JPH0377645B2 - - Google Patents
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Description
(産業上の利用分野)
本発明はNi,Nb,P,SおよびFeよりなる耐
摩耗性高透磁率の磁気記録再生ヘツドおよびNi,
Nb,P,SおよびFeを主成分とし、副成分とし
てCr,Mo,Ge,Au,Co,V,W,Cu,Ta,
Mn,Al,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,Ga,In,
Tl,Zn,Cd、希土類元素、白金族元素、Be,
Ag,Sr,Ba,Bの1種または2種以上を含有す
る耐摩耗性高透磁率の磁気記録再生ヘツドに関す
るもので、その目的とするところは、鍛造加工が
容易で、実効透磁率が大きく、飽和磁束密度が
4000G以上で、{110}<112>+{311}<112>の再
結晶集合組織を有する耐摩耗性高透磁率の磁気記
録再生ヘツドに関するものである。 (従来の技術) テープレコーダーなどの磁気記録再生ヘツドは
交流磁界において動作するものであるから、これ
に用いられる磁性合金は高周波磁界における実効
透磁率が大きいことが必要とされ、また磁気テー
プが接触して摺動するため耐摩耗性が良好である
ことが望まれている。現在、耐摩耗性にすぐれた
磁性ヘツド用磁性合金としてはセンダスト(Fe
−Si−Al系合金)およびフエライト(MnO−
ZnO−Fe2O3)があるが、これらは非常に硬く脆
いため、鍛造、圧延加工が不可能で、ヘツドコア
の製造には研削、研磨の方法が用いられており、
従つてその製品は高価である。またセンダストは
飽和磁束密度は大きいが薄板にできないので高周
波磁界における実効透磁率が比較的小さい。また
フエライトは実効透磁率は大きいが、飽和磁束密
度が約4000Gで小さいのが欠点である。他方パー
マロイ(Ni−Fe系合金)は飽和磁束密度は大き
いが、実効透磁率は小さく、また鍛造、圧延加工
および打抜きは容易で量産性にすぐれているが、
摩耗しやすいのが大きな欠点であり、これを改善
することが強く望まれている。 (発明が解決しようとする問題点) 本発明者らは、先にNi−Fe−Nb系合金は鍛造
加工が容易で硬度が高く、すぐれた高透磁率合金
であることから、磁気記録再生ヘツド用磁性合金
として好適であることを見い出し、これを特許出
願した(特公昭47−29690号)。その後本発明者ら
は、Ni−Fe−Nb系合金の摩耗について系統的な
研究を行つた結果、Ni−Fe−Nb系合金の摩耗は
硬度によつて一義的に決定されるものでなく、合
金の再結晶集合組織と緊密な関係があることが明
らかとなつた。 (問題点を解決するための手段) 本発明の特徴とする所は次の通りである。 第1発明 重量比にてNi60〜90%、Nb0.5〜14%、Pおよ
びSの合計0.001〜1%(但し、S0.1%以下Pお
よびSは0%を含まず)および残部Feと少量の
不純物とからなり、1KHzにおける実効透磁率
3000以上、飽和磁束密度4000G以上で、且つ
{110}<112>+{311}<112>の再結晶集合組織を
有する耐摩耗性高透磁率合金よりなる磁気記録再
生ヘツド。 第2発明 重量比にてNi60〜90%、Nb0.5〜14%、Pおよ
びSの合計0.001〜1%(但し、S0.1%以下Pお
よびSは0%を含まず)および残部Feを主成分
とし、副成分としてCr,Mo,Ge,Auをそれぞ
れ7%以下、Co,Vをそれぞれ10%以下、Wを
15%以下、Cu,Ta,Mnをそれぞれ25%以下、
Al,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,Ga,In,Tl,
Zn,Cd、希土類元素、白金族元素をそれぞれ5
%以下、Be,Ag,Sr,Baをそれぞれ3%下、
Bを1%以下の1種または2種以上の合計0.01〜
30%、少量の不純物とからなり、1KHzにおける
実効透磁率3000以上、飽和磁束密度4000G以上
で、且つ{110}<112>+{311}<112>の再結晶
集合組織を有する耐摩耗性高透磁率合金よりなる
磁気記録再生ヘツド。 (作 用) 一般に摩耗現象は合金結晶の方位によつて大き
な差異があり、結晶異方性が存在することが知ら
れているが、Ni−Fe−Nb系合金においては
{100}<001>再結晶集合組織は摩耗し易く、
{110}<112>とこの<112>方位を軸として多少
回転した{311}<112>の再結晶集合組織が耐摩
耗性にすぐれていることが明らかとなつた。すな
わち、Ni−Fe−Nb系合金は{110}<112>+
{311}<112>の再結晶集合組織を形成させること
によつて耐摩耗性が著しく向上することを見い出
したのである。 本発明者らはこの知見に基づいて、Ni−Fe−
Nb系合金の{110}<112>+{311}<112>の再結
晶集合組織を形成させるための研究を幾多遂行し
た結果、これにPおよびSの合計0.001〜1%
(但し、S0.1%以下、PおよびSは0%を含まず)
添加すると{100}<001>再結晶集合組織の発達
は抑制され、{110}<112>+{311}<112>の再結
晶集合組織の形成が著しく促進することを見い出
たのである。すなわちNi−Fe2元系合金は冷間圧
延加工すると{110}<112>+{112}<111>の加
工集合組織が生じるが、これを高温加熱すると
{100}<001>再結晶集合組織が発達することが知
られている。しかし、これにNbを添加すると積
層欠陥エネルギーが低下するが、さらにこれにP
およびSの合計0.001〜1%(但し、S0.1%以下
PおよびSは0%を含まず)添加すると、リン化
粉および硫化物が粒界に析出して粒界エネルギー
が低下して、二次再結晶において{100}<001>
再結晶集合組織の発達を強く抑制し、{100}<112
>+{311}<112>の再結晶集合組織の成長が優先
的に促進され、{100}<112>+{311}<112>の再
結晶集合組織が形成されて、耐摩耗性が著しく向
上する。またNi−Fe−Nb系合金にPおよびSを
添加すると硬いリン化物および硫化物がマトリツ
クス中にも析出し、耐摩耗性の向上に寄与すると
ともに、これらの弱強磁性および非強弱性の微細
