JPS6059533A - 磁気デイスク媒体製造装置の磁極配置方法 - Google Patents
磁気デイスク媒体製造装置の磁極配置方法Info
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- JPS6059533A JPS6059533A JP16859083A JP16859083A JPS6059533A JP S6059533 A JPS6059533 A JP S6059533A JP 16859083 A JP16859083 A JP 16859083A JP 16859083 A JP16859083 A JP 16859083A JP S6059533 A JPS6059533 A JP S6059533A
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- magnetic
- magnetic disk
- pole
- poles
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(a)発明の技術分野
本発明は磁気ディスク媒体の製造装置に係り、特に磁気
ディスク基盤に磁性塗料をスピンコード法によりコーテ
ング時又はコーテング直後、均一に薄い塗膜を得るため
に磁気ディスク基盤を高速回転する、所謂振り切り工程
に於いて、磁気ディスク基盤に与える磁界を形成する為
の磁気ディスク媒体製造装置の磁極配置方法に関する。
ディスク基盤に磁性塗料をスピンコード法によりコーテ
ング時又はコーテング直後、均一に薄い塗膜を得るため
に磁気ディスク基盤を高速回転する、所謂振り切り工程
に於いて、磁気ディスク基盤に与える磁界を形成する為
の磁気ディスク媒体製造装置の磁極配置方法に関する。
(b)従来技術と問題点
磁気ディスク装置は計算機システムの記憶装置として用
いられ、その磁気ディスク装置の記憶媒体は磁気ディス
クである。磁気ディスクは超仕上げされたアルミニウム
等の基盤に磁性粉を含む塗料がスピンコード法により塗
布され、磁界の中で前記基盤を回転して塗料を乾燥し表
面を研磨することで平滑にして完成されている。そして
磁性粉としでは、γ−Fe2O3が一般に用いられる。
いられ、その磁気ディスク装置の記憶媒体は磁気ディス
クである。磁気ディスクは超仕上げされたアルミニウム
等の基盤に磁性粉を含む塗料がスピンコード法により塗
布され、磁界の中で前記基盤を回転して塗料を乾燥し表
面を研磨することで平滑にして完成されている。そして
磁性粉としでは、γ−Fe2O3が一般に用いられる。
近年磁気ディスク媒体に対する情報の記録密度を向上さ
せることが強く要求されている。記録密度を向上させる
為には塗料の厚みを薄くする必要があるが、塗料の厚み
が薄くなる程磁性粉が極度に少ない部分やピンホール等
の欠陥が発生し易い傾向があり、塗料のコーテングを行
う際に磁界をかけながら行う、又はコーテング直後の振
り切り工程で磁界をかけながら行うことで均一な塗膜を
得ることが可能であることが知られている。しかし均一
な塗膜を得るためには前記磁界は磁気ディスク基盤に垂
直な方向で半径方向に均一な磁界分布であることが必要
である。例えば磁気ディスク基盤の半径方向に漏洩磁界
があると塗料がその漏洩磁界により偏って分布し、塗膜
の厚みにむらが発生する。
せることが強く要求されている。記録密度を向上させる
為には塗料の厚みを薄くする必要があるが、塗料の厚み
が薄くなる程磁性粉が極度に少ない部分やピンホール等
の欠陥が発生し易い傾向があり、塗料のコーテングを行
う際に磁界をかけながら行う、又はコーテング直後の振
り切り工程で磁界をかけながら行うことで均一な塗膜を
得ることが可能であることが知られている。しかし均一
な塗膜を得るためには前記磁界は磁気ディスク基盤に垂
直な方向で半径方向に均一な磁界分布であることが必要
である。例えば磁気ディスク基盤の半径方向に漏洩磁界
があると塗料がその漏洩磁界により偏って分布し、塗膜
の厚みにむらが発生する。
従来、上記磁気ディスク基盤に垂直な方向で半径方向に
均一な磁界分布を持つ磁界を簡易な方法で形成する磁気
ディスク媒体製造装置を得ることが困難であった。
均一な磁界分布を持つ磁界を簡易な方法で形成する磁気
ディスク媒体製造装置を得ることが困難であった。
(C)発明の目的
本発明の目的は」上記欠点を除く為、磁気ディスク基盤
に垂直な方向で半径方向に均一な磁界分布を持つ磁界を
簡易な方法で形成する磁気ディスク媒体製造装置の磁極
配置方法を提供することにある。
に垂直な方向で半径方向に均一な磁界分布を持つ磁界を
簡易な方法で形成する磁気ディスク媒体製造装置の磁極
配置方法を提供することにある。
(d)発明の構成
本発明の構成は磁気ディスク基盤に磁性粉を含む塗料を
スビンコ−1・法により塗布し、高速回転して均一な厚
みを持つ塗膜を形成する磁気ディスク媒体製造装置に於
いて、磁気ディスク基盤の塗膜形成時に磁気ディスク基
盤に接近して該磁気ディスク基盤の半径方向に該磁気デ
ィスク基盤の塗膜幅を覆う範囲以上の幅を持つ長方形の
磁極を設け、磁気ディスク基盤を挟んで前記磁極に対向
する位置及び/又は前記磁極と磁気ディスク基盤の同一
面上に於いて前記磁極に近接した位置の片方及び/又は
前記近接した位置の両方に他極を配置し、磁気ディスク
基盤の半径方向に平行で間隔の等しい空隙を構成するよ
うにしたものであり、」上記長方形の磁極に永久磁石を
