JPH0372481A - ナフタロシアニン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
ナフタロシアニン誘導体及びその製造方法Info
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- JPH0372481A JPH0372481A JP1205594A JP20559489A JPH0372481A JP H0372481 A JPH0372481 A JP H0372481A JP 1205594 A JP1205594 A JP 1205594A JP 20559489 A JP20559489 A JP 20559489A JP H0372481 A JPH0372481 A JP H0372481A
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発門は、新規なナフタロシアニン誘導体およびその製
造方法に関する。更に詳細に述べると、本発用は、近赤
外領域(750〜850 nm)に吸収をUするナフタ
ロシアニン誘導体およびその製造方法に閣する。
造方法に関する。更に詳細に述べると、本発用は、近赤
外領域(750〜850 nm)に吸収をUするナフタ
ロシアニン誘導体およびその製造方法に閣する。
(従来の技術)
近年、コンピュータ外部メモリー、画像、音声等の各挿
情報の記録に関して、記録の保存ならびに再生を可能と
する半導体レーザー光を用いる光学記録法が注目されて
いる。
情報の記録に関して、記録の保存ならびに再生を可能と
する半導体レーザー光を用いる光学記録法が注目されて
いる。
このような光学記録法における記録の一例としては、照
I・Iされたレーザーエネルギーの吸収により、その個
所に生じた記録層(記録媒体)の分解、蒸発、溶解等の
貼的変形により行なわれ、さ応にその記録された情報の
再生は、レーザー光によって、変形が起きている部分と
起きていない部分の反射率の差を読み取ることにより行
なわれる。従って、半導体レーザー光を用いる光学記録
において用いられる記録媒体には、近赤外線、特に半導
体レザー光を効率よく吸収する性能が要求される。
I・Iされたレーザーエネルギーの吸収により、その個
所に生じた記録層(記録媒体)の分解、蒸発、溶解等の
貼的変形により行なわれ、さ応にその記録された情報の
再生は、レーザー光によって、変形が起きている部分と
起きていない部分の反射率の差を読み取ることにより行
なわれる。従って、半導体レーザー光を用いる光学記録
において用いられる記録媒体には、近赤外線、特に半導
体レザー光を効率よく吸収する性能が要求される。
従来、このような記録媒体としては、テルルやその合金
等の無機化合物が知られているが、これらの化合物の問
題点は毒性があることであった。
等の無機化合物が知られているが、これらの化合物の問
題点は毒性があることであった。
その他に、シアニン系化合物、スクアリウム系化合物、
ナフトキノン系化合物などのh°機色素や、ジチオール
金属錯体、オキシム金属錯体などの6機化合物等の近赤
外吸収色素が提案されているが、これらの化合物は、一
般に、光や島に対する安定性に乏しく、さらにレーザー
光に対する反射率が低いために情報の読みだしが困難で
あるといった欠点を有していた。
ナフトキノン系化合物などのh°機色素や、ジチオール
金属錯体、オキシム金属錯体などの6機化合物等の近赤
外吸収色素が提案されているが、これらの化合物は、一
般に、光や島に対する安定性に乏しく、さらにレーザー
光に対する反射率が低いために情報の読みだしが困難で
あるといった欠点を有していた。
最近、記録媒体として、ナフタロシアニン化合物を用い
ることが提案されている(例えば、米国特許第4,72
5,525号、特開昭61−215.663−号および
向62−90,291号)。
ることが提案されている(例えば、米国特許第4,72
5,525号、特開昭61−215.663−号および
向62−90,291号)。
ナフタロシアニン化合物は、光や熱に対して安定である
ことのみならず、耐薬品性にも優れており、また、近称
外線吸収能が大きく、かつ近赤外線反射性能も良好であ
り、光記録媒体としての優れた性能をGしている。
ことのみならず、耐薬品性にも優れており、また、近称
外線吸収能が大きく、かつ近赤外線反射性能も良好であ
