JPH0372624B2

JPH0372624B2 -

Info

Publication number: JPH0372624B2
Application number: JP57125886A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Ito; Atsuhiko Nitsuta; Tomio Tanaka; Kenji Tsuboi
Original assignee: Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority date: 1982-07-21
Filing date: 1982-07-21
Publication date: 1991-11-19
Also published as: JPS5916883A; IT8319162A0; IT1163038B

Description

【発明の詳細な説明】

本発明はＮ−２−メチルグリシジル置換アミド
化合物に関する。更に詳しくはアミド基に少くとも一個の２−メ
チルグリシジル基の置換したＮ，Ｎ−２置換アミ
ド化合物に関するものである。本発明の化合物は一般式（但し、R₁は脂肪族炭化水素基、芳香族炭化
水素基または脂環式炭化水素基であり、Ｘは水
素、２−メチルグリシドキシ基またはＮ，Ｎ−ジ
−２−メチルグリシジルアミノ基である。ｐは０または１の整数であり、ｑは１〜４の整
数である。R₂はアルキル基、アルケニル基、ア
リールアルキル基またはアリールアルケニル基で
あり、ｒは１または２の整数であり、Ｓは１〜４
の整数である。但し、Ｘが水素のときはｐは０ま
たは１、ｑは０または１であり、Ｓが１のときは
ｒは１または２、一方、Ｓが２〜４のときはｒは
２である。Ｘが２−メチルグリシドキシ基のとき
は、ｐは１、ｒは２である。ＸがＮ，Ｎ−ジ−２
−メチルグリシジルアミノ基のときはｐは０また
は１、ｑは１または２、ｓは１または２、ｒは２
である。）で表わされるＮ−２−メチルグリシジ
ル置換アミド化合物であり、文献未記載の新規化
合物である。上記一般式で表わされるＮ−２−メチルグリシ
ジル置換アミド化合物には、脂肪族飽和及び不飽
和モノアミド化合物のＮ−モノ−２−メチルグリ
シジル置換及びＮ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジ
ル置換化合物、芳香族及び脂環式モノアミド化合
物のＮ−モノ−２−メチルグリシジル置換及び
Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル置換化合物、
多価アミド化合物として脂肪族飽和及び不飽和ジ
アミド化合物のＮ，Ｎ，N′，N′−テトラ−メチ
ルグリシジル置換化合物、芳香族及び脂環式ジア
ミド化合物のＮ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メ
チルグリシジル置換化合物、芳香族トリアミド化
合物のＮ，Ｎ，N′，N′，N″，N″−ヘキサ−２−
メチルグリシジル置換化合物、芳香族テトラアミ
ド化合物のＮ，Ｎ，N′，N′，N″，N″，Ｎ，Ｎ
−オクタ−２−メチルグリシジル置換化合物な
どがある。更に、脂肪族飽和及び不飽和モノアミド化合物
のＮ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル置換化合物
に２−メチルグリシドキシ基の１ケ置換した化合
物、芳香族モノアミド化合物のＮ，Ｎ−ジ−２−
メチルグリシジル置換化合物に２−メチルグリシ
ドキシ基の１ケ以上４ケ迄置換した化合物及び芳
香族ジアミド化合物のＮ，Ｎ，N′，N′−テトラ
−２−メチルグリシジル置換化合物に２−メチル
グリシドキシ基の１ケ又は２ケ置換した化合物な
どが含まれる。また、脂肪族飽和、芳香族及び脂環式モノアミ
ド化合物のＮ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル置
換化合物にＮ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルア
ミノ基が１ケ又は２ケ置換した化合物、脂肪族飽
和及び芳香族ジアミド化合物のＮ，Ｎ，N′，
N′−テトラ−２−メチルグリシジル置換化合物
にＮ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルアミノ基が
１ケ又は２ケ置換した化合物及び尿素のＮ，Ｎ，
N′，N′−テトラ−２−メチルグリシジル置換化
合物なども含まれる。本発明の化合物を最も効率よく製造する方法と
して、先に提供したＮ−置換アミド化合物の製造
方法を採用することができる。すなわち、強塩基
性物質の存在下、非プロトン性溶媒中でアミド化
合物とハロゲン置換化合物とを反応させて、Ｎ−
置換アミド化合物を製造する方法である。その方
法において、ハロゲン置換化合物としてβ−メチ
ルエピハロドリンまたはジハロ−β−メチルプロ
パノールを使用すると、２−メチルグリシジル基
が置換したＮ−置換アミド化合物が製造される。
また、ハロゲン置換化合物としてβ−メチルエピ
ハロヒドリンまたはジハロ−β−メチルプロパノ
ールとともに、アルキルハライド、アルケニルハ
ライドおよびアリールハライドのうち１種を選ん