なリン化物および硫化物の分散析出によつて磁区
が分割されて、交流磁界における渦電流損失が減
少し、このために実効透磁率が増大することも見
い出した。要するにNbとPおよびSの相乗的効
果により、{110}<112>+{311}<112>の再結晶
集合組織が発達するとともに実効透磁率が増大
し、耐摩耗性のすぐれた高透磁率合金が得られる
のである。 本発明の合金を造るには、Ni60〜90%、Nb0.5
〜14%、PおよびSの合計0.001〜1%(但し、
S0.1%以下PおよびSは0%を含まず)および残
部Feの適当量を空気中、好ましくは非酸化性雰
囲気(水素、アルゴン、窒素など)中あるいは真
空中において適当な溶解炉を用いて溶解する。或
いは又、上記合金に副成分としてCr,Mo,Ge,
Auの7%以下、Co,Vの10%以下、Wの15%以
下、Cu,Ta,Mnの25%以下、Al,Si,Ti,Zr,
Hf,Sn,Sb,Ga,In,Tl,Zn,Cd、希土類元
素、白金族元素の5%以下、Be,Ag,Sr,Ba
の3%以下、B1%以下の1種あるいは2種以上
の合計0.01〜30%の所定量を更に添加する。ま
た、鍛造性および加工性を改善する為、必要に応
じて脱酸剤としてC,Ca,Mg等を少量(各0.5
%以下)添加する。かくして得た混合物を充分に
撹拌して組成的に均一な溶融合金を造る。 次にこれを適当な形および大きさの鋳型に注入
して健全な鋳塊を得、さらにこれに高温において
鍛造あるいは熱間加工を施して適当な形状のも
の、例えば棒あるいは板となし、また、必要なら
ば600℃以上の温度で焼鈍する。次いでこれに冷
間圧延などの方法によつて加工率50%以上の冷間
加工を施し、目的の形状のもの、例えば厚さ0.1
mmの薄板を造る。次にその薄板から例えば外径45
mm、内径33mmの環状板を打抜き、これを水素中そ
の他の適当な非酸化性雰囲気(水素、アルゴン、
窒素など)中あるいは真空中で900℃以上融点以
下の温度で適当時間加熱し、ついで規則−不規則
格子変態点(約600℃)以上の温度から100℃/秒
〜1℃/時の組成に対応した適当な速度で冷却す
るかあるいはこれをさらに規則−不規則格子変態
点(約600℃)以下の温度で適当時間再加熱し、
冷却する。このようにして実効透磁率3000以上、
飽和磁束密度4000G以上を有し、且つ{110}<
112>+{311}<112>の再結晶集合組織を有した
耐摩耗性高透磁率合金が得られる。 次に本発明を図面につき説明する。 第1図は80%Ni−Fe−5%Nb−P系合金(但
し、P:S=10:1)について加工率90%の冷間
圧延し、1100℃で加熱した後1000℃/時の速度で
冷却した場合の再結晶集合組織および諸特性とP
およびS量との関係を示したものである。Ni−
Fe−Nb系合金は冷間圧延加工すると{110}<
112>+{112}<111>の加工集合組織が生じるが、
これを高温加熱すると{100}<001>と{110}<
112>+{311}<112>の再結晶集合組織が生成す
る。しかし、これにPおよびSを添加すると
{100}<001>再結晶集合組織の生成が抑制され、
{110}<112>+{311}<112>の再結晶集合組織が
発達し、それとともに摩耗量は減少する。また実
効透磁率はPおよびSの添加によつて増大する
が、PおよびSの1%以上では鍛造加工が困難と
なり好ましくない。第2図は80%Ni−Fe−5%
Nb−0.05%P−0.01%S合金について、1100℃で
加熱した場合の再結晶集合組織および諸特性と冷
間加工率との関係を示したもので、冷間加工率の
増加は{110}<112>+{311}<112>の再結晶集
合組織の発達をもたらし、耐摩耗性を向上させ、
実効透磁率を高める。第3図は80%Ni−Fe−5
%Nb−0.05%P−0.01S合金を冷間加工率85%で
圧延した後の加熱温度と再結晶集合組織および諸
特性との関係を示したもので、加熱温度の上昇と
ともに{112}<111>成分が減少し、{110}<112
>+{311}<112>が発達して耐摩耗性が向上し、
また実効透磁率は増大する。第4図は合金番号7
(81.5%Ni−Fe−2%Nb−0.155%P−0.22%S
合金)、合金番号45(79.3%Ni−Fe−7%Nb−
0.04%P−0.008%S−2%Mo合金)、合金番号
37(82%Ni−Fe−3.5%Nb−0.062%P−0.01%S
−5%V合金)について実効透磁率と冷却速度と
の関係およびこれをさらに再結晶集合組織を施し
た場合の実効透磁率(×印)を示したものであ
る。合金の組成に対応した最適冷却速度、最適加
熱温度および再加熱時間が存在することが判る。 第5図は80%Ni−Fe−5%Nb−0.05%P−
0.01%S合金にCr,Mo,Ge,AuあるいはCoを
添加した場合の磁気ヘツドの摩耗量および実効透
磁率の特性図で、Cr,Mo,Ge,AuあるいはCo
を添加すると、何れも実効透磁率は高くなり、摩
耗量は減少するが、Cr,Mo,GeあるいはAuの
7%以上では飽和磁束密度が4000G以下となり好
ましくない。またCo10%以上では残留磁気が大
きくなり、帯磁ノズルが増大するので好ましくな
い。 第6図は同じく80%Ni−Fe−5%Nb−0.05%
P−0.01%S合金にV,W,Cu,TaあるいはMn
を添加した場合の磁気ヘツドの摩耗量および実効
透磁率の特性図で、V,W,Cu,Taあるいは
Mnを添加すると、何れも実効透磁率は高くな
り、摩耗量は減少するが、Vを10%以上、Wを15
%以上、Cu,TaあるいはMnを25%以上添加す
ると飽和磁束密度が4000G以下となり好ましくな
い。 第7図は同じく80%Ni−Fe−5%Nb−0.05%
P−0.01%S合金にAl,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,
Sb,Ga,InあるいはTlを添加した場合の特性図
で、Al,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,Ga,Inあ
るいはTlを添加すると、何れも実効透磁率は高
くなり、摩耗量は減少するが、Si,Ti,Zr,Hf,
Ga,InあるいはTl5%以上では飽和磁束密度は
