JPH037127B2 - - Google Patents
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- JPH037127B2 JPH037127B2 JP59124950A JP12495084A JPH037127B2 JP H037127 B2 JPH037127 B2 JP H037127B2 JP 59124950 A JP59124950 A JP 59124950A JP 12495084 A JP12495084 A JP 12495084A JP H037127 B2 JPH037127 B2 JP H037127B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- layer
- metal layer
- plating
- pattern mask
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/04—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
- H01F41/041—Printed circuit coils
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacture Of Motors, Generators (AREA)
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は小型で、薄型で、かつ高い信頼性を有
するシートコイルの製造方法に関する。
するシートコイルの製造方法に関する。
従来、コイルを製造する方法としては、巻き線
方式が多用されてきた。しかしながら、この方法
で製造されるコイルについては導体の占有率が低
いため、小型化、薄型化することが困難であり、
かつ組立て精度に問題があるため、このコイルを
使用して製造されるモーターの回転精度を上げる
には限界があつた。
方式が多用されてきた。しかしながら、この方法
で製造されるコイルについては導体の占有率が低
いため、小型化、薄型化することが困難であり、
かつ組立て精度に問題があるため、このコイルを
使用して製造されるモーターの回転精度を上げる
には限界があつた。
また、銅箔を原料として、フォトエツチング法
によりシートコイルを製造する方法も知られてい
るが、この方法によれば、一般的にコイルの導体
間の間隔は、コイルの導体厚の２倍以上となり、
導体の占有率が高い精密コイルを製造するにはや
はり限界があつた。
によりシートコイルを製造する方法も知られてい
るが、この方法によれば、一般的にコイルの導体
間の間隔は、コイルの導体厚の２倍以上となり、
導体の占有率が高い精密コイルを製造するにはや
はり限界があつた。
更にフオトエツチング法を利用した別の方法と
しては、エツチングを行ない次に感光レジストを
剥離し、金属メツキを析出する方法があるがこの
方法では金属のの析出は導体ギヤツプを狭めると
同時に導体厚を厚くしてしまい。積層後シートコ
イルとしての駆動力が低下する一方、析出厚が平
滑でない為、表面滅凹凸が増加し積層後上下シー
ト間のリークの問題が多発するという問題があつ
た。
しては、エツチングを行ない次に感光レジストを
剥離し、金属メツキを析出する方法があるがこの
方法では金属のの析出は導体ギヤツプを狭めると
同時に導体厚を厚くしてしまい。積層後シートコ
イルとしての駆動力が低下する一方、析出厚が平
滑でない為、表面滅凹凸が増加し積層後上下シー
ト間のリークの問題が多発するという問題があつ
た。
更に、フオトエツチング法を応用したフオトエ
レクトロフオーミング法によりシートコイルを製
造する方法も知られている。このフオトエレクト
ロフオーミング法によるシートコイルの製造に於
いては、絶縁性基材上に金属層を積層したベース
材料を使用し、その上に渦巻き状の凹部を有する
感光性樹脂パターンマスクを形成し、この凹部内
にメツキにより金属メツキ層を析出させ、次いで
感光性樹脂パターンマスクを除去し、感光性樹脂
パターンで覆われていた部分の絶縁性基材上の金
