼン等の低分子量炭化水素類を気相で熱
分解して得られるカーボン材料等であり、具体的
には、ポリアクリロニトリル系カーボン材料、レ
ーヨン系カーボン材料、ピツチ系カーボン材料、
リグニン系カーボン材料、フエノール系カーボン
材料、フラン系カーボン材料、アルキツド樹脂系
カーボン材料、不飽和ポリエステル系カーボン材
料、キシレン樹脂系カーボン材料等が挙げられ
る。 また本発明に用いられる熱硬化性樹脂として
は、フエノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステ
ル樹脂、フラン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹
脂、アルキツド樹脂、キシレン樹脂等を挙げるこ
とができる。 これらの熱硬化性樹脂を前記ガラス状カーボン
材料と複合すれば、熱硬化性樹脂はガラス状カー
ボン材料同士を固着するバインダとして作用し、
衝突等の機械的破壊に対して強度のある堅牢な非
磁性基体を得ることができる。しかし、熱硬化性
樹脂をガラス状カーボン材料に対して多量に複合
させると、摩耗の大きい非磁性基体となるため、
複合材料中にはガラス状カーボン材料を40容量％
以上、好ましくは50容量％以上含ませることがよ
い。 本発明の磁気ヘツド用基体は、上記カーボン材
料の集合体、あるいはカーボン材料と熱硬化性樹
脂の複合物の集合体で構成される。これらの集合
体の製造方法としては、注型、圧縮、押出し等の
広く知られた各種成型法が採られるが、直径0.5μ
ｍ以上の空孔を持たず、かつ密度が1.40ｇ／cm3以
上の集合体を得るには、注型法による場合は、例
えばカーボン材料の前駆体（熱硬化性樹脂を硬化
剤あるいは熱で硬化させた状態のもの）を得る段
階において、硬化剤を均一に分散させ、あるいは
均一に加熱し、かつ硬化速度があまり速くならな
いように調整することにより得られる。また圧縮
あるいは押出し成型法の場合は、例えばカーボン
材料を熱硬化性樹脂で濡らして空隙を極力減少さ
せて成型することにより得られる。 〔発明の効果〕 以上述べたように、本発明の磁気ヘツド用基体
は、この基体上に薄膜を形成させるために要求さ
れる表面平滑性を有し、鏡面加工により十分な平
滑度を得ることができ、しかも基体上に良好な磁
気特性を持つ薄膜をスパツタリングあるいは蒸着
により形成させることができる。また磁気記録媒
体との間で潤滑剤を用いることなく潤滑性を長時
間持続させることができ、磁気記録媒体の表面を
損傷させず摩耗減量も少ない。さらにカーボン材
料の導電性により静電気が発生せず、基体および
磁気記録媒体に塵埃が付着しない効果もある。 本発明に関する前述のカーボン材料集合体また
は複合材料集合体を磁気記録媒体と接触する基体
以外の部分、例えば薄膜磁気ヘツドの保護板、垂
直磁気記録用ヘツドの軟磁性薄膜の支持体等に使
用すると、磁気記録媒体間に持続性のある潤滑性
が付与されることになり、好ましいといえる。 〔実施例による説明〕 以下本発明の磁気ヘツド用基体の具体的態様を
示すために、本発明を実施例によりさらに詳細に
説明するが、以下に示す例はあくまでも一例であ
つて、これにより本発明の技術的範囲を限定する
ものではない。 実施例 注型成型により製造された密度1.49ｇ／cm3、シ
ヨア硬度112、熱伝導率3kcal／ｍhr℃の特性を有
するフラン系ガラス状カーボン材料集合体を図に
示される形状および寸法に切り出し、記録媒体と
の摺動面Ａおよび薄膜を形成させる面Ｂを粗研磨
から徐々に微細研磨して行き、最終的にエメリー
紙＃15000で鏡面仕上げを行つてモデル基板１を
作製した。鏡面仕上げされた面Ｂを走査型電子顕
微鏡で観察したところ、この表面には直径0.5μｍ
以上の空孔は見られず、直径0.01μｍ以下の空孔