り、光記録媒体としての優れた性能をGしている。
一方、光記録媒体は、一般に、ディスクあるいはテープ
様式の基板面に薄層として形成されてなるものである。
様式の基板面に薄層として形成されてなるものである。
かかる薄層の形成は、基板の材質、形状の他、光記録媒
体の物性の制限下に、塗布法や真空蒸発法、スパッタリ
ング法、イオンブレーティング法、スピンコード法等に
よって行なわれている。従って、光記録媒体として使用
するためには、光記録媒体としての特性の他に簡単に薄
層を形成する材料であることも要求される。
体の物性の制限下に、塗布法や真空蒸発法、スパッタリ
ング法、イオンブレーティング法、スピンコード法等に
よって行なわれている。従って、光記録媒体として使用
するためには、光記録媒体としての特性の他に簡単に薄
層を形成する材料であることも要求される。
(発明が解決しようとする課題)
前記の如く光記録媒体の薄層形成においては、主として
経済的観点から、特に生産性の高いスピンコード法と称
される塗布法が利用されている。
経済的観点から、特に生産性の高いスピンコード法と称
される塗布法が利用されている。
これらの塗布方法に使用するためには、光記録媒体とな
る化合物が特定の溶剤に対する溶解性が高いことが要求
される。
る化合物が特定の溶剤に対する溶解性が高いことが要求
される。
しかしながら、ナフタロシアニン化合物は耐楽品性に優
れているが逆に溶解性が低く、そのままでは串布方法に
適用できないという欠点があった。
れているが逆に溶解性が低く、そのままでは串布方法に
適用できないという欠点があった。
このため、かかる欠点を排除して、基板に均一な薄層を
形成できる溶解性のあるナフタロシアニン化合物の出現
が望まれていた。
形成できる溶解性のあるナフタロシアニン化合物の出現
が望まれていた。
槌って、本発明の目的は、特定の溶剤に対して溶解性の
高い新規なナフタロシアニン誘導体およびその装填方法
を提供することにある。
高い新規なナフタロシアニン誘導体およびその装填方法
を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、光記録媒体としてfi用な
新規なナフタロシアニン誘導体および該誘導体を簡便か
つ経済的に一6利に製造する方法を提供することにある
。
新規なナフタロシアニン誘導体および該誘導体を簡便か
つ経済的に一6利に製造する方法を提供することにある
。
(課題を解決するための手段)
前記諸U的は、
(ただし、式中Mは、5i、SnおよびGeから選ばれ
た一種の元素を示し、Xは))ロゲン、アルキル基、ア
リール基、アシル基、アミノ基、置摸アミノ基、ニトロ
基、アルコキシ基、スルホン酸基、スルホニルアミド基
およびヒドロキシ基から選ばれた、同一でも異種でもよ
い一種または二押以上の基を示し、pはO〜2の整数を
示し、qは0〜4の整数を示し、Y、およびY2は下記
一般式■ 一ズO3iナー−R3(II ) (ただし、式中、nは3〜10の整数を示し、R1、R
2、R3は、同一でも異種でもよい炭素数1〜12のア
ルキル基、アルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基
、炭素数4〜10のシクロアルキル基、ハロゲン、ヒド
ロキン基を示す。)で表される基を示す。)で表わされ
るナフタロシアニン誘導体によって達成される。
た一種の元素を示し、Xは))ロゲン、アルキル基、ア
リール基、アシル基、アミノ基、置摸アミノ基、ニトロ
基、アルコキシ基、スルホン酸基、スルホニルアミド基
およびヒドロキシ基から選ばれた、同一でも異種でもよ
い一種または二押以上の基を示し、pはO〜2の整数を
示し、qは0〜4の整数を示し、Y、およびY2は下記
一般式■ 一ズO3iナー−R3(II ) (ただし、式中、nは3〜10の整数を示し、R1、R
2、R3は、同一でも異種でもよい炭素数1〜12のア
ルキル基、アルコキシ基、炭素数6〜12のアリール基
、炭素数4〜10のシクロアルキル基、ハロゲン、ヒド
ロキン基を示す。)で表される基を示す。)で表わされ
るナフタロシアニン誘導体によって達成される。
また、前記諸口的は、
(ただし、式中、M、X、Pおよびqは前記とIC11
じものを示す。)で表わされるジヒドロキシ金層ナフタ
ロシアニン化合物と一般弐■ X世O3iフー−R:l (mV)