で反応させると、２−メチルグリシジル基ととも
にそれらハロゲン置換化合物に対応する残基の導
入されたＮ，Ｎ−二置換アミド化合物を製造する
ことができる。また、先の方法よりも目的生成物の収率は低下
するが、以下の方法によつても製造できる。すなわち、非プロトン性溶媒中において、強塩
基性物質とアミド化合物とを予め反応させた後、
ハロゲン置換化合物を導入してＮ−置換アミド化
合物を製造する方法、またアミド化合物とハロゲ
ン置換化合物とを相間移動反応を利用して反応さ
せてＮ−置換アミド化合物を製造する方法、或い
は脱ハロゲン化水素触媒としてフツ素イオンを使
用してＮ−置換アミド化合物を製造する方法等を
挙げることができる。以下に本発明を詳細に説明する。本発明の化合物はモノアミド化合物のＮ−２−
メチルグリシジル置換化合物、ジアミド化合物以
上の多価アミド化合物のＮ−２−メチルグリシジ
ル置換化合物、水酸基置換モノアミド化合物のＮ
−２−メチルグリシジル置換２−メチルグリシジ
ルエーテル化合物、水酸基置換ジアミド化合物の
Ｎ−２−メチルグリシジル置換２−メチルグリシ
ジルエーテル化合物、アミノ基置換モノアミド化
合物のＮ−２−メチルグリシジル置換化合物、ア
ミノ基置換ジアミド化合物のＮ−２−メチルグリ
シジル置換化合物などに分類される。モノアミド化合物のＮ−２−メチルグリシジル
置換化合物として、一般式(1)で示されるモノ−２
−メチルグリシジル化合物と一般式(2)で示される
ジ−２−メチルグリシジル置換化合物とがある。上式でR₁はアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基または脂環式基である。アルキル基は一般
式CnH_2o+1−で表わされ、ｎは０〜20の整数であ
る。アルケニル基は一般式CnH_2o-1−で表わさ
れ、ｎは２〜20の整数である。アリール基は芳香
環を含む置換基であり、アリールアルキル基、ア
リールアルケニル基も含む。芳香環としてベンゼ
ン環、ナフタレン環およびアントラセン環などが
適用できる。脂環式基は脂環式構造を含む置換基
である。また、上記置換基の炭化水素部位にハロゲン原
子の一種以上が一つ以上導入されたものも対象と
なる。一方、一般式(1)中のR₂はアルキル基、アルケ
ニル基、アリールアルキル基またはアリールアル
ケニル基であり、アルキル基は一般式CnH_2o+1−
で表わされ、ｎは整数で１〜20である。アルケニ
ル基は一般式CnH_2o-1−で表わされ、ｎは整数で
２〜20である。芳香環としてベンゼン環、ナフタ
レン環およびアントラセン環などが適用できる。多価アミド化合物のうち、ジアミド化合物のＮ
−２−メチルグリシジル置換化合物は一般式(3)で
示される。 R₁はアルキレン基、アルケニレン基、アリー
レン基または脂環式基である。アルキレン基は一
般式−CnH_2o−で表わされ、ｎは整数で０〜20で
ある。アルケニレン基は一般式−CnH_2o-1−で表
わされ、ｎは整数で２〜20である。アリーレン基は芳香環を含む置換基であり、ア
リールアルキル基、アリールアルケニル基も含
む。芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環、ア
ントラセン環などが適用できる。脂環式基は脂環
式構造を含む構造である。上記置換基の炭化水素部位にハロゲン原子の一
種以上が一つ以上導入されたものも対象となる。
トリアミド化合物のＮ−２−メチルグリシジル置
換化合物は一般式(4)で表わされる。 R₁は芳香環または脂環式基であり、芳香環と
してナフタレン環およびアントラセン環などを適
用できる。また、芳香環にハロゲン原子の一種以
上が一つ以上置換したものもテトラアミド化合物
のＮ−２−メチルグリシジル置換化合物は一般式
(5)で表わされる。 R₁は芳香環または脂環式基であり、芳香環と
してベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環
などが適用できる。また、芳香環にハロゲン原子
の一種以上が一つ以上置換したものも対象とな
る。水酸基置換モノアミド化合物のＮ−２−メチル
グリシジル置換２−メチルグリシジルエーテル化
合物は一般式(6)で表わされる。ｎは１〜４の整数であり、ｎ＝１のときR₁は
アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基で
ある。ｎ＝２〜４のときは、R₁は芳香環を示し、
ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環など
が適用できる。アルキレン基は一般式−CnH_2o−で表わされ、
ｎ＝１〜20の整数である。アルケニレン基は、一
般式−CnH_2o-2−で表わされ、ｎ＝２〜20の整数
である。アリーレン基は芳香環を含む置換基であ
り、芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環、ア
ントラセン環などが適用できる。また、上記置換
基の炭化水素部位にハロゲン原子の一種以上が一
つ以上置換したものも対象となる。水酸基置換ジアミド化合物のＮ−２−メチルグ
リシジル置換２−メチルグリシジルエーテル化合
物は一般式(7)で表わされる。ｎは１及び２の整数であり、R₁は芳香環を示