4000G以下となり、Al,SnあるいはSbが5%以
上では鍛造加工が困難となり好ましくない。 第8図は同じく80%Ni−Fe−5%Nb−0.05%
P−0.01%S合金にZn,Cd,La,Pt,Be,Ag,
Sr,BaあるいはBを添加した場合の特性図で、
Zn,Cd,La,Pt,Be,Ag,Sr,BaあるいはB
を添加すると、何れも実効透磁率は高くなり、摩
耗量は減少するが、Zn,Cd,La,Ptを5%以
上、Be,Sr,Baを3%以上添加すると飽和磁束
密度が4000G以下となり、Agを3%以上あるい
はBを1%以上添加すると鍛造加工が困難となり
好ましくない。 第9図は同じく8%Ni−Fe−5%Nb−0.05%
P−0.01%S合金を実施例1に準じて製造した場
合の熱間圧延加工の温度と再結晶集合組織および
摩耗量との関係を示す特性図である。80%Ni−
Fe−5%Nb−0.05P−0.01%S合金を約1000℃で
鍛造して厚さ7mmの板とした。さらに種々な加熱
温度で厚さ1.0mmまで熱間圧延加工し、ついで常
温で冷間圧延加工を施して0.1mmの薄板(冷間加
工率90%)とした。この薄板を1100℃の水素中で
2時間加熱後800℃/hrの速度で常温まで冷却し
た場合の熱間圧延加工の温度と再結晶集合組織お
よび摩耗量との関係を第9図に示した。熱間圧延
加工の温度が900℃以下では摩耗の激しい{112}
<111>成分が残留し摩耗量が大きいが、900℃〜
1000℃間の温度では{110}<112>と{311}<112
>成分の再結晶集合組織が発達し摩耗量が特に小
くなる。 本発明において、冷間加工は{110}<112>+
{112}<111>の集合組織を形成し、これを基とし
て{110}<112>+{311}<112>の再結晶集合組
織を発達させるために必要で、第1図および第2
図に見られるようにPおよびSの合計0.001%以
上において、特に加工率50%以上の冷間加工を施
した場合に{110}<112>+{311}<112>の再結
晶集合組織の発達が顕著で、耐摩耗性は著しく向
上し、その実効透磁率も高い。また上記の冷間加
工に次いで行われる加熱は、組織の均一化、加工
歪の除去とともに、{110}<112>+{311}<112>
の再結晶集合組織を発達させ、高い実効透磁率と
すぐれた耐摩耗性を得るために必要であるが、第
3図に見られるように特に900℃を超えの加熱に
よつて実効透磁率および耐摩耗性は顕著に向上す
る。 尚、上記の900℃以上1000℃以下の熱間圧延加
工と、冷間加工と、次いで行われる900℃以上融
点以下の加熱を繰り返し行うことは、{110}<112
>+{311}<112>の再結晶集合組織の集積度を高
め、耐摩耗性を向上させるために有効である。こ
の場合最終冷間加工の加工率が50%以下でも
{110}<112>+{311}<112>の再結晶集合組織が
得られるが、本発明の技術的思想に包含されるも
のである。したがつて、本発明の冷間加工率は、
全製造工程における冷間加工を総計した加工率を
意味し、最終冷間加工率のみを意味するものでは
ない。 上記の900℃以上融点以下の温度から規則−不
規則格子変態点(約600℃)以上温度までの冷却
は、急冷しても徐冷しても得られる磁性は大した
変りはないが、第4図に見られるようにこの変態
点以下の冷却速度は磁性に大きな影響を及ぼす。
すなわちこの変態点上の温度より100℃/秒〜1
℃/時の組成に対応した適当な速度で常温迄冷却
することにより、地の規則度が適度に調整され、
すぐれた磁性が得られる。そして上記の冷却速度
の内100℃/秒に近い速度で冷却すると、規則度
が小さくなり、これ以上速く冷却すると規則化が
進まず、規則度はさらに小さくなり磁性は劣化す
る。しかし、その規則度の小さい合金をその変態
点以下の200℃〜600℃に組成に対応して、1分間
以上100時間以下再加熱し冷却すると、規則化が
進んで適度な規則度となり磁性は向上する。他
方、上記の変態点以上の温度から、例えば1℃/
時以下の速度で徐冷すると、規損化は進みすぎ、
磁性は低下する。 尚、上記の熱処理を水素が存在する雰囲気中で
施すことは、実効透磁率を高めるのに特に効果が
あるので好ましい。 (実施例) 次に本発明を実施例につき説明する。 実施例 1 合金番号10(組成Ni=80%,Nb=5%,P=
0.05%,S=0.01%、Fe=残部)の合金の製造 原料として99.8%純度の電解ニツケル、99.9%
純度の電解鉄、99.8%純度のニオブ、99.5%純度
の硫黄およびリン20%のニツケル−リン母合金を
用いた。試料を造るには、原料を全重量800gで
アルミナ坩堝に入れ、真空中で高周波誘導電気炉
によつて溶かした後、よく撹拌して均質な溶融合
金とした。次にこれを直径25mm、高さ170mmの孔
をもつ鋳型に注入し、得られた鋳塊を約1000℃で
鍛造して厚さ約7mmの板とした。さらに約900℃
を超え1000℃以下の温度で適当な厚さまで熱間圧
延し、ついで常温で種々な加工率で冷間圧延を施
して0.1mmの薄板とし、それから外径45mm、内径
33mmの環状板を打ち抜いた。 次にこれに種々な熱処理を施して、磁気特性お
よび磁気ヘツドのコアとして使用した場合湿度80
%、温度40℃においてCrO2磁気テープによる200
時間走行後の摩耗量をタリサーフ表面粗さ計で測
定を行い、第1表のような特性を得た。
摩耗性高透磁率の磁気記録再生ヘツドおよびNi,
Nb,P,SおよびFeを主成分とし、副成分とし
てCr,Mo,Ge,Au,Co,V,W,Cu,Ta,
Mn,Al,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,Ga,In,
Tl,Zn,Cd、希土類元素、白金族元素、Be,
Ag,Sr,Ba,Bの1種または2種以上を含有す
る耐摩耗性高透磁率の磁気記録再生ヘツドに関す
るもので、その目的とするところは、鍛造加工が
容易で、実効透磁率が大きく、飽和磁束密度が
4000G以上で、{110}<112>+{311}<112>の再
結晶集合組織を有する耐摩耗性高透磁率の磁気記
録再生ヘツドに関するものである。 (従来の技術) テープレコーダーなどの磁気記録再生ヘツドは
交流磁界において動作するものであるから、これ
に用いられる磁性合金は高周波磁界における実効