■ (ただし、式中、Xはハロゲンを示し、nSR+。
じものを示す。)で表わされるジヒドロキシ金層ナフタ
ロシアニン化合物と一般弐■ X世O3iフー−R:l (mV)
■ (ただし、式中、Xはハロゲンを示し、nSR+。
R2およびR3は前記と同じものを示す。)で表される
ハロゲン化シロキサン化合物とを溶媒のH扛下で反応さ
せることを特徴とする一般式Iで表されるナフタロシア
ニン誘導体の製造方法によって達成される。
ハロゲン化シロキサン化合物とを溶媒のH扛下で反応さ
せることを特徴とする一般式Iで表されるナフタロシア
ニン誘導体の製造方法によって達成される。
(作用)
一般式Iで表される本発明のナフタロシアニン誘導体は
、新規な化合物であり、従来知られているナフタロシア
ニン誘導体と異なり78媒への溶解性が極めて高いもの
である。ここで使用可能な特定の溶媒としては、アルコ
ール、エチルセロソルブ、ハロゲン化炭化水素等が挙げ
られる。
、新規な化合物であり、従来知られているナフタロシア
ニン誘導体と異なり78媒への溶解性が極めて高いもの
である。ここで使用可能な特定の溶媒としては、アルコ
ール、エチルセロソルブ、ハロゲン化炭化水素等が挙げ
られる。
しかして、本発明のナフタロシアニン誘導体は、その溶
解性を利用して、基板への薄層形成が塗布方法、特にス
ピンコード法と称される簡便かつ経済的な方法で実施で
きるので、特に光記録媒体用材料としてh用である。
解性を利用して、基板への薄層形成が塗布方法、特にス
ピンコード法と称される簡便かつ経済的な方法で実施で
きるので、特に光記録媒体用材料としてh用である。
次に、本発明の一般式Iで表されるナフタロシアニン誘
導体は、以下の方法によって製造し得る。
導体は、以下の方法によって製造し得る。
一般式■で表わされるジヒドロキシ金属ナフタロシアニ
ン化合物と一般式■で表わされるハロゲン化シロキサン
化合物を溶媒の存在下で反応させることによって、一般
式Iで表わされるナフタロシアニン誘導体が得られる。
ン化合物と一般式■で表わされるハロゲン化シロキサン
化合物を溶媒の存在下で反応させることによって、一般
式Iで表わされるナフタロシアニン誘導体が得られる。
ここで、一般式■で表われさるジヒドロキシ全屈ナフタ
ロシアニン化合物1モルに対する一般式■で表わされる
ハロゲン化シロキサン化合物の使JT]FaG、t、5
〜100モル、krましくは10〜40モルである。該
使用量が5モル未満であると高収率でU約物を得ること
が国難であり、また100モルを越えると、その使用量
に対応するU約物を得ることができず経済的でない。
ロシアニン化合物1モルに対する一般式■で表わされる
ハロゲン化シロキサン化合物の使JT]FaG、t、5
〜100モル、krましくは10〜40モルである。該
使用量が5モル未満であると高収率でU約物を得ること
が国難であり、また100モルを越えると、その使用量
に対応するU約物を得ることができず経済的でない。
一般式■で表わされるジヒドロキシ金属ナツタロンシア
ニン誘導体は、固形であり、本発明において使用される
6機溶媒としては、例えば、β−ピコリン、キノリン、
ピコリン、アニリン、トリブチルアミン、シアミルアミ
ン、オクチルアミン等の塩基性溶媒を、単独もしくは、
混合物を用いて懸濁状態で行なう。
ニン誘導体は、固形であり、本発明において使用される
6機溶媒としては、例えば、β−ピコリン、キノリン、
ピコリン、アニリン、トリブチルアミン、シアミルアミ
ン、オクチルアミン等の塩基性溶媒を、単独もしくは、
混合物を用いて懸濁状態で行なう。
反応は、不活性ガス、例えば窒素ガス、二酸化酸素ガス
雰囲気下において、加熱下、通常80〜250℃、仔ま
しくは110〜150℃の温度で1〜10時間行なう。
雰囲気下において、加熱下、通常80〜250℃、仔ま
しくは110〜150℃の温度で1〜10時間行なう。
次いで得られた反応物は、未反応ジヒドロキシ金属ナフ
タロシアニン化合物や、固形副生物を濾過分離した後、
晶析や抽出による方法で高純度化され、溶解性の良好な
新規なナフタロシアニン誘導体を製造することができる
。
タロシアニン化合物や、固形副生物を濾過分離した後、
晶析や抽出による方法で高純度化され、溶解性の良好な
新規なナフタロシアニン誘導体を製造することができる
。
(実施例)
以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