し、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環
などが適用できる。また、上記置換基の炭化水素
部位にハロゲン原子の一種以上が一つ以上置換し
たものも対象となる。アミノ基置換モノアミド化合物のＮ−２−メチ
ルグリシジル置換アミド化合物は一般式(8)で表さ
れる。ｎは１及び２の整数であり、R₁はアルキレン
基、アリーレン基または脂環式基である。アルキ
レン基は一般式−CnH_2o−で表わされ、ｎ＝１〜
20の整数である。アリーレン基は芳香環を含む置
換基でありアリールアルキル基も含む。芳香環と
してベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環
などが適用できる。脂環式基は脂環式構造を含む
置換基である。また、上記置換基の炭化水素部位
にハロゲン原子の一種以上が一つ以上置換したも
のも対象となる。アミノ基置換ジアミド化合物のＮ−２−メチル
グリシジル置換化合物は一般式(9)で表わされる。ｎは１及び２の整数であり、R₁は芳香環であ
り芳香環としてベンゼン環、ナフタレン環および
アントラセン環などが適用できる。また、芳香環
にハロゲン原子の一種以上が一つ以上置換したも
のも対象となる。また、その他に尿素のＮ−２−メチルグリシジ
ル置換アミド化合物として、Ｎ，Ｎ，N′，N′−
テトラ−２−メチルグリシジル尿素も含まれる。以下に本発明の化合物の代表例につき例示す
る。モノアミド化合物のＮ−２−メチルグリシジ
ル置換アミド化合物として、Ｎ−モノ−２−メチ
ルグリシジル置換化合物では例えば、Ｎ−メチル
−Ｎ−２−メチルグリシジルアセトアミド、Ｎ−
エチル−Ｎ−２−メチルグリシジルホルムアミ
ド、Ｎ−ブチル−Ｎ−２−メチルグリシジルプロ
ピオアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−２−メチルグリシ
ジルステラミド、Ｎ−デシル−Ｎ−２−メチルグ
リシジルラウラミド、Ｎ−ステアリル−Ｎ−２−
メチルグリシジルプロピオアミド、Ｎ−アリル−
Ｎ−２−メチルグリシジルアセトアミド、Ｎ−メ
タリル−Ｎ−２−メチルグリシジルプロピオアミ
ド、Ｎ−ブテニル−Ｎ−２−メチルグリシジルホ
ルムアミド、Ｎ−ヘキセニル−Ｎ−２−メチルグ
リシジルステラミド、Ｎ−ベンジル−Ｎ−２−メ
チルグリシジルホルムアミド、Ｎ−フエネチル−
Ｎ−２−メチルグリシジルアセトアミド、Ｎ−フ
エニルプロピル−Ｎ−２−メチルグリシジルプロ
ピオアミド、Ｎ−シンナミル−Ｎ−２−メチルグ
リシジルラウラミド、Ｎ−メチル−Ｎ−２−メチ
ルグリシジルアクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−
２−メチルグリシジルメタクリルアミド、Ｎ−エ
チル−Ｎ−２−メチルグリシジルクロトナミド、
Ｎ−ブチル−Ｎ−２−メチルグリシジルアクリル
アミド、Ｎ−メチル−Ｎ−２−メチルグリシジル
デセナミド、Ｈ−デシル−Ｎ−２−メチルグリシ
ジルブテナミド、Ｎ−ステアリル−Ｎ−２−メチ
ルグリシジルクロトナミド、Ｎ−アリル−Ｎ−２
−メチルグリシジルアクリルアミド、Ｎ−アリル
−Ｎ−２−メチルグリシジルメタクリルアミド、
Ｎ−メタリル−Ｎ−２−メチルグリシジルクロト
ナミド、Ｎ−ブテニル−Ｎ−２−メチルグリシジ
ルメタクリルアミド、Ｎ−ヘキセニル−Ｎ−２−
メチルグリシジルデセナミド、Ｎ−ベンジル−Ｎ
−２−メチルグリシジルアクリルアミド、Ｎ−フ
エネチル−Ｎ−２−メチルグリシジルアクリルア
ミド、Ｎ−フエネチル−Ｎ−２−メチルグリシジ
ルクロトアミド、Ｎ−フエニルプロピル−Ｎ−２
−メチルグリシジルメタクリルアミド、Ｎ−シン
ナミル−Ｎ−２−メチルグリシジルデセナミド、
Ｎ−メチル−Ｎ−２−メチルグリシジルベンズア
ミド、Ｎ−エチル−Ｎ−２−メチルグリシジルト
リアミド、Ｎ−ブチル−Ｎ−２−メチルグリシジ
ルフエニルアセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−２−
メチルグリシジルシンナマミド、Ｎ−デシル−Ｎ
−２−メチルグリシジルナフタレンカルボキサミ
ド、Ｎ−ステアリル−Ｎ−２−メチルグリシジル
アントラセンカルボキサミド、Ｎ−アリル−Ｎ−
２−メチルグリシジルベンズアミド、Ｎ−メタリ
ル−Ｎ−２−メチルグリシジルトリルアミド、Ｎ
−ブテニル−Ｎ−２−メチルグリシジルフエニル
アセトアミド、Ｎ−ヘキセニル−Ｎ−２−メチル
グリシジルアリルベンズアミド、Ｎ−ベンジル−
Ｎ−２−メチルグリシジルベンズアミド、Ｎ−フ
エネチル−Ｎ−２−メチルグリシジルトリアミ
ド、Ｎ−ベンジル−Ｎ−２−メチルグリシジルシ
ンナマミド、Ｎ−フエニルプロピル−Ｎ−２−メ
チルグリシジルフエニルアセトアミド、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−２−メチルグリシジルシクロヘキサンカ
ルボキサミド、Ｎ−エチル−Ｎ−２−メチルグリ
シジルシクロヘキシルアセトアミド、Ｎ−ブチル
−Ｎ−２−メチルグリシジルシクロヘキサンカル
ボキサミド、Ｎ−デシル−Ｎ−２−メチル−グリ
シジルシクロヘキシルプロピオアミド、Ｎ−アリ
ル−Ｎ−２−メチルグリシジルシクロヘキサンカ
ルボキサミド、Ｎ−メタリル−Ｎ−２−メチルグ