が見られるのみであつた。 このモデル基板１と磁気記録媒体との摩擦性を
評価するために、基板１のＡ面と、Co−被着γ
−Fe2O3塗布膜、Ni−Ｐメツキ薄膜およびCo−
Crスパツタリング薄膜との動摩擦特性を摩擦試
験装置により測定し、基板１のＡ面および上記磁
気記録媒体の表面の状態を肉眼で観察した。この
結果を第１表に示す。なお、測定に使用した摩擦
試験装置は特開昭55−128142に記載される実際の
使用状態に近い状態で動摩擦特性を測定し得る装
置である。 次いでこのモデル基板１を図の破線Ｃ−C′に沿
つて切断し、一方の切断片のＢ面に厚さ1μｍの
Co−Zr−Nbの合金薄膜をスパツタリングにより
形成させ、もう一方の切断片のＢ面に厚さ0.3μｍ
のCo−Zr−Nbの合金薄膜を同じくスパツタリン
グにより形成させた。回転磁界中でこれらの薄膜
を熱処理を行つた後、軟磁性薄膜用の振動型磁気
測定装置を用いて各薄膜の保持力Hcを測定した。
その結果を第２表に示す。 実施例 注型成型により製造された密度1.47ｇ／cm3、シ
ヨア硬度、100、熱伝導率7kcal／ｍhr℃の特性を
有するフラン系ガラス状カーボン材料集合体を実
施例１と同様の方法で処理して図示するようなモ
デル基板１を作製し、面Ｂを走査型電子顕微鏡で
観察したところ、この表面には直径0.5μｍ以上の
空孔は見られず、直径0.05μｍ以下の空孔が見ら
れるのみであつた。 以下実施例と同様にモデル基板１と磁気記録
媒体との摩擦性および薄膜の保磁力を測定した。
なお薄膜は実施例と同一の方法で作られたもの
である。これらの結果を第１表および第２表に示
す。 実施例 注型成型によつて製造された密度1.45ｇ／cm3、
シヨア硬度78、熱伝導率15kcal／ｍhr℃の特性を
有するフエノール系ガラス状カーボン材料集合体
を実施例１と同様の方法で処理して図示するよう
なモデル基板１を作製し、面Ｂを走査型電子顕微
鏡で観察したところ、この表面には直径0.5μｍ以
上の空孔は見られず、直径0.2μｍ程度の空孔が見
られるのみであつた。 以下実施例と同様にモデル基板１と磁気記録
媒体との摩擦性および薄膜の保磁力を測定した。
なお薄膜は実施例と同一の方法で作られたもの
である。これらの結果を第１表および第２表に示
す。 実施例 フエノール系ガラス状炭素繊維（日本カイノー
ル(株)製、登録商標名カイノール）70容量％と積層
用汎用レゾール樹脂30容量％とにより構成され、
圧縮成型で成型された密度1.46ｇ／cm3の複合ガラ
ス状カーボン材料集合体を実施例と同様の方法
で処理して図示するようなモデル基板１を作製
し、面Ｂを走査型電子顕微鏡で観察したところ、
この表面には直径0.5μｍ以上の空孔は見られず、
直径0.4μｍ以下の空孔が見られるのみであつた。 以下実施例と同様にモデル基板１と磁気記録
媒体との摩擦性および薄膜の保磁力を測定した。
なお薄膜は実施例と同一の方法で作られたもの
である。これらの結果を第１表および第２表に示
す。 比較例 注型成型により製造された密度1.37ｇ／cm3、シ
ヨア硬度80、熱伝導率10kcal／ｍhr℃の特性を有
するフラン系ガラス状カーボン材料集合体を実施
例と同様の方法で処理して図示するようなモデ
ル基板１を作製し、面Ｂを金属顕微鏡で観察した
ところ、この表面には直径0.5μｍ未満の空孔も見
られたが、その他にも直径0.6〜0.7μｍの空孔も
見られた。 以下実施例と同様にモデル基板１と磁気記録
媒体の薄膜の保磁力を測定した。なお薄膜は実施
例と同一の方法で作られたものである。この結
果を第２表に示す。 比較例 注型成型により製造された密度1.35ｇ／cm3、シ
ヨア硬度70、熱伝導率13kcal／ｍhr℃の特性を有
するフエノール系ガラス状カーボン材料集合体を