。
。
実施例1
攪件機、混度計およびジムロート型冷却管を備えた3、
000m14ツロフラスコに、ジヒドロキシシリコンナ
フタロシアニン15g、無水トリー〇−ブチルアミン1
15g、無水β−ピコリン2゜280gを仕込み、撹袢
、懸濁させて、窒素雰囲気下に、1. 1. 3. 3
. 5. 5−へキサメチル−1,5−ジクロロシロキ
サン92gを添加したのち、加熱し、133〜136℃
の温度で4時間反応させた。冷去ll後、−夜装置した
のちに、11g緑りの反応物を濾過分離し、得られたケ
ーキをβピコリン400gで洗浄した。a岐及び洗浄液
を75〜80℃の温度、60Torrの圧力でi層線し
、165gの濃縮l皮を得た。
000m14ツロフラスコに、ジヒドロキシシリコンナ
フタロシアニン15g、無水トリー〇−ブチルアミン1
15g、無水β−ピコリン2゜280gを仕込み、撹袢
、懸濁させて、窒素雰囲気下に、1. 1. 3. 3
. 5. 5−へキサメチル−1,5−ジクロロシロキ
サン92gを添加したのち、加熱し、133〜136℃
の温度で4時間反応させた。冷去ll後、−夜装置した
のちに、11g緑りの反応物を濾過分離し、得られたケ
ーキをβピコリン400gで洗浄した。a岐及び洗浄液
を75〜80℃の温度、60Torrの圧力でi層線し
、165gの濃縮l皮を得た。
得られた濃縮液にアセトニトリル4,400gを注加し
、結品を析出させてこれを濾過し、/!l皮は前記の条
件で濃縮し、107gのl層線液を得た。
、結品を析出させてこれを濾過し、/!l皮は前記の条
件で濃縮し、107gのl層線液を得た。
これにイオン交換水7,500gを加えて納品を析出さ
せ、濾過分離して得られたケーキをイオン交換水222
gで洗浄し、このケーキを80°C1601’orrで
乾燥して潰緑色の桔+’ii’+27.5gを得た。こ
の結晶にn−ヘキサン2.400gを加え、室温で撹押
抽出し、?fi!過し、濾液を濃縮して16゜2gの濃
縮液を得た。これにメタノール250gを加え、よく撹
押した後、析出した結晶を濾過した。得られた納品をメ
タノール67gで洗浄したのち、110℃、60Tor
rで乾燥して、緑巴桔品0.57gを得た。この化合物
は、IRおよびUV分析の粘果、ビス(ヘキサメチルク
口ロトリンロキサン)シリコンナフタロシアニンである
固定された。IRおよびUVチャー1・四をそれぞれ第
1図および第2図に示した。
せ、濾過分離して得られたケーキをイオン交換水222
gで洗浄し、このケーキを80°C1601’orrで
乾燥して潰緑色の桔+’ii’+27.5gを得た。こ
の結晶にn−ヘキサン2.400gを加え、室温で撹押
抽出し、?fi!過し、濾液を濃縮して16゜2gの濃
縮液を得た。これにメタノール250gを加え、よく撹
押した後、析出した結晶を濾過した。得られた納品をメ
タノール67gで洗浄したのち、110℃、60Tor
rで乾燥して、緑巴桔品0.57gを得た。この化合物
は、IRおよびUV分析の粘果、ビス(ヘキサメチルク
口ロトリンロキサン)シリコンナフタロシアニンである
固定された。IRおよびUVチャー1・四をそれぞれ第
1図および第2図に示した。
実施例2
攪FP機、温度計およびジムロート型冷却管を備えた2
00m14ツロフラスコに、ジヒドロキシシリコンナフ
タロシアニン1g、無水トリー〇−ブチルアミン10g
1無水β−ピコリン160gを仕込み、撹r1\懸濁さ
せて、窒素雰囲気下に、1゜7−ジクロロオクタメチル
トリシロキサン6gを添加したのち、加凸し、133〜
136℃の温度で4時間反応させた。冷却後、−夜装置
したのちに、暗緑巴の反応物を濾過分離し、得られたケ
ーキをβ−ピコリン200gで洗浄した。濾液及びtl
L;浄i+’tを75〜80℃の温度、601’orr
の圧力で濃縮し、21.9gの濃縮液を得た。
00m14ツロフラスコに、ジヒドロキシシリコンナフ
タロシアニン1g、無水トリー〇−ブチルアミン10g
1無水β−ピコリン160gを仕込み、撹r1\懸濁さ
せて、窒素雰囲気下に、1゜7−ジクロロオクタメチル
トリシロキサン6gを添加したのち、加凸し、133〜
136℃の温度で4時間反応させた。冷却後、−夜装置
したのちに、暗緑巴の反応物を濾過分離し、得られたケ
ーキをβ−ピコリン200gで洗浄した。濾液及びtl
L;浄i+’tを75〜80℃の温度、601’orr