リシジルシクロヘキシルアセトアミド、Ｎ−ベン
ジル−Ｎ−２−メチルグリシジルシクロヘキサン
カルボキサミド、Ｎ−フエネチル−Ｎ−２−メチ
ルグリシジルシクロヘキシルアセトアミドなどが
あげられる。また、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル置換
化合物では、例えばＮ，Ｎ−ジ−２−メチルグリ
シジルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグ
リシジルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチル
グリシジルプロピオアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メ
チルグリシジルブチラミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メ
チルグリシジルブチラミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メ
チルグリシジルクロロアセトアミド、Ｎ，Ｎ−２
−メチルグリシジルクロロプロピオアミド、Ｎ，
Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルジクロロアミド、
Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルアクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルメタクリ
ルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルク
ロトナミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルジグリシジ
ルビニルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチル
グリシジルデセナミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチル
グリシジルノナデセナミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メ
チルグリシジルクロルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−
ジ−２−メチルグリシジルベンズアミド、Ｎ，Ｎ
−ジ−２−メチルグリシジルナフタレンカルボキ
サミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルアン
トラセンカルボキサミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチ
ルグリシジルトリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メ
チルグリシジルフエニルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−
ジ−２−メチルグリシジルフエニルプロピオアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルフエニル
デカナミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル
フエニルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチ
ルグリシジルベンジルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−
ジ−２−メチルグリシジルシンナマミド、Ｎ，Ｎ
−ジ−２−メチルグリシジルアリルベンズアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルクロロベ
ンズアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル
ジクロロベンズアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチル
グリシジルクロロブロモベンズアミド、Ｎ，Ｎ−
ジ−２−メチルグリシジルシクロブタンカルボキ
サミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルシク
ロペンタンカルボキサミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メ
チルグリシジルシクロヘキサンカルボキサミド、
Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルシクロペンタ
ンカルボキサミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリ
シジルシクロヘキシルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジ
−２−メチルグリシジルシクロヘキシルプロピオ
アミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルシク
ロヘキセンカルボキサミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メ
チルグリシジルシクロヘキサジエンカルボキサミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルシクロペ
ンチルフエニルアセトアミドなどがあげられる。
また、多価アミド化合物のＮ−２−メチルグリシ
ジル置換アミド化合物では、例えばＮ，Ｎ，N′，
N′−テトラ−２−メチルグリシジルオキザミド、
Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグリシジ
ルマロナミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−
メチルグリシジルサクシナミド、Ｎ，Ｎ，N′，
N′−テトラ−２−メチルグリシジルダルタラミ
ド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグリ
シジルアジパミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−
２−メチルグリシジルピメラミド、Ｎ，Ｎ，N′，
N′−テトラ−２−メチルグリシジルスベラミド、
Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグリシジ
ルアゼラミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−
メチルグリシジルセバサミド、Ｎ，Ｎ，N′，
N′−テトラ−２−メチルグリシジルオクタデカ
ンジカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ
−２−メチルグリシジルフマラミド、Ｎ，Ｎ，
N′，N′−テトラ−２−メチルグリシジルマレア
ミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグ
リシジルシトラコナミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テ
トラ−２−メチルグリシジルメサコナミド、Ｎ，
Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグリシジルデ
センジカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テト
ラ−２−メチルグリシジルオクタデセンジカルボ
キサミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチ
ルグリシジルフタラミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テ
トラ−２−メチルグリシジルイソフタラミド、
Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグリシジ
ルテレフタラミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−
２−メチルグリシジルナフタレンカルボキサミ
ド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグリ
シジルアントラセンジカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，
N′，N′−テトラ−２−メチルグリシジルカルバ
モイルフエニルアセトアミド、Ｎ，Ｎ，N′，
N′−テトラ−２−メチルグリシジルフエニルシ
トラコナミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−
メチルグリシジルジフエナミド、Ｎ，Ｎ，N′，
N′−テトラ−２−メチルグリシジルクロロイソ
フタラミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メ
チルグリシジルブロモイソフタラミド、Ｎ，Ｎ，
N′，N′−テトラ−２−メチルグリシジルシクロ
ブタンジカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テ
トラ−２−メチルグリシジルシクロペンタンジカ
ルボキサミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−
メチルグリシジルシクロヘキサンジカルボキサミ
ド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグリ
シジルシクロヘプタンカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，
N′，N′−テトラ−２−メチルグリシジルシクロ
ヘキセンカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テ
トラ−２−メチルグリシジルカンホラミド、Ｎ，
Ｎ，N′，N′，N″，N″−ヘキサ−２−メチルグリ
シジルベンゼントリカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，