実施例１と同様の方法で処理して図示するような
モデル基板１を作製し、面Ｂを金属顕微鏡で観察
したところ、この表面には直径0.5μｍ未満の空孔
も見られたが、その他にも直径0.9〜1.1μｍの空
孔も見られた。 以下実施例と同様にモデル基板１と磁気記録
媒体の薄膜の保磁力を測定した。なお薄膜は実施
例と同一の方法で作られたものである。この結
果を第２表に示す。 比較例 アルミナ系セラミツクス（日本電気硝子(株)製、
商品名ネオセラム）を実施例と同様の方法で処
理して図示するようなモデル基板１を作製し、面
Ｂを走査型電子顕微鏡で観察したところ、この表
面には直径0.5μｍ以上の空孔も見られず、直径
0.01μｍ以下の空孔が見られるのみであつた。 以下実施例と同様にモデル基板１と磁気記録
媒体との摩擦性を測定した。この結果を第１表に
示す。 （試験結果） 第１表および第２表で明らかなように、本発明
の磁気ヘツド用基板は、磁気記録媒体との潤滑性
に優れ、かつヘツド摺動面および記録媒体を損傷
させず、さらに保磁力が小さく磁気特性にも優れ
ていることが判る。
読取りを行い、薄膜を有する磁気ヘツドに用いら
れる基体に関する。特に、高密度磁気記録を行う
に適する薄膜磁気ヘツドおよび垂直磁気記録方式
の磁気ヘツドに用いられる基体に関するものであ
る。 〔従来技術の説明〕 近年、情報量の増加に伴い磁気記録の高記録密
度化についての要求が高まつている。この高記録
密度化を達成させるために、磁気記録に係わる磁
気ヘツド等の諸部品の改良、新規磁気記録方式の
開発等に関する研究が活発化している。 磁気ヘツドについてみると、フエライトコアを
使用した汎用のリング型磁気ヘツドは、高密度磁
気記録において限界があると考えられており、こ
れに代わり高記録密度化を可能にする磁気ヘツド
として特開昭55−84018に開示されるような薄膜
磁気ヘツドが開発されている。 上記薄膜磁気ヘツドは、非磁性基体と、この非
磁性基体の一つの面の上に形成された書込みまた
は読取り用変換ギヤツプ層を含む複数の薄膜層で
作られた書込みまたは読取り変換器と、上記薄膜
層を被覆する非磁性保護板とを備えている。これ
らの薄膜層は、通常、非磁性基体上にスパツタリ
ングまたは蒸着により形成される。 また、磁気記録方式についてみると、従来の長
手磁気記録方式も高記録密度化には限界があるこ
とが示され、この記録方式に代わり、高記録密度
化を可能にする記録方式として垂直磁気記録方式
が提案されている。この垂直磁気記録に用いる磁
気ヘツドを製作する場合も、通常、非磁性基体上
に軟磁性薄膜がスパツタリングまたは蒸着により
形成される。 これらの磁気ヘツドに用いられる基体は、前述
したようにその上に薄膜を形成させるため、十分
な表面平滑性を必要とし、通常、その表面は鏡面
加工される。上記基体内に直径の大きな空孔が存
在したり、あるいは多くの空孔が存在すると、鏡
面加工を施したとしても、その基体表面は十分な
平滑度を得ることができず、この表面にスパツタ
リングまたは蒸着により形成された薄膜に円孔が
存在することになり、そのためこの薄膜は良好な
磁気特性を持つことができない。また空孔内のガ
スが抜け難いために、スパツタリングまたは蒸着
の際に必要とされる真空度を得ることが困難とな
る。 現在、これらの磁気ヘツド用基体としては、表
面平滑性が得られるアルミナ系セラミツクスの集
合体が一般に使用されている。しかしこのアルミ
ナ系セラミツクスの材料は硬度が高く、磁気記録
媒体との摺動の際に記録媒体の表面を傷付けやす
い欠点を有する。 この欠点を解消するため、従来、薄膜磁気ヘツ
ドが摺動する磁気記録媒体の表面には、潤滑剤が
塗布されたり、あるいは磁気記録媒体表面に保護
膜が被覆されたりしているが、潤滑剤を塗布して
も揮散等により潤滑作用を長時間持続させておく