属層をエツチング除去することによりシートコイ
ルを製造するのが一般的であつた。しかしなが
ら、この方法によれば、エツチング除去すべき金
属層とシートコイルの導体の主体となる金属メツ
キ層とが同じ材質であるため、このエツチング工
程で金属層のみならず金属メツキ層もほぼ均等に
エツチング除去されることから、導体厚、導体幅
の精度を維持することは難かしく、精度シートコ
イルを製造するには、やはり限界があつた。
レクトロフオーミング法によりシートコイルを製
造する方法も知られている。このフオトエレクト
ロフオーミング法によるシートコイルの製造に於
いては、絶縁性基材上に金属層を積層したベース
材料を使用し、その上に渦巻き状の凹部を有する
感光性樹脂パターンマスクを形成し、この凹部内
にメツキにより金属メツキ層を析出させ、次いで
感光性樹脂パターンマスクを除去し、感光性樹脂
パターンで覆われていた部分の絶縁性基材上の金
属層をエツチング除去することによりシートコイ
ルを製造するのが一般的であつた。しかしなが
ら、この方法によれば、エツチング除去すべき金
属層とシートコイルの導体の主体となる金属メツ
キ層とが同じ材質であるため、このエツチング工
程で金属層のみならず金属メツキ層もほぼ均等に
エツチング除去されることから、導体厚、導体幅
の精度を維持することは難かしく、精度シートコ
イルを製造するには、やはり限界があつた。
また、感光性材料からなるレジストパターンマ
スクを用いる方法に於いては、従来、金属層の表
面上に感光性材料を塗布またはラミネートする前
の処理として、感光性材料層と金属層との密着性
を確保するために、感光性材料層が積層される金
属層表面の整面、化学的エツチング処理等による
粗面化が行なわれていた。
スクを用いる方法に於いては、従来、金属層の表
面上に感光性材料を塗布またはラミネートする前
の処理として、感光性材料層と金属層との密着性
を確保するために、感光性材料層が積層される金
属層表面の整面、化学的エツチング処理等による
粗面化が行なわれていた。
ところが、感光性材料層と金属層表面との密着
性は、このような粗面化によつて充分には改善さ
れず、例えばパターン露光後の現像時に、あるい
はエツチング若しくは電鋳等の工程に於いて、感
光性材料層が金属層表面から剥離してしまうとい
う問題は残されていた。
性は、このような粗面化によつて充分には改善さ
れず、例えばパターン露光後の現像時に、あるい
はエツチング若しくは電鋳等の工程に於いて、感
光性材料層が金属層表面から剥離してしまうとい
う問題は残されていた。
而して本発明は、上述したようなパターンマス
クとしての感光性材料層と金属層表面との剥離を
起さない程度に充分な感光性材料層と金属層表面
との密着性が確保され、しかも導体幅の精度を高
めると共に、導体間隔を狭めて導体占有率を高
く、導体厚制度が良好なシートコイルの製造方法
を提供することを目的とする。
クとしての感光性材料層と金属層表面との剥離を
起さない程度に充分な感光性材料層と金属層表面
との密着性が確保され、しかも導体幅の精度を高
めると共に、導体間隔を狭めて導体占有率を高
く、導体厚制度が良好なシートコイルの製造方法
を提供することを目的とする。
本発明によるシートコイルの製造方法は、絶縁
性基板上に金属層を積層してなるベース材上に感
光性材料を用いてパターンマスクを形成後、前記
パータンマスクで被覆されていない金属層をエツ
チング除去して形成されるシートコイルの製造方
法において、前記金属層と前記パターンマスクと
の間に着色被膜層を設けることにより前記金属層
表面と前記パターンマスクとの間の密着性を高
め、前記エツチング後に前記パターンマスクを残
した状態で金属メツキ処理を施して前記金属層の
エツチング幅を狭めることを特徴とするものであ
る。
性基板上に金属層を積層してなるベース材上に感
光性材料を用いてパターンマスクを形成後、前記
パータンマスクで被覆されていない金属層をエツ
チング除去して形成されるシートコイルの製造方
法において、前記金属層と前記パターンマスクと
の間に着色被膜層を設けることにより前記金属層
表面と前記パターンマスクとの間の密着性を高
め、前記エツチング後に前記パターンマスクを残
