JPH02146704A - 耐摩耗性高透磁率磁気記録再生ヘッド - Google Patents
耐摩耗性高透磁率磁気記録再生ヘッドInfo
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- JPH02146704A JPH02146704A JP1262695A JP26269589A JPH02146704A JP H02146704 A JPH02146704 A JP H02146704A JP 1262695 A JP1262695 A JP 1262695A JP 26269589 A JP26269589 A JP 26269589A JP H02146704 A JPH02146704 A JP H02146704A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、Ni、Nb、TaおよびFeよりなる耐摩耗
性高透磁率合金およびNi、Nb、TaおよびFeを主
成分とし、副成分としてCr+Mo+Ge+八u、Co
、V、へ、Cu、Mn、A Q +Si、Ti、Zr、
l(f、Sn、Sb、Ga、 In、T l 、Zr+
+Cd+希土類元素、白金族元素、Be+八gへSr+
Ba+Bの1種または2種以上を含有する耐摩耗性高透
磁率合金を用いた磁気記録再生ヘッドに関するもので、
その目的とするところは、鍛造加工が容易で、実効透磁
率が大きく、飽和磁束密度が4000 G以上で、(1
10}〈112>+ (311) d12>の再結晶集
合組織を有して耐摩耗性が良好な磁性合金よりなる磁気
記録再生へラドに関するものである。
性高透磁率合金およびNi、Nb、TaおよびFeを主
成分とし、副成分としてCr+Mo+Ge+八u、Co
、V、へ、Cu、Mn、A Q +Si、Ti、Zr、
l(f、Sn、Sb、Ga、 In、T l 、Zr+
+Cd+希土類元素、白金族元素、Be+八gへSr+
Ba+Bの1種または2種以上を含有する耐摩耗性高透
磁率合金を用いた磁気記録再生ヘッドに関するもので、
その目的とするところは、鍛造加工が容易で、実効透磁
率が大きく、飽和磁束密度が4000 G以上で、(1
10}〈112>+ (311) d12>の再結晶集
合組織を有して耐摩耗性が良好な磁性合金よりなる磁気
記録再生へラドに関するものである。
(従来の技術)
テープレコーダーなどの磁気記録再生ヘッドは交流磁界
において作動するものであるから、これに用いられる磁
性合金は高周波磁界における実効透磁率が大きいことが
必要とされ、また磁気テープが接触して摺動するため耐
摩耗性が良好であることが望まれている。現在、耐摩耗
性にすぐれた磁気ヘッド用磁性合金としてはセンダスト
(FeSt−AIl系合金)およびMn−Znフェライ
ト(MnO−ZnOFezes)があるが、これらは非
常に硬く脆いため、鍛造、圧延加工が不可能で、ヘッド
コアの製造には研削、研磨の方法が用いられており、従
ってその成品は高価である。またセンダストは飽和磁束
密度は大きいが薄板にできないので高周波磁界における
実効透磁率が比較的小さい。またフェライトは実効透磁
率は大きいが、飽和磁束密度が約4000 Gで小さい
のが欠点である。他方パーマロイ(Ni−Fe系合金)
は飽和磁束密度は大きいが、実効透磁率は小さく、また
鍛造、圧延加工および打抜きは容易で量産性にすぐれて
いるが、摩耗しやすいのが大きな欠点であり、これを改
善することが強く望まれている。
において作動するものであるから、これに用いられる磁
性合金は高周波磁界における実効透磁率が大きいことが
必要とされ、また磁気テープが接触して摺動するため耐
摩耗性が良好であることが望まれている。現在、耐摩耗
性にすぐれた磁気ヘッド用磁性合金としてはセンダスト
(FeSt−AIl系合金)およびMn−Znフェライ
ト(MnO−ZnOFezes)があるが、これらは非
常に硬く脆いため、鍛造、圧延加工が不可能で、ヘッド
コアの製造には研削、研磨の方法が用いられており、従
ってその成品は高価である。またセンダストは飽和磁束
密度は大きいが薄板にできないので高周波磁界における
実効透磁率が比較的小さい。またフェライトは実効透磁
率は大きいが、飽和磁束密度が約4000 Gで小さい
のが欠点である。他方パーマロイ(Ni−Fe系合金)
は飽和磁束密度は大きいが、実効透磁率は小さく、また
鍛造、圧延加工および打抜きは容易で量産性にすぐれて
いるが、摩耗しやすいのが大きな欠点であり、これを改
善することが強く望まれている。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明者らは、先にNi −Fe−Nb系およびNi−
FeTa系合金は鍛造加工が容易で硬度および透磁率が