用いる場合は該永久磁石の磁気ディスク基盤面に対向す
る面に高導磁率材による磁路を設け、該磁路を介して上
記他極と上記空隙を構成するようにしたものである。
スビンコ−1・法により塗布し、高速回転して均一な厚
みを持つ塗膜を形成する磁気ディスク媒体製造装置に於
いて、磁気ディスク基盤の塗膜形成時に磁気ディスク基
盤に接近して該磁気ディスク基盤の半径方向に該磁気デ
ィスク基盤の塗膜幅を覆う範囲以上の幅を持つ長方形の
磁極を設け、磁気ディスク基盤を挟んで前記磁極に対向
する位置及び/又は前記磁極と磁気ディスク基盤の同一
面上に於いて前記磁極に近接した位置の片方及び/又は
前記近接した位置の両方に他極を配置し、磁気ディスク
基盤の半径方向に平行で間隔の等しい空隙を構成するよ
うにしたものであり、」上記長方形の磁極に永久磁石を
用いる場合は該永久磁石の磁気ディスク基盤面に対向す
る面に高導磁率材による磁路を設け、該磁路を介して上
記他極と上記空隙を構成するようにしたものである。
(6)発明の実施例
以下本発明の実施例を図面によって説明する。
第1図は電磁石を用いた場合の磁気ディスク媒体製造装
置の磁極配置方法の一例を示す。同図fa)ば上部より
見た構成図で同図中)は同図(alのCで示す位置にお
ける断面図を示す。磁気ディスク基盤2は回転軸8に取
り付けられて回転する。磁性塗料が磁気ディスク基盤2
の内側にコーテングされ、該基盤2の表面を拡散する時
、又は振り切り工程で電磁石3を磁気ディスク基盤2に
接近させると共に他極1を同図011)に示す如く電磁
石3に接近させる。又は他極4を接近させる。又は対向
位置に他極5を接近させる。又は他極1と4を同時に接
近させる。又は他極1と4と5を同時に接近させる。又
は他極lと5か4と5を同時に接近させても良い。この
場合他極は高導磁率の純鉄、パーマロイ等を用い磁路6
及び7を形成することで構成しても、他の磁石を用いて
も良い。又他極の構造は同図(alに示す如く電磁石3
と磁気ディスク基盤2の半径方向で平行に空隙を形成す
るようにすることが必要である。このような磁極配置を
行うと磁気ディスク基盤2に対し垂直方向で且つ半径方
向に均一な磁界分布を持つ磁界を与えることが出来る。
置の磁極配置方法の一例を示す。同図fa)ば上部より
見た構成図で同図中)は同図(alのCで示す位置にお
ける断面図を示す。磁気ディスク基盤2は回転軸8に取
り付けられて回転する。磁性塗料が磁気ディスク基盤2
の内側にコーテングされ、該基盤2の表面を拡散する時
、又は振り切り工程で電磁石3を磁気ディスク基盤2に
接近させると共に他極1を同図011)に示す如く電磁
石3に接近させる。又は他極4を接近させる。又は対向
位置に他極5を接近させる。又は他極1と4を同時に接
近させる。又は他極1と4と5を同時に接近させる。又
は他極lと5か4と5を同時に接近させても良い。この
場合他極は高導磁率の純鉄、パーマロイ等を用い磁路6
及び7を形成することで構成しても、他の磁石を用いて
も良い。又他極の構造は同図(alに示す如く電磁石3
と磁気ディスク基盤2の半径方向で平行に空隙を形成す
るようにすることが必要である。このような磁極配置を
行うと磁気ディスク基盤2に対し垂直方向で且つ半径方
向に均一な磁界分布を持つ磁界を与えることが出来る。
そして塗膜の厚みを不均一とする半径方向の漏洩磁束は
略零になる。
略零になる。
第2図は永久磁石を用いた場合の磁気ディスク媒体製造
装置の磁極配置方法の一例を示す。第1図(b)との相
違点は電磁石3の代わりに永久磁石3″を用いたことと
該永久磁石3°の磁気ディスク基1fi2に対向する面
に高導磁率材で磁[?&9を作成したことである。磁路
9を設けることで永久磁石3”の磁気ディスク基盤2に
対向する面の全面から送出される磁力線は10.11で
示す磁路の角に集中し12で示す面からは殆ど送出され
ない為、漏洩磁束の発生を防止する効果がある。
装置の磁極配置方法の一例を示す。第1図(b)との相
違点は電磁石3の代わりに永久磁石3″を用いたことと
該永久磁石3°の磁気ディスク基1fi2に対向する面
に高導磁率材で磁[?&9を作成したことである。磁路
9を設けることで永久磁石3”の磁気ディスク基盤2に
対向する面の全面から送出される磁力線は10.11で
示す磁路の角に集中し12で示す面からは殆ど送出され
ない為、漏洩磁束の発生を防止する効果がある。
(f)発明の効果
以上説明した如く、本発明は磁気ディスク媒体を製造す
る際に磁性塗料の塗膜厚を薄く且つ均一に磁気ディスク
基盤上に形成する為に必要な磁気ディスク基盤に垂直で
半径方向に均一に分布し、漏洩磁束の無い磁界を形成す
ることが可能となるため、其の効果は大なるものがある
。
る際に磁性塗料の塗膜厚を薄く且つ均一に磁気ディスク
基盤上に形成する為に必要な磁気ディスク基盤に垂直で
半径方向に均一に分布し、漏洩磁束の無い磁界を形成す
ることが可能となるため、其の効果は大なるものがある
。
第1図は電磁石を用いた場合の磁気ディスク媒体製造装
置の磁極配置方法の一例を示す図、第2図は永久磁石を
用いた場合の磁気ディスク媒体製造装置の磁極配置方法
の一例を示す図である。 1、 4. 5は他極、2は磁気ディスク基盤、3は電
磁石、3′は永久磁石、6,7.9は磁路、8は回転軸
である。 零ブ 蔚 (b)3 1 し)J′3
置の磁極配置方法の一例を示す図、第2図は永久磁石を
用いた場合の磁気ディスク媒体製造装置の磁極配置方法