した状態で金属メツキ処理を施して前記金属層の
エツチング幅を狭めることを特徴とするものであ
る。
本発明によるシートコイルの製造方法の基本的
な製造工程は第１図〜第３図に示される。
な製造工程は第１図〜第３図に示される。
第１図は、パターンの形成工程を示すものであ
り、絶縁基材１上に銅箔などの金属層２および着
色被膜層３が形成されているベース材上に感光性
材料を用いて、渦巻き状などの所定のパターンマ
スク４を形成した状態の断面を示している。第２
図は、パターンマスクで被覆されていない部分の
金属層２および着色被膜層３をエツチング除去す
る工程を示すものであり、金属層がサイドエツチ
ングされている状態の断面を示す。第３図は金属
メツキ処理によりサイドエツチングされた部分に
金属を析出させて補修金属部５を形成させる工程
を示している。このようにして、サイドエツチン
グにより溶解されたパターンマスクの下部の金属
層を補修析出する事により導体間隙め導体占有率
の高くかつ導体厚が精度良く維持されたシートコ
イルが製造できるものである。
り、絶縁基材１上に銅箔などの金属層２および着
色被膜層３が形成されているベース材上に感光性
材料を用いて、渦巻き状などの所定のパターンマ
スク４を形成した状態の断面を示している。第２
図は、パターンマスクで被覆されていない部分の
金属層２および着色被膜層３をエツチング除去す
る工程を示すものであり、金属層がサイドエツチ
ングされている状態の断面を示す。第３図は金属
メツキ処理によりサイドエツチングされた部分に
金属を析出させて補修金属部５を形成させる工程
を示している。このようにして、サイドエツチン
グにより溶解されたパターンマスクの下部の金属
層を補修析出する事により導体間隙め導体占有率
の高くかつ導体厚が精度良く維持されたシートコ
イルが製造できるものである。
本発明のシートコイルを構成する絶縁性基材と
しては、例えばアクリル系、ポリアミド系、ポア
エステル系等の熱可塑性樹脂又はフエノール系エ
ポキシ系、ポリイミド系等の熱硬化性樹脂からな
るフイルム若しくは板を挙げる事ができ、できる
だけ絶縁性の優れたものである事が好ましい。ま
た絶縁性基材の厚さはできるだけ薄いものである
ことが好ましく２〜100μｍ程度のものが望まし
い。
しては、例えばアクリル系、ポリアミド系、ポア
エステル系等の熱可塑性樹脂又はフエノール系エ
ポキシ系、ポリイミド系等の熱硬化性樹脂からな
るフイルム若しくは板を挙げる事ができ、できる
だけ絶縁性の優れたものである事が好ましい。ま
た絶縁性基材の厚さはできるだけ薄いものである
ことが好ましく２〜100μｍ程度のものが望まし
い。
本発明のシートコイルの製造方法に於いては上
記絶縁性基材はその上に金属層を積層し、ベース
材料としてシートコイルの製造に供される。この
金属層の厚さは要求されるシートコイルの特性に
より決まるものであるが、一般には5μ以上が好
適である。メツキ、蒸着ラミネート等により形成
される金属層の表面に着色被膜層が設けられる。
記絶縁性基材はその上に金属層を積層し、ベース
材料としてシートコイルの製造に供される。この
金属層の厚さは要求されるシートコイルの特性に
より決まるものであるが、一般には5μ以上が好
適である。メツキ、蒸着ラミネート等により形成
される金属層の表面に着色被膜層が設けられる。
この着色被膜層を金属層表面に設けることによ
つて、この着色被膜層の下層に位置する金属層表
面と、更に該着色被膜層上に積層される感光性材
料層との密着性を、該着色被膜層を介することに
よつて高め、かつパターン露光時に於ける光の金
属層表面での乱反射を押え、パターン露光に於け
る解像度を高めることができる。
つて、この着色被膜層の下層に位置する金属層表
面と、更に該着色被膜層上に積層される感光性材
料層との密着性を、該着色被膜層を介することに
よつて高め、かつパターン露光時に於ける光の金
属層表面での乱反射を押え、パターン露光に於け
る解像度を高めることができる。
この着色被膜層は、被膜層形成後に感光性材料
層との良好な密着性を与えるのに好適な微小な凹
凸をその表面に有し、更に該層の表面は、パター
ン露光時に於ける光の乱反射を押える効果のある