大きいことから、磁気ヘッド用磁性合金として好適であ
ることを見い出し、これを特許出願した(特公昭47−
29690号および特公昭51−536号)。
FeTa系合金は鍛造加工が容易で硬度および透磁率が
大きいことから、磁気ヘッド用磁性合金として好適であ
ることを見い出し、これを特許出願した(特公昭47−
29690号および特公昭51−536号)。
その後本発明者らは、磁気ヘッド用磁性合金としてNi
−Re−Nb系およびN i −Fe −Ta系合金
の薄板を生産して来たが、磁気テープの摺動による薄板
の摩耗量は、薄板の製造工程における加工法および熱処
理法によって著しく増減して耐摩耗性が損われる大きな
問題であることから、この原因を解明するためこれら合
金の摩耗について系統的な研究を行った。その結果、N
i −Fe−Nb系およびNiFe−Ta系合金の摩耗
は硬度によって一義的に決定されるものでなく、薄板の
製造方法に依存する再結晶集合組織と緊密な関係がある
ことが明らかとなった。
−Re−Nb系およびN i −Fe −Ta系合金
の薄板を生産して来たが、磁気テープの摺動による薄板
の摩耗量は、薄板の製造工程における加工法および熱処
理法によって著しく増減して耐摩耗性が損われる大きな
問題であることから、この原因を解明するためこれら合
金の摩耗について系統的な研究を行った。その結果、N
i −Fe−Nb系およびNiFe−Ta系合金の摩耗
は硬度によって一義的に決定されるものでなく、薄板の
製造方法に依存する再結晶集合組織と緊密な関係がある
ことが明らかとなった。
(問題点を解決するための手段)
本発明の特徴とする所は下記のとおりである。
第1発明
重量比にてNi60〜90%、NbおよびTaの合計0
.5〜20%(但し、Nb14%以下、NbおよびTa
は0%を含まず)および残部Feと少量の不純物とから
なり、I KHzにおける実効透磁率3000以上、飽
和磁束密度40000以上で、且つ(110) <11
2>+ (311) <112>の再結晶集合組織を有
する耐摩耗性高透磁率合金よりなる磁気記録再生ヘッド
。
.5〜20%(但し、Nb14%以下、NbおよびTa
は0%を含まず)および残部Feと少量の不純物とから
なり、I KHzにおける実効透磁率3000以上、飽
和磁束密度40000以上で、且つ(110) <11
2>+ (311) <112>の再結晶集合組織を有
する耐摩耗性高透磁率合金よりなる磁気記録再生ヘッド
。
第2発明
重量比にてNi60〜90%、NbおよびTaの合計0
.5〜20%(但し、Nb14%以下、NbおよびTa
は0%を含まず)および残部Feを主成分とし、副成分
としてCr+ Mo、 Ge、八Uをそれぞれ7%以下
、Co、Vをそれぞれ10%以下、Wを15%以下、C
u、 Mnをそれぞれ25%以下、八42 +5i4i
、Zr、Hf、Sr++Sb、Ga、 In、Tj2Z
n、Cd、希土類元素、白金族元素をそれぞれ5%以下
、Be+ Ag、 Sr+ Baをそれぞれ3%以下、
Bを1%以下の1種または2種以上の合計0.01〜3
0%、少量の不純物とからなりl Ktlzにおける実
効透磁率3000以上、飽和磁束密度40000以上で
、且つ(1101<112>+ (311) <112
>の再結晶集合組織を有する耐摩耗性高透磁率合金より
なる磁気記録再生ヘッド。
.5〜20%(但し、Nb14%以下、NbおよびTa
は0%を含まず)および残部Feを主成分とし、副成分
としてCr+ Mo、 Ge、八Uをそれぞれ7%以下
、Co、Vをそれぞれ10%以下、Wを15%以下、C
u、 Mnをそれぞれ25%以下、八42 +5i4i
、Zr、Hf、Sr++Sb、Ga、 In、Tj2Z
n、Cd、希土類元素、白金族元素をそれぞれ5%以下
、Be+ Ag、 Sr+ Baをそれぞれ3%以下、
Bを1%以下の1種または2種以上の合計0.01〜3
0%、少量の不純物とからなりl Ktlzにおける実
効透磁率3000以上、飽和磁束密度40000以上で
、且つ(1101<112>+ (311) <112
>の再結晶集合組織を有する耐摩耗性高透磁率合金より
なる磁気記録再生ヘッド。
(作 用)
一般に摩耗現象は合金の結晶方位によって大きな差異が
あり、結晶異方性が存在することが知られているが、本
発明者らはNi −Fe−Nb系およびNiFe−Ta
系合金においては、(100) <001>結晶方位は
摩耗し易しく、(110) <112>とこの<112
>方向を軸として多少回転した(311) <112>
結晶方位が耐摩耗性にすぐれていることを見い出した。
あり、結晶異方性が存在することが知られているが、本
発明者らはNi −Fe−Nb系およびNiFe−Ta
系合金においては、(100) <001>結晶方位は
摩耗し易しく、(110) <112>とこの<112