透磁率が大きいことが必要とされ、また磁気テー
プが接触して摺動するため耐摩耗性が良好である
ことが望まれている。現在、耐摩耗性にすぐれた
磁性ヘツド用磁性合金としてはセンダスト(Fe
−Si−Al系合金)およびフエライト(MnO−
ZnO−Fe2O3)があるが、これらは非常に硬く脆
いため、鍛造、圧延加工が不可能で、ヘツドコア
の製造には研削、研磨の方法が用いられており、
従つてその製品は高価である。またセンダストは
飽和磁束密度は大きいが薄板にできないので高周
波磁界における実効透磁率が比較的小さい。また
フエライトは実効透磁率は大きいが、飽和磁束密
度が約4000Gで小さいのが欠点である。他方パー
マロイ(Ni−Fe系合金)は飽和磁束密度は大き
いが、実効透磁率は小さく、また鍛造、圧延加工
および打抜きは容易で量産性にすぐれているが、
摩耗しやすいのが大きな欠点であり、これを改善
することが強く望まれている。 (発明が解決しようとする問題点) 本発明者らは、先にNi−Fe−Nb系合金は鍛造
加工が容易で硬度が高く、すぐれた高透磁率合金
であることから、磁気記録再生ヘツド用磁性合金
として好適であることを見い出し、これを特許出
願した(特公昭47−29690号)。その後本発明者ら
は、Ni−Fe−Nb系合金の摩耗について系統的な
研究を行つた結果、Ni−Fe−Nb系合金の摩耗は
硬度によつて一義的に決定されるものでなく、合
金の再結晶集合組織と緊密な関係があることが明
らかとなつた。 (問題点を解決するための手段) 本発明の特徴とする所は次の通りである。 第1発明 重量比にてNi60〜90%、Nb0.5〜14%、Pおよ
びSの合計0.001〜1%(但し、S0.1%以下Pお
よびSは0%を含まず)および残部Feと少量の
不純物とからなり、1KHzにおける実効透磁率
3000以上、飽和磁束密度4000G以上で、且つ
{110}<112>+{311}<112>の再結晶集合組織を
有する耐摩耗性高透磁率合金よりなる磁気記録再
生ヘツド。 第2発明 重量比にてNi60〜90%、Nb0.5〜14%、Pおよ
びSの合計0.001〜1%(但し、S0.1%以下Pお
よびSは0%を含まず)および残部Feを主成分
とし、副成分としてCr,Mo,Ge,Auをそれぞ
れ7%以下、Co,Vをそれぞれ10%以下、Wを
15%以下、Cu,Ta,Mnをそれぞれ25%以下、
Al,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,Ga,In,Tl,
Zn,Cd、希土類元素、白金族元素をそれぞれ5
%以下、Be,Ag,Sr,Baをそれぞれ3%下、
Bを1%以下の1種または2種以上の合計0.01〜
30%、少量の不純物とからなり、1KHzにおける
実効透磁率3000以上、飽和磁束密度4000G以上
で、且つ{110}<112>+{311}<112>の再結晶
集合組織を有する耐摩耗性高透磁率合金よりなる
磁気記録再生ヘツド。 (作 用) 一般に摩耗現象は合金結晶の方位によつて大き
な差異があり、結晶異方性が存在することが知ら
れているが、Ni−Fe−Nb系合金においては
{100}<001>再結晶集合組織は摩耗し易く、
{110}<112>とこの<112>方位を軸として多少
回転した{311}<112>の再結晶集合組織が耐摩
耗性にすぐれていることが明らかとなつた。すな
わち、Ni−Fe−Nb系合金は{110}<112>+
{311}<112>の再結晶集合組織を形成させること
によつて耐摩耗性が著しく向上することを見い出
したのである。 本発明者らはこの知見に基づいて、Ni−Fe−
Nb系合金の{110}<112>+{311}<112>の再結
晶集合組織を形成させるための研究を幾多遂行し
た結果、これにPおよびSの合計0.001〜1%
(但し、S0.1%以下、PおよびSは0%を含まず)
添加すると{100}<001>再結晶集合組織の発達
は抑制され、{110}<112>+{311}<112>の再結
晶集合組織の形成が著しく促進することを見い出
たのである。すなわちNi−Fe2元系合金は冷間圧
延加工すると{110}<112>+{112}<111>の加
工集合組織が生じるが、これを高温加熱すると
{100}<001>再結晶集合組織が発達することが知
られている。しかし、これにNbを添加すると積
層欠陥エネルギーが低下するが、さらにこれにP
およびSの合計0.001〜1%(但し、S0.1%以下
PおよびSは0%を含まず)添加すると、リン化
粉および硫化物が粒界に析出して粒界エネルギー
が低下して、二次再結晶において{100}<001>
再結晶集合組織の発達を強く抑制し、{100}<112
>+{311}<112>の再結晶集合組織の成長が優先
的に促進され、{100}<112>+{311}<112>の再
結晶集合組織が形成されて、耐摩耗性が著しく向
上する。またNi−Fe−Nb系合金にPおよびSを
添加すると硬いリン化物および硫化物がマトリツ
クス中にも析出し、耐摩耗性の向上に寄与すると
ともに、これらの弱強磁性および非強弱性の微細
なリン化物および硫化物の分散析出によつて磁区
が分割されて、交流磁界における渦電流損失が減
少し、このために実効透磁率が増大することも見
い出した。要するにNbとPおよびSの相乗的効
果により、{110}<112>+{311}<112>の再結晶
集合組織が発達するとともに実効透磁率が増大
し、耐摩耗性のすぐれた高透磁率合金が得られる
のである。 本発明の合金を造るには、Ni60〜90%、Nb0.5
〜14%、PおよびSの合計0.001〜1%(但し、
S0.1%以下PおよびSは0%を含まず)および残
部Feの適当量を空気中、好ましくは非酸化性雰
囲気(水素、アルゴン、窒素など)中あるいは真
空中において適当な溶解炉を用いて溶解する。或
いは又、上記合金に副成分としてCr,Mo,Ge,
Auの7%以下、Co,Vの10%以下、Wの15%以
下、Cu,Ta,Mnの25%以下、Al,Si,Ti,Zr,
Hf,Sn,Sb,Ga,In,Tl,Zn,Cd、希土類元
素、白金族元素の5%以下、Be,Ag,Sr,Ba
の3%以下、B1%以下の1種あるいは2種以上
の合計0.01〜30%の所定量を更に添加する。ま
た、鍛造性および加工性を改善する為、必要に応