黒色若しくは黒により近い色を呈していることが
好ましい。
層との良好な密着性を与えるのに好適な微小な凹
凸をその表面に有し、更に該層の表面は、パター
ン露光時に於ける光の乱反射を押える効果のある
黒色若しくは黒により近い色を呈していることが
好ましい。
このような着色被膜層としては、ブラツクニツ
ケルメツキ若しくはブラツククロームメツキ等の
黒色電着被膜層または前記金属材の酸化物、水酸
化物若しくは硫化物等、からなる着色変成被膜層
を挙げることができる。
ケルメツキ若しくはブラツククロームメツキ等の
黒色電着被膜層または前記金属材の酸化物、水酸
化物若しくは硫化物等、からなる着色変成被膜層
を挙げることができる。
ブラツクニツケルメツキ若しくはブラツククロ
ームメツキ等の黒色電着被膜層はブラツクニツケ
ル、ブラツククローム等を金属層表面上に電着法
等により積層して形成することができる。
ームメツキ等の黒色電着被膜層はブラツクニツケ
ル、ブラツククローム等を金属層表面上に電着法
等により積層して形成することができる。
また金属層表面を形成している金属の酸化物若
しくは硫化物等からなる着色変成被膜層は、金属
層表面を、酸化剤あるいは硫化物を含む水溶液と
接触させる、あるいは100℃以上の高温で酸素を
含む気体と接触させる等の方法により形成するこ
とができる。例えば、硫酸銅＋塩素酸カリウム混
液、塩化銅＋酢酸銅＋ミヨウバン混液等に銅メツ
キ層が形成されたベース材料を浸漬することによ
つて銅の酸化物層を形成できる。銅の硫化物層を
形成する方法としては、流化カリウム＋塩化アン
モニウム混液、次亜硫酸ソーダ＋酢酸鉛混液等に
浸漬する方法が挙げられる。銅の水酸化物層を形
成する方法としては、硝酸銅＋塩化アンモニウム
＋酢酸混液等に浸液する方法が挙げられる。また
酸化物層の１つである銅の亜酸化物層を形成する
方法としては、硫酸銅＋塩化ナトリウム混液、硫
酸銅＋塩化アンモニウム混液等に浸漬する方法が
挙げられる。
しくは硫化物等からなる着色変成被膜層は、金属
層表面を、酸化剤あるいは硫化物を含む水溶液と
接触させる、あるいは100℃以上の高温で酸素を
含む気体と接触させる等の方法により形成するこ
とができる。例えば、硫酸銅＋塩素酸カリウム混
液、塩化銅＋酢酸銅＋ミヨウバン混液等に銅メツ
キ層が形成されたベース材料を浸漬することによ
つて銅の酸化物層を形成できる。銅の硫化物層を
形成する方法としては、流化カリウム＋塩化アン
モニウム混液、次亜硫酸ソーダ＋酢酸鉛混液等に
浸漬する方法が挙げられる。銅の水酸化物層を形
成する方法としては、硝酸銅＋塩化アンモニウム
＋酢酸混液等に浸液する方法が挙げられる。また
酸化物層の１つである銅の亜酸化物層を形成する
方法としては、硫酸銅＋塩化ナトリウム混液、硫
酸銅＋塩化アンモニウム混液等に浸漬する方法が
挙げられる。
着色被膜層が形成されたベース材料上にシート
コイルとして例えば渦巻き導体を形成するには感
光性樹脂の未露光皮膜を基板上に積層する、感光
性樹脂皮膜としては液体レジストドライフイルム
どちらでも使用できるが、次工程のエツチング、
銅メツキ時に薄いとパターンマスクに割れ又はク
ラツクが生じ、パターンマスクを乗り越えて銅が
析出してしまいシートコイル多層積層時にシヨー
ト、平面性低下等の不都合が生ずる為皮膜厚さは
2.5μ以上が望ましい。
コイルとして例えば渦巻き導体を形成するには感
光性樹脂の未露光皮膜を基板上に積層する、感光
性樹脂皮膜としては液体レジストドライフイルム
どちらでも使用できるが、次工程のエツチング、
銅メツキ時に薄いとパターンマスクに割れ又はク
ラツクが生じ、パターンマスクを乗り越えて銅が
析出してしまいシートコイル多層積層時にシヨー
ト、平面性低下等の不都合が生ずる為皮膜厚さは
2.5μ以上が望ましい。
使用する感光性材料はドライフイルムではデユ
ポン社製のT1010（25μ厚）旭化成社製のDFR25
（25μ厚）、液体レジストでは東京応化社製の
OMR−83、コダツク社製の747（いずれも商品
名）等を挙げる事が出来る。次に感光製樹脂皮膜
に対してマスクを介在し、露光し、所定の液にて
現像する。その後金属層をエツチングするが、エ
ツチング方法はスプレー方式がパターン精度を向