ことは困難で、定期的に潤滑剤を再塗布しなけれ
ばならない欠点があり、記録媒体に保護膜を設け
ることは保護膜を被覆するための工程が増え、か
つ薄膜磁気ヘツドと記録媒体との間隔を増大させ
る欠点があつた。 〔発明の目的〕 本発明は、極めて高い表面平滑性を有し、鏡面
加工した面に、良好な磁気特性を持つ薄膜を形成
させることを可能にし、かつ磁気記録媒体の表面
に潤滑剤を塗布することなく、また磁気記録媒体
の表面に保護膜を形成することなく磁気記録媒体
の表面を永久的に損傷させず、磁気記録媒体との
接触面の摩耗が少ない磁気ヘツド用基体を提供す
ることを目的とする。 〔発明の特徴〕 第一発明の特徴は、薄膜の形成される面が極め
て高い平滑性を有し、密度が1.40ｇ／cm3以上のガ
ラス状カーボン材料集合体で構成された磁気ヘツ
ド用基体である点にあり、また第二発明の特徴
は、薄膜の形成される面が極めて高い平滑性を有
し、密度が1.40ｇ／cm3以上のガラス状カーボン材
料および熱硬化性樹脂を含む複合材料集合体で構
成された磁気ヘツド用基体である点にある。 なお本明細書で「極めて高い平滑性」とは、薄
膜が形成される面に直径0.5μｍ以上の空孔が形成
されていないことをいう。 本発明の磁気ヘツド用基体は、薄膜が形成され
る面に直径が0.5μｍ以上の空孔が形成されていな
いために基体表面に磁気特性の良い薄膜を形成さ
せることができる。また基体の密度は、磁気特性
の良好な薄膜の形成とは直接には関係しないが、
1.40ｇ／cm3未満の低密度の基体は、薄膜が形成さ
れる面に直径0.5μｍ以上の空孔を持たない場合で
も、薄膜形成面以外の面あるいは基体内部に多数
の空孔が形成されていて、この基体を用いた場合
は、スパツタリングまたは蒸着に必要とされる真
空度を得ることが困難となるが、または磁気記録
媒体との接触の際に摩耗減量が大きくなり、本発
明の目的を達成することができない。なお、薄膜
が形成される面に直径0.1μｍ以上の空孔を持たな
ければ、この基体表面に磁気特性のより良好な薄
膜を形成させることができる。 以下、本発明を補足的に説明すると、本発明に
係わるカーボン材料は、熱硬化性樹脂を炭素化し
て得られるカーボン材料、共重合や共縮合などに
より熱硬化するように変性された樹脂を炭素化し
て得られるカーボン材料、硬化あるいは炭素化の
過程で化学処理により結晶化を著しく妨げること
により得られるカーボン材料、メタン、エチレ
ン、ベンゼン等の低分子量炭化水素類を気相で熱
分解して得られるカーボン材料等であり、具体的
には、ポリアクリロニトリル系カーボン材料、レ
ーヨン系カーボン材料、ピツチ系カーボン材料、
リグニン系カーボン材料、フエノール系カーボン
材料、フラン系カーボン材料、アルキツド樹脂系
カーボン材料、不飽和ポリエステル系カーボン材
料、キシレン樹脂系カーボン材料等が挙げられ
る。 また本発明に用いられる熱硬化性樹脂として
は、フエノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステ
ル樹脂、フラン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹
脂、アルキツド樹脂、キシレン樹脂等を挙げるこ
とができる。 これらの熱硬化性樹脂を前記ガラス状カーボン
材料と複合すれば、熱硬化性樹脂はガラス状カー
ボン材料同士を固着するバインダとして作用し、
衝突等の機械的破壊に対して強度のある堅牢な非
磁性基体を得ることができる。しかし、熱硬化性
樹脂をガラス状カーボン材料に対して多量に複合
させると、摩耗の大きい非磁性基体となるため、
複合材料中にはガラス状カーボン材料を40容量％
以上、好ましくは50容量％以上含ませることがよ
い。 本発明の磁気ヘツド用基体は、上記カーボン材