の一例を示す図である。 1、 4. 5は他極、2は磁気ディスク基盤、3は電
磁石、3′は永久磁石、6,7.9は磁路、8は回転軸
である。 零ブ 蔚 (b)3 1 し)J′3
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)磁気ディスク基盤に磁性粉を含む塗料をスピンコー
ド法により塗布し、高速回転して均一な厚みを持つ塗膜
を形成する磁気ディスク媒体製造装置に於いて、磁気デ
ィスク基盤の塗膜形成時に磁気ディスク基盤に接近して
該磁気ディスク基盤の半径方向に該磁気ディスク基盤の
塗膜幅を覆う範囲以上の幅を持つ長方形の磁極を設け、
磁気ディスク基盤を挟んで前記磁極に対向する位置及び
/又は前記磁極と磁気ディスク基盤の同一面上に於いて
前記磁極に近接した位置の片方及び/又は前記近接した
位置の両方に他極を配置し、磁気ディスク基盤の半径方
向に平行で間隔の等しい空隙を構成することを特徴とす
る磁気ディスク媒体型造装置の磁極配置方法。 2)上記長方形の磁極に永久磁石を用いる場合は該永久
磁石の磁気ディスク基盤面に対向する面に高導磁率材に
よる磁路を設け、該磁路を介して上記他極と上記空隙を
構成することを特徴とする磁気ディスク媒体製造装置の
磁極配置方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16859083A JPS6059533A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 磁気デイスク媒体製造装置の磁極配置方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16859083A JPS6059533A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 磁気デイスク媒体製造装置の磁極配置方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6059533A true JPS6059533A (ja) | 1985-04-05 |
| JPH0370855B2 JPH0370855B2 (ja) | 1991-11-11 |
Family
ID=15870871
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16859083A Granted JPS6059533A (ja) | 1983-09-13 | 1983-09-13 | 磁気デイスク媒体製造装置の磁極配置方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059533A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5160761A (en) * | 1989-12-29 | 1992-11-03 | Tdk Corporation | Method for making a magnetic disk |
| US5182693A (en) * | 1989-12-29 | 1993-01-26 | Tdk Corporation | Magnetic disk |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5584026A (en) * | 1978-12-20 | 1980-06-24 | Fujitsu Ltd | Orientation device for magnetic disk |
| JPS58130444A (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-03 | Hitachi Ltd | 磁気デイスクの磁場配向処理方法 |
-
1983
- 1983-09-13 JP JP16859083A patent/JPS6059533A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5584026A (en) * | 1978-12-20 | 1980-06-24 | Fujitsu Ltd | Orientation device for magnetic disk |
| JPS58130444A (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-03 | Hitachi Ltd | 磁気デイスクの磁場配向処理方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5160761A (en) * | 1989-12-29 | 1992-11-03 | Tdk Corporation | Method for making a magnetic disk |
| US5182693A (en) * | 1989-12-29 | 1993-01-26 | Tdk Corporation | Magnetic disk |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0370855B2 (ja) | 1991-11-11 |
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