N′，N′，N″，N″−ヘキサ−２−メチルグリシジ
ルナフタレントリカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，N′，
N′，N″，N″−ヘキサ−２−メチルグリシジルト
ルエントリカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′，
N″，N″−ヘキサ−２−メチルグリシジルクロル
ベンゼントリカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′，
N″，N″−ヘキサ−２−メチルグリシジルシクロ
ヘキサントリカルボキサミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′，
N″，N″，Ｎ，Ｎ−オクタ−２−メチルグリ
シジルピロメリツタアミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′，
N″，N″，Ｎ，Ｎ−オクタ−２−メチルグリ
シジルナフタレンテトラカルボキサミド、Ｎ，
Ｎ，N′，N′，N″，N″，Ｎ，Ｎ−オクタ−２
−メチルグリシジルシクロヘプタンテトラカルボ
キサミドなどがある。一方、水酸基置換モノアミド化合物のＮ−２−
メチルグリシジル置換２−メチルグリシジルエー
テル化合物では、例えば、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチ
ルグリシジル−２−メチルグリシドキシプロピオ
アミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル−２
−メチルグリシドキシジフエニルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル−２−メチル
グリシドキシブチラミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチ
ルグリシジル−２−メチルグリシドキシヘプタナ
ミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル−２−
メチルグリシドキシデカナミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２
−メチルグリシジル−２−メチルグリシドキシク
ロトナミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル
−２−メチルグリシドキシジメチルヘプチナミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル−２−メ
チルグリシドキシベンズアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２
−メチルグリシジル−２−メチルグリシドキシト
リルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル
−２−メチルグリシドキシフエニルベンズアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル−２−メ
チルグリシドキシナフタレンカルボキサミド、
Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル−ジ−２−メ
チルグリシドキシベンズアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２
−メチルグリシジルトリ−２−メチルグリシドキ
シベンズアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシ
ジル−ジ−２−メチルグリシドキシトリルアミド
などがある。水酸基置換ジアミド化合物のＮ−２−メチルグ
リシジル置換２−メチルグリシジルエーテル化合
物ではＮ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグ
リシジル−２−メチルグリシドキシフタラミド、
Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグリシジ
ル−２−メチルグリシドキシイソフタラミド、
Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグリシジ
ル−２−メチルグリシドキシテレフタラミド、
Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグリシジ
ル−ジ−２−メチルグリシドキシフタラミド、
Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグリシジ
ル−ジ−２−メチルグリシドキシイソフタラミ
ド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグリ
シジル−ジ−２−メチルグリシドキシテレフタラ
ミドなどがある。アミノ基置換モノアミド化合物のＮ−２−メチ
ルグリシジル置換化合物では、Ｎ，Ｎ，N′，
N′−テトラ−２−メチルグリシジルグリシンア
ミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグ
リシジルアラニンアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチ
ルグリシジルアミノ−N′，N′−ジ−２−メチル
グリシジルブタナミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テト
ラ−２−メチルグリシジルジアミノ−N″，N″−
ジ−２−メチルグリシジルプロピオナミド、Ｎ，
Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルアミノ−N′，
N′−ジ−２−メチルグリシジルベンズアミド、
Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルアミノ−N′，
N′−ジ−２−メチルグリシジルクロロベンズア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルアミノ
−N′，N′−ジ−２−メチルグリシジルトリブロ
モベンズアミド、Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２
−メチルグリシジルジアミノ−N″，N″−ジ−２
−メチルグリシジルベンズアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−
２−メチルグリシジルアミノフエニル−N′，
N′−ジ−２−メチルグリシジルアセトアミド、
Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルアミノフエニ
ル−N′，N′ −ジ−２−メチルグリシジルプロ
ピオナミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル
アミノ−N′，N′−ジ−２−メチルグリシジルナ
フタレンカルボキサミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチ
ルグリシジルアミノ−N′，N′−ジ−２−メチル
グリシジルシクロヘキサンカルボキサミドなどが
ある。アミノ基置換ジアミド化合物のＮ−グリシジル
置換化合物では、Ｎ，Ｎ，N′，N′，N″，N″−ヘ
キサ−２−メチルグリシジルアスパルトジアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルアミノ−
N′，N′，N″，N″−テトラ−２−メチルグリシジ
ルグルタラジアミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグ
リシジルアミノ−N′，N′，N″，N″−テトラ−２
−メチルグリシジルフタラミド、Ｎ，Ｎ−ジ−２
−メチルグリシジルアミノ−N′，N′，N″，N″−
テトラ−２−メチルグリシジルイソフタラミド、
Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルアミノ−N′，
N′，N″，N″−テトラ−２−メチルグリシジルテ
レフタラミドなどがある。また、尿素のＮ−グリシジル置換誘導体も含ま
れ、例えばＮ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチ
ルグリシジル尿素などがある。上記に例示した化合物のうち、低級脂肪酸アミ
ドのＮ−２−メチルグリシジル置換化合物では、
蒸留等の操作により比較的容易に単離・精製が可
能である。しかし、その他のＮ−２−メチルグリ
シジル置換化合物、特にＮ，Ｎ−ジ−２−メチル
グリシジル化合物では揮発性が非常に低いため、
蒸留等の操作により単離が困難である。一方、２
−メチルグリシジル基は反応性に富む置換基であ
り、反応系に共存するアルカリ物質の如き反応活
性な化合物と反応して、エポキシ環の開環、それ
に伴う付加縮合等の副反応が生起する。したがつ
て、製品のエポキシ当量は理論値より高くなり、
そのズレの度合いは反応させるべきアミド化合物
の反応性に依存し、一般に芳香族アミド化合物の
ほうが理論値に近いエポキシ当量が得られるよう
である。上記した本発明のＮ−２−メチルグリシジル置
換アミド化合物は、既存のフエニル−２−メチル
グリシジルエーテルの如きモノ−２−メチルグリ
シジルエーテル化合物、２−メチルグリシジルメ
タクリレートの如きモノ−２−メチルグリシジル
エステル化合物、メチル置換型ビスフエノール型
エポキシ樹脂に代表されるジ−２−メチルグリシ
ジルエーテル化合物、テレフタル酸ジ−２−メチ
ルグリシジルの如きジ−２−メチルグリシジルエ
ステル化合物、更にはジ−２−メチルグリシジル
アミン化合物、テトラ−２−メチルグリシジルア
ミン化合物等のメチル置換型グリシジル置換化合
物に対応するものであり、これらの既存物質が通
常用いられる反応性希釈剤、架橋剤、エポキシ化
試剤、樹脂の改良剤、エポキシ樹脂などとして接
着剤、塗料用原料、電子材料関連樹脂、複合材料
バインダー等に幅広い用途を有する。次に本発明を実施例により更に説明する。実施例１Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジルプロピオナ
ミドの製造：ジメチルスルフオキシド（以下DMSOと略す）
250ml中にプロピオナミド18g、β−メチルエピ