料の集合体、あるいはカーボン材料と熱硬化性樹
脂の複合物の集合体で構成される。これらの集合
体の製造方法としては、注型、圧縮、押出し等の
広く知られた各種成型法が採られるが、直径0.5μ
ｍ以上の空孔を持たず、かつ密度が1.40ｇ／cm3以
上の集合体を得るには、注型法による場合は、例
えばカーボン材料の前駆体（熱硬化性樹脂を硬化
剤あるいは熱で硬化させた状態のもの）を得る段
階において、硬化剤を均一に分散させ、あるいは
均一に加熱し、かつ硬化速度があまり速くならな
いように調整することにより得られる。また圧縮
あるいは押出し成型法の場合は、例えばカーボン
材料を熱硬化性樹脂で濡らして空隙を極力減少さ
せて成型することにより得られる。 〔発明の効果〕 以上述べたように、本発明の磁気ヘツド用基体
は、この基体上に薄膜を形成させるために要求さ
れる表面平滑性を有し、鏡面加工により十分な平
滑度を得ることができ、しかも基体上に良好な磁
気特性を持つ薄膜をスパツタリングあるいは蒸着
により形成させることができる。また磁気記録媒
体との間で潤滑剤を用いることなく潤滑性を長時
間持続させることができ、磁気記録媒体の表面を
損傷させず摩耗減量も少ない。さらにカーボン材
料の導電性により静電気が発生せず、基体および
磁気記録媒体に塵埃が付着しない効果もある。 本発明に関する前述のカーボン材料集合体また
は複合材料集合体を磁気記録媒体と接触する基体
以外の部分、例えば薄膜磁気ヘツドの保護板、垂
直磁気記録用ヘツドの軟磁性薄膜の支持体等に使
用すると、磁気記録媒体間に持続性のある潤滑性
が付与されることになり、好ましいといえる。 〔実施例による説明〕 以下本発明の磁気ヘツド用基体の具体的態様を
示すために、本発明を実施例によりさらに詳細に
説明するが、以下に示す例はあくまでも一例であ
つて、これにより本発明の技術的範囲を限定する
ものではない。 実施例 注型成型により製造された密度1.49ｇ／cm3、シ
ヨア硬度112、熱伝導率3kcal／ｍhr℃の特性を有
するフラン系ガラス状カーボン材料集合体を図に
示される形状および寸法に切り出し、記録媒体と
の摺動面Ａおよび薄膜を形成させる面Ｂを粗研磨
から徐々に微細研磨して行き、最終的にエメリー
紙＃15000で鏡面仕上げを行つてモデル基板１を
作製した。鏡面仕上げされた面Ｂを走査型電子顕
微鏡で観察したところ、この表面には直径0.5μｍ
以上の空孔は見られず、直径0.01μｍ以下の空孔
が見られるのみであつた。 このモデル基板１と磁気記録媒体との摩擦性を
評価するために、基板１のＡ面と、Co−被着γ
−Fe2O3塗布膜、Ni−Ｐメツキ薄膜およびCo−
Crスパツタリング薄膜との動摩擦特性を摩擦試
験装置により測定し、基板１のＡ面および上記磁
気記録媒体の表面の状態を肉眼で観察した。この
結果を第１表に示す。なお、測定に使用した摩擦
試験装置は特開昭55−128142に記載される実際の
使用状態に近い状態で動摩擦特性を測定し得る装
置である。 次いでこのモデル基板１を図の破線Ｃ−C′に沿
つて切断し、一方の切断片のＢ面に厚さ1μｍの
Co−Zr−Nbの合金薄膜をスパツタリングにより
形成させ、もう一方の切断片のＢ面に厚さ0.3μｍ
のCo−Zr−Nbの合金薄膜を同じくスパツタリン
グにより形成させた。回転磁界中でこれらの薄膜
を熱処理を行つた後、軟磁性薄膜用の振動型磁気
測定装置を用いて各薄膜の保持力Hcを測定した。
その結果を第２表に示す。 実施例 注型成型により製造された密度1.47ｇ／cm3、シ
ヨア硬度、100、熱伝導率7kcal／ｍhr℃の特性を
有するフラン系ガラス状カーボン材料集合体を実
施例１と同様の方法で処理して図示するようなモ
デル基板１を作製し、面Ｂを走査型電子顕微鏡で
観察したところ、この表面には直径0.5μｍ以上の