上するには望ましくエツチング液は市販の塩化第
二鉄液又はアンモニアアルカリエツノヤント、塩
化第２銅液等を用いることが出来る。
ポン社製のT1010（25μ厚）旭化成社製のDFR25
（25μ厚）、液体レジストでは東京応化社製の
OMR−83、コダツク社製の747（いずれも商品
名）等を挙げる事が出来る。次に感光製樹脂皮膜
に対してマスクを介在し、露光し、所定の液にて
現像する。その後金属層をエツチングするが、エ
ツチング方法はスプレー方式がパターン精度を向
上するには望ましくエツチング液は市販の塩化第
二鉄液又はアンモニアアルカリエツノヤント、塩
化第２銅液等を用いることが出来る。
その後上記の感光性材料からなるパターンを残
したままで基材をメツキ法を用いて、サイドエツ
チングにより溶解除去された金属を、必要厚さ迄
析出補修する。この際析出金属の最大厚さは、サ
イドエツチングにより溶解された厚さ迄が望まし
い。もつとも、析出金属表面の平滑さを損なわな
い程度であれば、ギヤツプが接触する直前まで可
能である。しかし、感光性材料よりはみ出して盛
り上つて析出を初めた場合、シートコイル層を多
層に積層して使用するとき層間のシヨート等の問
題を生ずる原因になる場合もある。金属メツキ液
としては、硫酸銅、ピロリン酸銅、シアン化銅等
が使用できる。金属メツキは、メツキ浴に浸漬し
て行つてもよいが、メツキ液を噴流させて行なう
のが、金属の析出速度の点で有効である。噴流状
態を得るには、ポンプ、モーター撹拌、エヤー超
音波等が使用されるが、噴流状態が強力である程
析出を高速で行なう事が出来、経済性の点からい
つて望ましい。
したままで基材をメツキ法を用いて、サイドエツ
チングにより溶解除去された金属を、必要厚さ迄
析出補修する。この際析出金属の最大厚さは、サ
イドエツチングにより溶解された厚さ迄が望まし
い。もつとも、析出金属表面の平滑さを損なわな
い程度であれば、ギヤツプが接触する直前まで可
能である。しかし、感光性材料よりはみ出して盛
り上つて析出を初めた場合、シートコイル層を多
層に積層して使用するとき層間のシヨート等の問
題を生ずる原因になる場合もある。金属メツキ液
としては、硫酸銅、ピロリン酸銅、シアン化銅等
が使用できる。金属メツキは、メツキ浴に浸漬し
て行つてもよいが、メツキ液を噴流させて行なう
のが、金属の析出速度の点で有効である。噴流状
態を得るには、ポンプ、モーター撹拌、エヤー超
音波等が使用されるが、噴流状態が強力である程
析出を高速で行なう事が出来、経済性の点からい
つて望ましい。
以上本発明のシートコイル製造方法により簡便
な手段により従来技術に比して渦巻き状導体の導
体厚、導体幅の精度を精密に維持した高い信頼性
を有するシートコイルを製造する事が可能であ
る。
な手段により従来技術に比して渦巻き状導体の導
体厚、導体幅の精度を精密に維持した高い信頼性
を有するシートコイルを製造する事が可能であ
る。
また、金属層および金属メツキの金属として
は、銅、アルミ、ニツケル、銀、金など、任意の
金属を用いることができる。
は、銅、アルミ、ニツケル、銀、金など、任意の
金属を用いることができる。
以下本発明を実施例に従つてより具体的に説明
する。
する。
実施例 １
厚さ20μの接着剤付きポリエステルフイルム上
に70μの銅箔を加熱圧着により接着してベース材
料となし、ブラツククロームメツキ液（商品名：
ネロスタープロセス、荏原ユージーライト社製）
にて20A／ｄm2、５分間電着させ1μのブラツクク
ローム皮膜を得た。次に東京応化社製のネガ形液
体レジスト（商品名：OMR−83）粘度450CPを
スピンナーを用いて5μの感光製材料層を形成し、
次いで渦巻き状で透明部500μ、不透明部30μのパ
ターンを有するマスクを用いて露光し、現像する
（東京応化社製、商品名：OMRの現像液）。次い
で50°〜60℃50％塩酸溶液にて１分浸漬し、露出
したブラツククローム皮膜を除去する。以上によ
り銅露出部30μ、パターンマスク被覆部500μのパ
ターンマスクと忠実なパターンが作成された。次
にスプレー方式により銅エツチング液（商品名：
アルフアイン、上村工業社製）を用いてエツチン
グを行いサイドエツチング現像の為のパターンマ