クロルヒドリン133g、水酸化ナトリウム30gを加
え、30℃で５時間反応を行つた。反応後、不溶物を別した後、原料及び溶媒を
留去し、残液にベンゼン200ml、蒸留水100mlを加
え、十分攪拌した後分液し、更に水溶液層をベン
ゼン100mlで２回抽出し、ベンゼン層を集め、硫
酸マグネシウムで乾燥した。ベンゼン層を減圧蒸留し、68〜70℃／0.04mm
Hg留分を採取し、Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリ
シジルプロピオナミドを35g（収率65％）得た。
過塩素酸滴定法によりエポキシ当量を測定したと
ころ、108g／eq（理論値107g／eq）であつた。実施例２〜４表−１記載の原料、強塩基性物質、溶媒の組合
せで、表−１記載の条件で実施例１と全く同様の
方法で反応を行つた。なお、実施例２及び３では
フエネチアジン0.05gを添加して反応を行つた。反応後、実施例１と全く同様の方法で処理を行
い、表−２記載の効果を得た。実施例５Ｎ−アリル−Ｎ−２−メチルグリシジルアクリ
ルアミドの製造：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下DMFと
略す）250ml中にアクリルアミド18g、アリルク
ロライド57g、β−メチルエピクロルヒドリン
80g、水酸化カリウム42g及びフエノチアジン
0.05gを添加し、30℃で５時間反応した。反応後、
不溶物を別した後、原料及び溶媒を留去し、残
液にベンゼン200ml、蒸留水100mlを加え、十分攪
拌した後分液し、更に水溶液層をベンゼン100ml
で２回抽出し、ベンゼン層を集め、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。ベンゼン層を減圧蒸留し、53〜55℃／0.9mmHg
留分を採取し、Ｎ−アリル−Ｎ−２−メチルグリ
シジルを24g（収率53％）得た。過塩素酸滴定法によりエポキシ当量を測定した
ところ、182g／eq（理論値181g／eq）であつた。実施例６〜８表−３記載の原料、強塩基性物質、溶媒の組合
せで、表−３記載の条件で実施例５と全く同様の
方法で反応を行つた。

【表】

【表】反応後、実施例５と全く同様の方法で処理を行
い、表−４記載の結果を得た。実施例９Ｎ，Ｎ，N′，N′−テトラ−２−メチルグリシ
ジルイソフタラミドの製造： DMSO250mlにイソフタラミド21g、β−メチ
ルエピクロルヒドリン133g及び水酸化ナトリウ
ム30gを加え、30℃で５時間反応を行つた。反応後、不溶物を別した後、原料及び溶媒を
留去し、残液にベンゼン200ml、蒸留水100mlを加
え、十分攪拌後分液し、更に水溶液層を100mlの
ベンゼンで２回抽出し、ベンゼン層を集め、硫酸
マグネシウムで乾燥した。ベンゼンを留去後、更に120℃／２mmHgで残存
溶媒等の留去を行い、目的のＮ，Ｎ，N′，N′−
テトラ−２−メチルグリシジルイソフタラミドを
42g（収率83％）得た。過塩素酸滴定法によりエポキシ当量を測定した
ところ、121g／eq（理論値111g／eq）であつた。また、このものの25℃での屈折率を測定したと
ころ、1.5311であつた。

【表】

【表】実施例 10〜16 表−５記載の原料、強塩基性物質、溶媒の組合
せで、表−５記載の条件で実施例９と全く同様の
方法で反応を行つた。反応後、実施例９と全く同様の方法で処理を行
い、表−５記載の結果を得た。実施例 17 実施例12で製造したＮ，Ｎ−ジ−２−メチルグ
リシジル−ｐ−２−メチルグリシドキシベンズア
ミドを使用し、下記の配合体で鋼板の接着試験を
行つた。・配合Ｎ，Ｎ−ジ−２−メチルグリシジル−ｐ−２−
メチルグリシドキシベンズアミド100部、ジシア
ンジアミド５部、エロジル２部を３本ロールで十
分混練した。更に、そこにアルミナ30部を均一に分散し減圧
下に脱気し、配合体を得た。・試験片の作成アセトンで脱脂処理した巾25ｍ／ｍ×長さ100
ｍ／ｍ×厚さ1.6ｍ／ｍの鋼板（JIS G3141）に
片端り12.5ｍ／ｍまで該配合物を塗布し、そこに
もう一枚の鋼板を重ね合せ、更にクリツプで圧締
しながら、180℃で60分硬化を行い、試験片を作
成した。・試験該試験片をJIS K6850に準じて、引張り剪断強
度の測定を行つたところ、180Kg／cm²の値を得た。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１一般式（但し、R₁は脂肪族炭化水素基、芳香族炭化
水素基または脂環式炭化水素基であり、Ｘは水
素、２−メチルグリシドキシ基またはＮ，Ｎ−ジ
−２−メチルグリシジルアミノ基である。ｐは０
または１の整数であり、ｑは１〜４の整数であ
る。R₂はアルキル基、アルケニル基またはアリ
ールアルキル基またはアリールアルケニル基であ
り、ｒは１または２の整数であり、ｓは１〜４の
整数である。但し、Ｘが水素のときは、ｐは０ま
たは１、ｑは０または１であり、ｓが１のときは
ｒは１または２であり、一方、ｓが２〜４のとき
はｒは２である。Ｘが２−メチルグリシドキシ基
のときは、ｑは１でｒは２である。ＸがＮ，Ｎ−
ジ−２−メチルグリシジルアミノ基のときはｐは
０または１、ｑは１または２、ｓは１または２、
ｒは２である。）で表わされるＮ−２−メチルグ
リシジル置換アミド化合物。