空孔は見られず、直径0.05μｍ以下の空孔が見ら
れるのみであつた。 以下実施例と同様にモデル基板１と磁気記録
媒体との摩擦性および薄膜の保磁力を測定した。
なお薄膜は実施例と同一の方法で作られたもの
である。これらの結果を第１表および第２表に示
す。 実施例 注型成型によつて製造された密度1.45ｇ／cm3、
シヨア硬度78、熱伝導率15kcal／ｍhr℃の特性を
有するフエノール系ガラス状カーボン材料集合体
を実施例１と同様の方法で処理して図示するよう
なモデル基板１を作製し、面Ｂを走査型電子顕微
鏡で観察したところ、この表面には直径0.5μｍ以
上の空孔は見られず、直径0.2μｍ程度の空孔が見
られるのみであつた。 以下実施例と同様にモデル基板１と磁気記録
媒体との摩擦性および薄膜の保磁力を測定した。
なお薄膜は実施例と同一の方法で作られたもの
である。これらの結果を第１表および第２表に示
す。 実施例 フエノール系ガラス状炭素繊維（日本カイノー
ル(株)製、登録商標名カイノール）70容量％と積層
用汎用レゾール樹脂30容量％とにより構成され、
圧縮成型で成型された密度1.46ｇ／cm3の複合ガラ
ス状カーボン材料集合体を実施例と同様の方法
で処理して図示するようなモデル基板１を作製
し、面Ｂを走査型電子顕微鏡で観察したところ、
この表面には直径0.5μｍ以上の空孔は見られず、
直径0.4μｍ以下の空孔が見られるのみであつた。 以下実施例と同様にモデル基板１と磁気記録
媒体との摩擦性および薄膜の保磁力を測定した。
なお薄膜は実施例と同一の方法で作られたもの
である。これらの結果を第１表および第２表に示
す。 比較例 注型成型により製造された密度1.37ｇ／cm3、シ
ヨア硬度80、熱伝導率10kcal／ｍhr℃の特性を有
するフラン系ガラス状カーボン材料集合体を実施
例と同様の方法で処理して図示するようなモデ
ル基板１を作製し、面Ｂを金属顕微鏡で観察した
ところ、この表面には直径0.5μｍ未満の空孔も見
られたが、その他にも直径0.6〜0.7μｍの空孔も
見られた。 以下実施例と同様にモデル基板１と磁気記録
媒体の薄膜の保磁力を測定した。なお薄膜は実施
例と同一の方法で作られたものである。この結
果を第２表に示す。 比較例 注型成型により製造された密度1.35ｇ／cm3、シ
ヨア硬度70、熱伝導率13kcal／ｍhr℃の特性を有
するフエノール系ガラス状カーボン材料集合体を
実施例１と同様の方法で処理して図示するような
モデル基板１を作製し、面Ｂを金属顕微鏡で観察
したところ、この表面には直径0.5μｍ未満の空孔
も見られたが、その他にも直径0.9〜1.1μｍの空
孔も見られた。 以下実施例と同様にモデル基板１と磁気記録
媒体の薄膜の保磁力を測定した。なお薄膜は実施
例と同一の方法で作られたものである。この結
果を第２表に示す。 比較例 アルミナ系セラミツクス（日本電気硝子(株)製、
商品名ネオセラム）を実施例と同様の方法で処
理して図示するようなモデル基板１を作製し、面
Ｂを走査型電子顕微鏡で観察したところ、この表
面には直径0.5μｍ以上の空孔も見られず、直径
0.01μｍ以下の空孔が見られるのみであつた。 以下実施例と同様にモデル基板１と磁気記録
媒体との摩擦性を測定した。この結果を第１表に
示す。 （試験結果） 第１表および第２表で明らかなように、本発明
の磁気ヘツド用基板は、磁気記録媒体との潤滑性
に優れ、かつヘツド摺動面および記録媒体を損傷
させず、さらに保磁力が小さく磁気特性にも優れ
ていることが判る。
【表】
【表】
【表】
上を超えることを意味する。
図は本発明実施例磁気ヘツドに用いられる材料
により形成されたモデル基板の外観斜視図。 １……モデル基板。