の圧力で濃縮し、21.9gの濃縮液を得た。
濃縮波にアセトニトリル320gを添加し、結晶を析出
させてこれをti!、過し、濾液は前記の条件で濃縮し
、14.2gの濃縮液を得た。これにイオン交換水56
0gを加えて結晶を析出させ、濾過分離して得られたケ
ーキをイオン交換水230gで洗浄し、このケーキを8
0℃、60Torrで乾燥して濃緑色の桔品11.5g
を得た。この結晶にn〜へキサン160gを加え、室混
で撹件抽出して、濾過し、fjl、液を濃縮して2.1
gの濃縮液を得た。これにメタノール20gを加え、よ
く撹r1゛シた後、析出した納品を濾過し、メタノール
10gで洗浄したのち、110℃、601’orrで乾
燥して、濃緑結晶0.03gを得た。この化合物は、I
RおよびUV分析の結果、ビス(オクタメチルクロロテ
トラシロキサン)シリコンナフタロシアニンである同定
された。IRおよびUVチャート図をそれぞれ第3図お
よび第4図に示した。
させてこれをti!、過し、濾液は前記の条件で濃縮し
、14.2gの濃縮液を得た。これにイオン交換水56
0gを加えて結晶を析出させ、濾過分離して得られたケ
ーキをイオン交換水230gで洗浄し、このケーキを8
0℃、60Torrで乾燥して濃緑色の桔品11.5g
を得た。この結晶にn〜へキサン160gを加え、室混
で撹件抽出して、濾過し、fjl、液を濃縮して2.1
gの濃縮液を得た。これにメタノール20gを加え、よ
く撹r1゛シた後、析出した納品を濾過し、メタノール
10gで洗浄したのち、110℃、601’orrで乾
燥して、濃緑結晶0.03gを得た。この化合物は、I
RおよびUV分析の結果、ビス(オクタメチルクロロテ
トラシロキサン)シリコンナフタロシアニンである同定
された。IRおよびUVチャート図をそれぞれ第3図お
よび第4図に示した。
(発門の効果)
本発叩け、一般式Iで示される新規ナフタロシアニン誘
導体及びその製造方法に係るものであり、該誘導体が極
めて簡便な方法で得られ、得られた一般式Iで示される
がナフタロシアニン誘導体が溶解性に優れているので、
光記録媒体として極めてh°用である。
導体及びその製造方法に係るものであり、該誘導体が極
めて簡便な方法で得られ、得られた一般式Iで示される
がナフタロシアニン誘導体が溶解性に優れているので、
光記録媒体として極めてh°用である。
第1図は、本発明のビス(ヘキサメチルクロロトリシロ
キサン)シリコンナフタロシアニンの赤外線吸収スペク
トル、第21¥Jは、本発明のビス(ヘキサメチルクロ
ロトリシロキサン)シリコンナフタロシアニンの紫外線
吸収スペクトル、第3図は、本発明のビス(オクタメチ
ルクロロテトラシロキサン)シリコンナフタロシアニン
のり1;外線吸収スペクトル、第4図は、本発明のビス
(オクタメチルクロロテトラシロキサン)シリコンナフ
タロシアニンの紫外線吸収スペクトルである。 特許出廓人 口本蒸溜T業株式会社口本触媒化学T
業株式会社 東汀紡績株式会社
キサン)シリコンナフタロシアニンの赤外線吸収スペク
トル、第21¥Jは、本発明のビス(ヘキサメチルクロ
ロトリシロキサン)シリコンナフタロシアニンの紫外線
吸収スペクトル、第3図は、本発明のビス(オクタメチ
ルクロロテトラシロキサン)シリコンナフタロシアニン
のり1;外線吸収スペクトル、第4図は、本発明のビス
(オクタメチルクロロテトラシロキサン)シリコンナフ
タロシアニンの紫外線吸収スペクトルである。 特許出廓人 口本蒸溜T業株式会社口本触媒化学T
業株式会社 東汀紡績株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (ただし、式中Mは、Si、SnおよびGeから選ばれ
た一種の元素を示し、Xはハロゲン、アルキル基、アリ
ール基、アシル基、アミノ基、置換アミノ基、ニトロ基
、アルコキシ基、スルホン酸基、スルホニルアミド基お
よびヒドロキシ基から選ばれた、同一でも異種でもよい
一種または二種以上の基を示し、Pは0〜2の整数を示
し、qは0〜4の整数を示し、Y_1およびY_2は下
記一般式II ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (ただし、式中、nは3〜10の整数を示し、R_1、
R_2、R_3は、同一でも異種でもよい炭素数1〜1
2のアルキル基、アルコキシ基、炭素数6〜12のアリ