じて脱酸剤としてC,Ca,Mg等を少量(各0.5
%以下)添加する。かくして得た混合物を充分に
撹拌して組成的に均一な溶融合金を造る。 次にこれを適当な形および大きさの鋳型に注入
して健全な鋳塊を得、さらにこれに高温において
鍛造あるいは熱間加工を施して適当な形状のも
の、例えば棒あるいは板となし、また、必要なら
ば600℃以上の温度で焼鈍する。次いでこれに冷
間圧延などの方法によつて加工率50%以上の冷間
加工を施し、目的の形状のもの、例えば厚さ0.1
mmの薄板を造る。次にその薄板から例えば外径45
mm、内径33mmの環状板を打抜き、これを水素中そ
の他の適当な非酸化性雰囲気(水素、アルゴン、
窒素など)中あるいは真空中で900℃以上融点以
下の温度で適当時間加熱し、ついで規則−不規則
格子変態点(約600℃)以上の温度から100℃/秒
〜1℃/時の組成に対応した適当な速度で冷却す
るかあるいはこれをさらに規則−不規則格子変態
点(約600℃)以下の温度で適当時間再加熱し、
冷却する。このようにして実効透磁率3000以上、
飽和磁束密度4000G以上を有し、且つ{110}<
112>+{311}<112>の再結晶集合組織を有した
耐摩耗性高透磁率合金が得られる。 次に本発明を図面につき説明する。 第1図は80%Ni−Fe−5%Nb−P系合金(但
し、P:S=10:1)について加工率90%の冷間
圧延し、1100℃で加熱した後1000℃/時の速度で
冷却した場合の再結晶集合組織および諸特性とP
およびS量との関係を示したものである。Ni−
Fe−Nb系合金は冷間圧延加工すると{110}<
112>+{112}<111>の加工集合組織が生じるが、
これを高温加熱すると{100}<001>と{110}<
112>+{311}<112>の再結晶集合組織が生成す
る。しかし、これにPおよびSを添加すると
{100}<001>再結晶集合組織の生成が抑制され、
{110}<112>+{311}<112>の再結晶集合組織が
発達し、それとともに摩耗量は減少する。また実
効透磁率はPおよびSの添加によつて増大する
が、PおよびSの1%以上では鍛造加工が困難と
なり好ましくない。第2図は80%Ni−Fe−5%
Nb−0.05%P−0.01%S合金について、1100℃で
加熱した場合の再結晶集合組織および諸特性と冷
間加工率との関係を示したもので、冷間加工率の
増加は{110}<112>+{311}<112>の再結晶集
合組織の発達をもたらし、耐摩耗性を向上させ、
実効透磁率を高める。第3図は80%Ni−Fe−5
%Nb−0.05%P−0.01S合金を冷間加工率85%で
圧延した後の加熱温度と再結晶集合組織および諸
特性との関係を示したもので、加熱温度の上昇と
ともに{112}<111>成分が減少し、{110}<112
>+{311}<112>が発達して耐摩耗性が向上し、
また実効透磁率は増大する。第4図は合金番号7
(81.5%Ni−Fe−2%Nb−0.155%P−0.22%S
合金)、合金番号45(79.3%Ni−Fe−7%Nb−
0.04%P−0.008%S−2%Mo合金)、合金番号
37(82%Ni−Fe−3.5%Nb−0.062%P−0.01%S
−5%V合金)について実効透磁率と冷却速度と
の関係およびこれをさらに再結晶集合組織を施し
た場合の実効透磁率(×印)を示したものであ
る。合金の組成に対応した最適冷却速度、最適加
熱温度および再加熱時間が存在することが判る。 第5図は80%Ni−Fe−5%Nb−0.05%P−
0.01%S合金にCr,Mo,Ge,AuあるいはCoを
添加した場合の磁気ヘツドの摩耗量および実効透
磁率の特性図で、Cr,Mo,Ge,AuあるいはCo
を添加すると、何れも実効透磁率は高くなり、摩
耗量は減少するが、Cr,Mo,GeあるいはAuの
7%以上では飽和磁束密度が4000G以下となり好
ましくない。またCo10%以上では残留磁気が大
きくなり、帯磁ノズルが増大するので好ましくな
い。 第6図は同じく80%Ni−Fe−5%Nb−0.05%
P−0.01%S合金にV,W,Cu,TaあるいはMn
を添加した場合の磁気ヘツドの摩耗量および実効
透磁率の特性図で、V,W,Cu,Taあるいは
Mnを添加すると、何れも実効透磁率は高くな
り、摩耗量は減少するが、Vを10%以上、Wを15
%以上、Cu,TaあるいはMnを25%以上添加す
ると飽和磁束密度が4000G以下となり好ましくな
い。 第7図は同じく80%Ni−Fe−5%Nb−0.05%
P−0.01%S合金にAl,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,
Sb,Ga,InあるいはTlを添加した場合の特性図
で、Al,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,Ga,Inあ
るいはTlを添加すると、何れも実効透磁率は高
くなり、摩耗量は減少するが、Si,Ti,Zr,Hf,
Ga,InあるいはTl5%以上では飽和磁束密度は
4000G以下となり、Al,SnあるいはSbが5%以
上では鍛造加工が困難となり好ましくない。 第8図は同じく80%Ni−Fe−5%Nb−0.05%
P−0.01%S合金にZn,Cd,La,Pt,Be,Ag,
Sr,BaあるいはBを添加した場合の特性図で、
Zn,Cd,La,Pt,Be,Ag,Sr,BaあるいはB
を添加すると、何れも実効透磁率は高くなり、摩
耗量は減少するが、Zn,Cd,La,Ptを5%以
上、Be,Sr,Baを3%以上添加すると飽和磁束
密度が4000G以下となり、Agを3%以上あるい
はBを1%以上添加すると鍛造加工が困難となり
好ましくない。 第9図は同じく8%Ni−Fe−5%Nb−0.05%
P−0.01%S合金を実施例1に準じて製造した場
合の熱間圧延加工の温度と再結晶集合組織および
摩耗量との関係を示す特性図である。80%Ni−
Fe−5%Nb−0.05P−0.01%S合金を約1000℃で
鍛造して厚さ7mmの板とした。さらに種々な加熱
温度で厚さ1.0mmまで熱間圧延加工し、ついで常
温で冷間圧延加工を施して0.1mmの薄板(冷間加
工率90%)とした。この薄板を1100℃の水素中で
2時間加熱後800℃/hrの速度で常温まで冷却し
た場合の熱間圧延加工の温度と再結晶集合組織お