スク下100μの銅が均一に溶解した。次にポンプ
で強制噴流をしている銅メツキ液（奥野製薬工業
社製、商品名：ルチナ81）で20A／ｄm2で５分メ
ツキを行ないパターンマスク下片側90μの銅を析
出させ70μの銅厚50μギヤツプのシヤープなシー
トコイルを形成することができた。なお、本実施
例でブラツククローム被膜を形成しないで同様に
シートコイルを製造した場合には、銅エツチング
処理によつて、パターンマスク下の銅のサイドエ
ツチング量は100〜120μで場所により異つてい
た。
に70μの銅箔を加熱圧着により接着してベース材
料となし、ブラツククロームメツキ液（商品名：
ネロスタープロセス、荏原ユージーライト社製）
にて20A／ｄm2、５分間電着させ1μのブラツクク
ローム皮膜を得た。次に東京応化社製のネガ形液
体レジスト（商品名：OMR−83）粘度450CPを
スピンナーを用いて5μの感光製材料層を形成し、
次いで渦巻き状で透明部500μ、不透明部30μのパ
ターンを有するマスクを用いて露光し、現像する
（東京応化社製、商品名：OMRの現像液）。次い
で50°〜60℃50％塩酸溶液にて１分浸漬し、露出
したブラツククローム皮膜を除去する。以上によ
り銅露出部30μ、パターンマスク被覆部500μのパ
ターンマスクと忠実なパターンが作成された。次
にスプレー方式により銅エツチング液（商品名：
アルフアイン、上村工業社製）を用いてエツチン
グを行いサイドエツチング現像の為のパターンマ
スク下100μの銅が均一に溶解した。次にポンプ
で強制噴流をしている銅メツキ液（奥野製薬工業
社製、商品名：ルチナ81）で20A／ｄm2で５分メ
ツキを行ないパターンマスク下片側90μの銅を析
出させ70μの銅厚50μギヤツプのシヤープなシー
トコイルを形成することができた。なお、本実施
例でブラツククローム被膜を形成しないで同様に
シートコイルを製造した場合には、銅エツチング
処理によつて、パターンマスク下の銅のサイドエ
ツチング量は100〜120μで場所により異つてい
た。
実施例 ２
厚さ10μｍの接着剤付きポリアミドフイルム上
に厚さ140μの銅箔を加熱圧着により接着してベ
ース材料となし、次いで100〜110℃エボノールＣ
スペシヤル（商品名、ジヤパンメタルフイニツシ
ユ社製）液５分間浸漬させ銅表面に黒色酸化物層
を形成した。次いでデユポン社製のドライフイル
ムT1010をラミネーターにより感光性材料層を形
成し、次いで渦巻き状で透明部400μ、不透明部
60μのパターンを有するマスクを用いて露光し、
その後１：１トリクレン液にて現像し、黒色皮膜
露出部6μ、パターンマスク被覆部400μのマスク
に忠実なパターンマスクが作成された。次に塩化
鉄エツチング液により黒色皮膜部次いで銅層をエ
ツチングし、サイドエツチング現像の為パターン
マスク下150の均一な線の仕上りで銅が溶解した。
次に超音波で強制対流している銅メツキ液（上村
工業社製、商品名：スルカツプAC）で10A／ｄ
m2で20分メツキを行ないパターンマスク0μの銅
を析出させ150μの銅厚で100μギヤツプのシヤー
プシートコイルを形成することができた。
に厚さ140μの銅箔を加熱圧着により接着してベ
ース材料となし、次いで100〜110℃エボノールＣ
スペシヤル（商品名、ジヤパンメタルフイニツシ
ユ社製）液５分間浸漬させ銅表面に黒色酸化物層
を形成した。次いでデユポン社製のドライフイル
ムT1010をラミネーターにより感光性材料層を形
成し、次いで渦巻き状で透明部400μ、不透明部
60μのパターンを有するマスクを用いて露光し、
その後１：１トリクレン液にて現像し、黒色皮膜
露出部6μ、パターンマスク被覆部400μのマスク
に忠実なパターンマスクが作成された。次に塩化
鉄エツチング液により黒色皮膜部次いで銅層をエ
ツチングし、サイドエツチング現像の為パターン
マスク下150の均一な線の仕上りで銅が溶解した。
次に超音波で強制対流している銅メツキ液（上村
工業社製、商品名：スルカツプAC）で10A／ｄ
m2で20分メツキを行ないパターンマスク0μの銅
を析出させ150μの銅厚で100μギヤツプのシヤー
プシートコイルを形成することができた。