ール基、炭素数4〜10のシクロアルキル基、ハロゲン
、ヒドロキシ基を示す。)で表される基を示す。)で表
わされるナフタロシアニン誘導体。 2、一般式III ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (ただし、式中、M、X、pおよびqは前記と同じもの
を示す。)で表わされるジヒドロキシ金属ナフタロシア
ニン化合物と一般式IV ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (ただし、式中、Xはハロゲンを示し、n、R_1、R
_2およびR_3は前記と同じものを示す。)で表され
るハロゲン化シロキサン化合物とを反応させることを特
徴とする一般式 I で表されるナフタロシアニン誘導体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1205594A JPH0372481A (ja) | 1989-08-10 | 1989-08-10 | ナフタロシアニン誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1205594A JPH0372481A (ja) | 1989-08-10 | 1989-08-10 | ナフタロシアニン誘導体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0372481A true JPH0372481A (ja) | 1991-03-27 |
Family
ID=16509468
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1205594A Pending JPH0372481A (ja) | 1989-08-10 | 1989-08-10 | ナフタロシアニン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0372481A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008511690A (ja) * | 2004-08-09 | 2008-04-17 | シルバーブルック リサーチ ピーティワイ リミテッド | 合成に好適な水分散性ir染料 |
| JP2009132624A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-18 | Nagaoka Univ Of Technology | 2,3−ジシアノナフタレン誘導体 |
| US7892339B2 (en) | 2004-08-09 | 2011-02-22 | Silverbrook Research Pty Ltd | IR-absorbing gallium naphthalocyanine dye |
-
1989
- 1989-08-10 JP JP1205594A patent/JPH0372481A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008511690A (ja) * | 2004-08-09 | 2008-04-17 | シルバーブルック リサーチ ピーティワイ リミテッド | 合成に好適な水分散性ir染料 |
| US7892339B2 (en) | 2004-08-09 | 2011-02-22 | Silverbrook Research Pty Ltd | IR-absorbing gallium naphthalocyanine dye |
| US7959724B2 (en) | 2004-08-09 | 2011-06-14 | Silverbrook Research Pty Ltd | Substrate having inkjet ink comprising naphthalocyanine dye disposed thereon |
| JP2009132624A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-18 | Nagaoka Univ Of Technology | 2,3−ジシアノナフタレン誘導体 |
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