よび摩耗量との関係を第9図に示した。熱間圧延
加工の温度が900℃以下では摩耗の激しい{112}
<111>成分が残留し摩耗量が大きいが、900℃〜
1000℃間の温度では{110}<112>と{311}<112
>成分の再結晶集合組織が発達し摩耗量が特に小
くなる。 本発明において、冷間加工は{110}<112>+
{112}<111>の集合組織を形成し、これを基とし
て{110}<112>+{311}<112>の再結晶集合組
織を発達させるために必要で、第1図および第2
図に見られるようにPおよびSの合計0.001%以
上において、特に加工率50%以上の冷間加工を施
した場合に{110}<112>+{311}<112>の再結
晶集合組織の発達が顕著で、耐摩耗性は著しく向
上し、その実効透磁率も高い。また上記の冷間加
工に次いで行われる加熱は、組織の均一化、加工
歪の除去とともに、{110}<112>+{311}<112>
の再結晶集合組織を発達させ、高い実効透磁率と
すぐれた耐摩耗性を得るために必要であるが、第
3図に見られるように特に900℃を超えの加熱に
よつて実効透磁率および耐摩耗性は顕著に向上す
る。 尚、上記の900℃以上1000℃以下の熱間圧延加
工と、冷間加工と、次いで行われる900℃以上融
点以下の加熱を繰り返し行うことは、{110}<112
>+{311}<112>の再結晶集合組織の集積度を高
め、耐摩耗性を向上させるために有効である。こ
の場合最終冷間加工の加工率が50%以下でも
{110}<112>+{311}<112>の再結晶集合組織が
得られるが、本発明の技術的思想に包含されるも
のである。したがつて、本発明の冷間加工率は、
全製造工程における冷間加工を総計した加工率を
意味し、最終冷間加工率のみを意味するものでは
ない。 上記の900℃以上融点以下の温度から規則−不
規則格子変態点(約600℃)以上温度までの冷却
は、急冷しても徐冷しても得られる磁性は大した
変りはないが、第4図に見られるようにこの変態
点以下の冷却速度は磁性に大きな影響を及ぼす。
すなわちこの変態点上の温度より100℃/秒〜1
℃/時の組成に対応した適当な速度で常温迄冷却
することにより、地の規則度が適度に調整され、
すぐれた磁性が得られる。そして上記の冷却速度
の内100℃/秒に近い速度で冷却すると、規則度
が小さくなり、これ以上速く冷却すると規則化が
進まず、規則度はさらに小さくなり磁性は劣化す
る。しかし、その規則度の小さい合金をその変態
点以下の200℃〜600℃に組成に対応して、1分間
以上100時間以下再加熱し冷却すると、規則化が
進んで適度な規則度となり磁性は向上する。他
方、上記の変態点以上の温度から、例えば1℃/
時以下の速度で徐冷すると、規損化は進みすぎ、
磁性は低下する。 尚、上記の熱処理を水素が存在する雰囲気中で
施すことは、実効透磁率を高めるのに特に効果が
あるので好ましい。 (実施例) 次に本発明を実施例につき説明する。 実施例 1 合金番号10(組成Ni=80%,Nb=5%,P=
0.05%,S=0.01%、Fe=残部)の合金の製造 原料として99.8%純度の電解ニツケル、99.9%
純度の電解鉄、99.8%純度のニオブ、99.5%純度
の硫黄およびリン20%のニツケル−リン母合金を
用いた。試料を造るには、原料を全重量800gで
アルミナ坩堝に入れ、真空中で高周波誘導電気炉
によつて溶かした後、よく撹拌して均質な溶融合
金とした。次にこれを直径25mm、高さ170mmの孔
をもつ鋳型に注入し、得られた鋳塊を約1000℃で
鍛造して厚さ約7mmの板とした。さらに約900℃
を超え1000℃以下の温度で適当な厚さまで熱間圧
延し、ついで常温で種々な加工率で冷間圧延を施
して0.1mmの薄板とし、それから外径45mm、内径
33mmの環状板を打ち抜いた。 次にこれに種々な熱処理を施して、磁気特性お
よび磁気ヘツドのコアとして使用した場合湿度80
%、温度40℃においてCrO2磁気テープによる200
時間走行後の摩耗量をタリサーフ表面粗さ計で測
定を行い、第1表のような特性を得た。
【表】
実施例 2
合金番号45(組成Ni=79.3%,Nb=7%,P=
0.04%,S=0.008%,Mo=2%,Fe=残部)
の合金の製造 原料は実施例1と同じ高純度のニツケル、鉄お
よび99.8%純度のニオブ、硫黄、モリブデンとリ
ン10%の鉄−リン母合金を用いた。試料の製造法
は実施例1と同じである。試料に種々の熱処理を
施して磁気特性および磁気ヘツドのコアとして使
用した場合湿度80%、温度40℃においてCrO2に
よる200時間走行後の摩耗量の測定を行い、第2
表に示すような特性を得られた。 なお代表的な合金の特性は第3表に示す通りで
ある。
0.04%,S=0.008%,Mo=2%,Fe=残部)
の合金の製造 原料は実施例1と同じ高純度のニツケル、鉄お
よび99.8%純度のニオブ、硫黄、モリブデンとリ
ン10%の鉄−リン母合金を用いた。試料の製造法
は実施例1と同じである。試料に種々の熱処理を
施して磁気特性および磁気ヘツドのコアとして使
用した場合湿度80%、温度40℃においてCrO2に
よる200時間走行後の摩耗量の測定を行い、第2
表に示すような特性を得られた。 なお代表的な合金の特性は第3表に示す通りで
ある。
【表】
【表】
【表】
上記のように本発明合金は加工が容易で、耐摩
耗性にすぐれ、4000G以上の飽和磁束密度3000以
上の高い実効透磁率、低保磁力を有しているの
で、磁気記録再生ヘツドのコアおよびケース用磁
性合金として好適であるばかりでなく、耐摩耗性
および高透磁率を必要とする一般の電磁器機の磁
性材料としても好適である。 次に本発明において合金の組成をNi60〜90%、
Nb0.5〜14%、PおよびSの合計0.001〜1%(但
し、S0.1以下、PおよびSは0%を含まず)およ
び残部Feと限定し、これに副成として添加する
元素をCr,Mo,Ge,Auを7%以下、Co,Vを
10%以下、Wを15%以下、Cu,Ta,Mnを25%
以下、Al,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,Ga,In,
Tl、Zn,Cd、希土類元素、白金族元素を5%以
下、Be,Ag,Sr,Baを3%以下、Bを1%以