により形成されたモデル基板の外観斜視図。 １……モデル基板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 磁気記録媒体に対して書込みまたは読取りを
行う書込み・読取り変換器を構成する薄膜が一つ
の面に形成される磁気ヘツド用基体において、 上記薄膜が形成される面は極めて高い平滑性を
有し、 密度が1.40ｇ／cm3以上のガラス状カーボン材料
集合体で構成された ことを特徴とする磁気ヘツド用基体。 ２ 磁気記録媒体に対して書込みまたは読取りを
行う書込み・読取り変換器を構成する薄膜が一つ
の面に形成される磁気ヘツド用基体において、 上記薄膜が形成される面は極めて高い平滑性を
有し、 密度が1.40ｇ／cm3以上のガラス状カーボン材料
および熱硬化性樹脂を含む複合材料集合体で構成
された ことを特徴とする磁気ヘツド用基体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1929383A JPS59144019A (ja) | 1983-02-08 | 1983-02-08 | 磁気ヘッド用基体 |
| EP83110808A EP0108355B1 (en) | 1982-11-04 | 1983-10-28 | Magnetic head |
| DE8383110808T DE3375435D1 (en) | 1982-11-04 | 1983-10-28 | Magnetic head |
| US06/548,566 US4642720A (en) | 1982-11-04 | 1983-11-03 | Magnetic head comprised of an improved base substance for high density magnetic recording |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1929383A JPS59144019A (ja) | 1983-02-08 | 1983-02-08 | 磁気ヘッド用基体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59144019A JPS59144019A (ja) | 1984-08-17 |
| JPH0370849B2 true JPH0370849B2 (ja) | 1991-11-11 |
Family
ID=11995378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1929383A Granted JPS59144019A (ja) | 1982-11-04 | 1983-02-08 | 磁気ヘッド用基体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59144019A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60214407A (ja) * | 1984-04-10 | 1985-10-26 | Tokai Carbon Co Ltd | 磁気ヘツド基材 |
| JPH0725526B2 (ja) * | 1985-08-06 | 1995-03-22 | 花王株式会社 | ガラス状カ−ボン材料、その製造方法およびそれを用いた記録媒体の摺接部品 |
-
1983
- 1983-02-08 JP JP1929383A patent/JPS59144019A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59144019A (ja) | 1984-08-17 |
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