第１図はベース材料上に感光性材料からなるパ
ターンマスクを形成させたものの断面図である。
第２図はエツチングにより金属層がサイドエツチ
ングされた状態の断面図である。第３図は金属メ
ツキによりサイドエツチング部分が補修された状
態の断面図である。 １……絶縁基材、２……金属層、３……着色被
膜層、４……パターンマスク、５……補修金属
部。
ターンマスクを形成させたものの断面図である。
第２図はエツチングにより金属層がサイドエツチ
ングされた状態の断面図である。第３図は金属メ
ツキによりサイドエツチング部分が補修された状
態の断面図である。 １……絶縁基材、２……金属層、３……着色被
膜層、４……パターンマスク、５……補修金属
部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 絶縁性基板上に金属層を積層してなるベース
材上に感光性材料を用いてパターンマスクを形成
後、前記パータンマスクで被覆されていない金属
層をエツチング除去して形成されるシートコイル
の製造方法において、前記金属層と前記パターン
マスクとの間に着色被膜層を設けることにより前
記金属層表面と前記パターンマスクとの間の密着
性を高め、前記エツチング後に前記パターンマス
クを残した状態で金属メツキ処理を施して前記金
属層のエツチング幅を狭めることを特徴とするシ
ートコイルの製造方法。 ２ 前記金属メツキ処理をメツキ液を噴流させて
行う特許請求の範囲第１項記載のシートコイルの
製造方法。 ３ 前記着色被膜層がブラツクニツケルメツキ若
しくはブラツククロームメツキ等の黒色電着被膜
層また前記金属層表面を形成している金属の酸化
物、水酸化物若しくは硫化物等からなる着色変成
被膜層である特許請求の範囲第１項記載のシート
コイルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59124950A JPS614212A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | シ−トコイルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59124950A JPS614212A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | シ−トコイルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS614212A JPS614212A (ja) | 1986-01-10 |
| JPH037127B2 true JPH037127B2 (ja) | 1991-01-31 |
Family
ID=14898219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59124950A Granted JPS614212A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | シ−トコイルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS614212A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6392005A (ja) * | 1986-10-06 | 1988-04-22 | Canon Inc | 微細パタ−ンコイル |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58137908A (ja) * | 1982-02-09 | 1983-08-16 | 富士通株式会社 | 透明電極の形成方法 |
-
1984
- 1984-06-18 JP JP59124950A patent/JPS614212A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS614212A (ja) | 1986-01-10 |
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