下の1種または2種以上の合計で0.01〜30%と限
定した理由は各実施例、第3表および図面で明ら
かなように、この組成範囲の実効透磁率は3000以
上、飽和磁束密度4000G以上で、且つ{110}<
112>+{311}<112>の再結晶集合組織を有し、
耐摩耗性がすぐれているが、この組成範囲をはず
れると磁性特性あるいは耐摩耗性が劣化するから
である。 すなわち、Ni0.5%以下およびPおよびSの合
計0.001%以下では{110}<112>+{311}<112>
の再結晶集合組織が充分発達しないので耐摩耗性
が悪く、Nb14%以上およびPおよびSの合計1
%以上およびS0.1%以上では鍛造加工が困難とな
り、また実効透磁率3000以下、飽和磁束密度
4000G以下になるからである。 そしてNi60〜90%、Nb0.5〜14%、PおよびS
の合計0.001〜1%(但し、S0.1%以下、Pおよ
びSは0%を含まず)および残部Feの組成範囲
の合金は、実効透磁率3000以上、飽和磁束密度
4000G以上で、耐摩耗性がすぐれ、且つ加工性が
良好であるが、一般にこれにさらにCr,Mo,
Ge,Au,W,V,Cu,Ta,Mn,Al,Zr,Si,
Ti,Hf,Ga,In,Tl,Zn,Cd、希土類元素、
白金族元素、Be,Ag,Sr,Ba,B等を添加す
ると特に実効透磁率を高める効果があり、Coを
添加すると特に飽和磁束密度を高める効果があ
り、Au,Mn,Ti,Co、希土類元素、Be,Sr,
Ba,Bを添加すると鍛造、加工を良好にする効
果があり、Al,Sn,Sb,Au,Ag,Ti,Zn,
Cd,Be,Ta,Vの添加および副成分の各元素の
リン化物および{110}<112>+{311}<112>の
再結晶集合組織を発達させ、耐摩耗性を向上する
効果がある。 (発明の効果) 要するに本発明合金は鍛造加工が容易で、
{110}<112>+{311}<112>の再結晶集合組織を
形成させることによつて耐摩耗性がすぐれ、飽和
磁束密度が4000G以上で、実効透磁率が高いの
で、磁気記録再生ヘツド用磁性合金として好適で
あるばかりでなく、耐摩耗性および高透磁率を必
要とする一般の電磁器機の磁性材料としても好適
である。
耗性にすぐれ、4000G以上の飽和磁束密度3000以
上の高い実効透磁率、低保磁力を有しているの
で、磁気記録再生ヘツドのコアおよびケース用磁
性合金として好適であるばかりでなく、耐摩耗性
および高透磁率を必要とする一般の電磁器機の磁
性材料としても好適である。 次に本発明において合金の組成をNi60〜90%、
Nb0.5〜14%、PおよびSの合計0.001〜1%(但
し、S0.1以下、PおよびSは0%を含まず)およ
び残部Feと限定し、これに副成として添加する
元素をCr,Mo,Ge,Auを7%以下、Co,Vを
10%以下、Wを15%以下、Cu,Ta,Mnを25%
以下、Al,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,Ga,In,
Tl、Zn,Cd、希土類元素、白金族元素を5%以
下、Be,Ag,Sr,Baを3%以下、Bを1%以
下の1種または2種以上の合計で0.01〜30%と限
定した理由は各実施例、第3表および図面で明ら
かなように、この組成範囲の実効透磁率は3000以
上、飽和磁束密度4000G以上で、且つ{110}<
112>+{311}<112>の再結晶集合組織を有し、
耐摩耗性がすぐれているが、この組成範囲をはず
れると磁性特性あるいは耐摩耗性が劣化するから
である。 すなわち、Ni0.5%以下およびPおよびSの合
計0.001%以下では{110}<112>+{311}<112>
の再結晶集合組織が充分発達しないので耐摩耗性
が悪く、Nb14%以上およびPおよびSの合計1
%以上およびS0.1%以上では鍛造加工が困難とな
り、また実効透磁率3000以下、飽和磁束密度
4000G以下になるからである。 そしてNi60〜90%、Nb0.5〜14%、PおよびS
の合計0.001〜1%(但し、S0.1%以下、Pおよ
びSは0%を含まず)および残部Feの組成範囲
の合金は、実効透磁率3000以上、飽和磁束密度
4000G以上で、耐摩耗性がすぐれ、且つ加工性が
良好であるが、一般にこれにさらにCr,Mo,
Ge,Au,W,V,Cu,Ta,Mn,Al,Zr,Si,
Ti,Hf,Ga,In,Tl,Zn,Cd、希土類元素、
白金族元素、Be,Ag,Sr,Ba,B等を添加す
ると特に実効透磁率を高める効果があり、Coを
添加すると特に飽和磁束密度を高める効果があ
り、Au,Mn,Ti,Co、希土類元素、Be,Sr,
Ba,Bを添加すると鍛造、加工を良好にする効
果があり、Al,Sn,Sb,Au,Ag,Ti,Zn,
Cd,Be,Ta,Vの添加および副成分の各元素の
リン化物および{110}<112>+{311}<112>の
再結晶集合組織を発達させ、耐摩耗性を向上する
効果がある。 (発明の効果) 要するに本発明合金は鍛造加工が容易で、
{110}<112>+{311}<112>の再結晶集合組織を
形成させることによつて耐摩耗性がすぐれ、飽和
磁束密度が4000G以上で、実効透磁率が高いの
で、磁気記録再生ヘツド用磁性合金として好適で
あるばかりでなく、耐摩耗性および高透磁率を必
要とする一般の電磁器機の磁性材料としても好適
である。
第1図は80%Ni−Fe−5%Nb−S合金の諸特
性とPおよびS量(但し、P:S=10:1)との
関係を示す特性図、第2図は80%Ni−Fe−5%
Nb−0.05%P−0.01%S合金の諸特性と冷間加工
率との関係を示す特性図、第3図は80%Ni−Fe
−5%Nb−0.05%P−0.01%S合金の諸特性と加
熱温度との関係を示す特性図、第4図は80%Ni
−Fe−5%Nb−0.05%P−0.01%S合金(合金
番号10)、79.3%Ni−Fe−7%Nb−0.04%P−
0.008%S−2%Mo合金(45)、および82%Ni−
Fe−3.5%Nb−0.062%P−0.01%S−5%V合金
(37)の実効透磁率と冷却速度、再加熱温度およ
び再加熱時間との関係を示す特性図、第5図は80
%Ni−Fe−5%Nb−0.05%P−0.01%S合金に
Cr,Mo,Ge,AuあるいはCoを添加した場合の
諸特性と各元素の添加量との関係を示す特性図、
第6図は80%Ni−Fe−5%Nb−0.05%P−0.01
%S合金にV,W,Cu,TaあるいはMnを添加
した場合の諸特性と各元素の添加量との関係を示
す特性図、第7図は80%Ni−Fe−5%Nb−0.05
%P−0.01%S合金にAl,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,
Sb,Ga,InあるいはTlを添加した場合の諸特性
と各元素の添加量との関係を示す特性図、第8図
は80%Ni−Fe−5%Nb−0.05%P−0.01%S合
金にZn,Cd,La,Pt,Be,Ag,Sr,Baあるい
はBを添加した場合の諸特性と各元素の添加量と
の関係を示す特性図、第9図は80%Ni−Fe−5
%Nb−0.05%P−0.01%S合金の熱間圧延加工温
度と再結晶集合組織および摩耗量との関係を示す
特性図である。
性とPおよびS量(但し、P:S=10:1)との
関係を示す特性図、第2図は80%Ni−Fe−5%
Nb−0.05%P−0.01%S合金の諸特性と冷間加工
率との関係を示す特性図、第3図は80%Ni−Fe
−5%Nb−0.05%P−0.01%S合金の諸特性と加
熱温度との関係を示す特性図、第4図は80%Ni
−Fe−5%Nb−0.05%P−0.01%S合金(合金
番号10)、79.3%Ni−Fe−7%Nb−0.04%P−
0.008%S−2%Mo合金(45)、および82%Ni−
Fe−3.5%Nb−0.062%P−0.01%S−5%V合金
(37)の実効透磁率と冷却速度、再加熱温度およ
び再加熱時間との関係を示す特性図、第5図は80
%Ni−Fe−5%Nb−0.05%P−0.01%S合金に
Cr,Mo,Ge,AuあるいはCoを添加した場合の
諸特性と各元素の添加量との関係を示す特性図、
第6図は80%Ni−Fe−5%Nb−0.05%P−0.01
%S合金にV,W,Cu,TaあるいはMnを添加
した場合の諸特性と各元素の添加量との関係を示
す特性図、第7図は80%Ni−Fe−5%Nb−0.05
%P−0.01%S合金にAl,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,
Sb,Ga,InあるいはTlを添加した場合の諸特性
と各元素の添加量との関係を示す特性図、第8図
は80%Ni−Fe−5%Nb−0.05%P−0.01%S合
金にZn,Cd,La,Pt,Be,Ag,Sr,Baあるい
はBを添加した場合の諸特性と各元素の添加量と
の関係を示す特性図、第9図は80%Ni−Fe−5
%Nb−0.05%P−0.01%S合金の熱間圧延加工温
度と再結晶集合組織および摩耗量との関係を示す
特性図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 重量比にてNi60〜90%、Nb0.5〜14%、Pお
よびSの合計0.001〜1%(但し、S0.1%以下、
PおよびSは0%を含まず)および残部Feと少
量の不純物とからなり、1KHzにおける実効透磁
率3000以上、飽和磁束密度4000G以上で、且つ
{110}<112>+{311}<112>の再結晶集合組織を
有する耐摩耗性高透磁率合金よりなる磁気記録再
生ヘツド。 2 重量比にてNi60〜90%、Nb0.5〜14%、Pお
よびSの合計0.001〜1%(但し、S0.1%以下、
PおよびSは0%を含まず)および残部Feを主
成分とし、副成分としてCr,Mo,Ge,Auをそ
れぞれ7%以下、Co,Vをそれぞれ10%以下、
Wを15%以下、Cu,Ta,Mnをそれぞれ25%以
下、Al,Si,Ti,Zr,Hf,Sn,Sb,Ga,In,
Tl,Zn,Cd、希土類元素、白金族元素をそれぞ
れ5%以下、Be,Ag,Sr,Baをそれぞれ3%
以下、Bを1%以下の1種または2種以上の合計
0.01〜30%、少量の不純物とからなり、1KHzに
おける実効透磁率3000以上、飽和磁束密度4000G
以上で、且つ{110}<112>+{311}<112>の再
結晶集合組織を有する耐摩耗性高透磁率合金より
なる磁気記録再生ヘツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1262701A JPH02138709A (ja) | 1989-10-07 | 1989-10-07 | 耐摩耗性高透磁率磁気記録再生ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1262701A JPH02138709A (ja) | 1989-10-07 | 1989-10-07 | 耐摩耗性高透磁率磁気記録再生ヘッド |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59211504A Division JPS6191340A (ja) | 1984-10-11 | 1984-10-11 | 耐摩耗性高透磁率合金およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02138709A JPH02138709A (ja) | 1990-05-28 |
| JPH0377645B2 true JPH0377645B2 (ja) | 1991-12-11 |
Family
ID=17379395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1262701A Granted JPH02138709A (ja) | 1989-10-07 | 1989-10-07 | 耐摩耗性高透磁率磁気記録再生ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02138709A (ja) |
-
1989
- 1989-10-07 JP JP1262701A patent/JPH02138709A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02138709A (ja) | 1990-05-28 |
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