>方向を軸として多少回転した(311) <112>
結晶方位が耐摩耗性にすぐれていることを見い出した。
すなわち、Ni −Fe−Nb系およびNi −Fe−
Ta系合金は(110) <112>+ (311)
<112>の再結晶集合組織を形成させることによって
耐摩耗性が著しく向上することを見い出したのである。
Ta系合金は(110) <112>+ (311)
<112>の再結晶集合組織を形成させることによって
耐摩耗性が著しく向上することを見い出したのである。
本発明者らはこの知見に基づいて、Ni −Fe−Nb
系およびNi −Fe−Ta系合金の(110) <1
12〉+{311) <112>再結晶集合組織を形成
させるための研究を幾多遂行した。すなわち、Ni−F
e二元系合金は冷間圧延加工すると(110) <11
2〉+{1121<112>の加工集合組織を生じるが
、これを高温加熱すると(100) <001>再結晶
集合組織が発達することが知られている。
系およびNi −Fe−Ta系合金の(110) <1
12〉+{311) <112>再結晶集合組織を形成
させるための研究を幾多遂行した。すなわち、Ni−F
e二元系合金は冷間圧延加工すると(110) <11
2〉+{1121<112>の加工集合組織を生じるが
、これを高温加熱すると(100) <001>再結晶
集合組織が発達することが知られている。
しかし、これにNbおよび/またはTaを添加すると積
層欠陥エネルギーが低下し、冷間加工率50%以上を施
した後、900°C以上の高温度で加熱することによっ
て(110) <112〉+{3111<112>再結
晶集合組織を効果的に形成させ、耐摩耗性を著しく向上
できることを見い出した。
層欠陥エネルギーが低下し、冷間加工率50%以上を施
した後、900°C以上の高温度で加熱することによっ
て(110) <112〉+{3111<112>再結
晶集合組織を効果的に形成させ、耐摩耗性を著しく向上
できることを見い出した。
また、Ni−Fe系合金にNbおよび/またはTaを添
加することによって比電気抵抗は増大し、結晶粒が微細
になるので、交流磁界における渦電流損失が減少し、こ
のため実効透磁率は増大する。要するにNbおよび/ま
たはTaの添加効果により、(110) <112>+
(311) <112>再結晶集合組織が発達すると
ともに実効透磁率が増大し、耐摩耗性のすくれた高透磁
率合金が得られるのである。
加することによって比電気抵抗は増大し、結晶粒が微細
になるので、交流磁界における渦電流損失が減少し、こ
のため実効透磁率は増大する。要するにNbおよび/ま
たはTaの添加効果により、(110) <112>+
(311) <112>再結晶集合組織が発達すると
ともに実効透磁率が増大し、耐摩耗性のすくれた高透磁
率合金が得られるのである。
本発明の合金を造るには、Ni60〜90%、Nbおよ
びTaの合計0.5〜20%(但し、Nb14%以下)
および残部Feの適当量を空気中、好ましくは非酸化性
雰囲気(水素、アルゴン、窒素など)中あるいは真空中
において適当な溶解炉を用いて溶解する。
びTaの合計0.5〜20%(但し、Nb14%以下)
および残部Feの適当量を空気中、好ましくは非酸化性
雰囲気(水素、アルゴン、窒素など)中あるいは真空中
において適当な溶解炉を用いて溶解する。
或は又、上記合金に副成分としてCr + M o +
G e +^Uの7%以下、Co、Vの10%以下、
Wの15%以下、Cu、Mnの25%以下、八〇 、S
i+Ti+Zr、If、Sn、Sb、Ga、 In、T
IZn、Cd、希土類元素、白金族元素の5%以下、
Be。
G e +^Uの7%以下、Co、Vの10%以下、
Wの15%以下、Cu、Mnの25%以下、八〇 、S
i+Ti+Zr、If、Sn、Sb、Ga、 In、T
IZn、Cd、希土類元素、白金族元素の5%以下、
Be。
Ag+Sr、Baの3%以下、81%以下の1種あるい
は2種以上の合計0.01〜30%の所定量を更に添加
する。かくして得た混合物を充分に撹拌して組成的に均
一な溶融合金を造る。また、鍛造性及び加工性を改善す
る為、必要に応じて脱酸剤としてC9Ca 、 Mg等
を少量(各0.5%以下)添加する。
は2種以上の合計0.01〜30%の所定量を更に添加
する。かくして得た混合物を充分に撹拌して組成的に均
一な溶融合金を造る。また、鍛造性及び加工性を改善す
る為、必要に応じて脱酸剤としてC9Ca 、 Mg等
を少量(各0.5%以下)添加する。
次にこれを適当な形および大きさの鋳型に注入して健全
な鋳塊を得、さらにこれに1000°C〜1200°C
の高温において鍛造あるいは熱間加工を施して適当な形
状のもの、例えば棒あるいは板となし、必要ならば焼鈍
する。次いでこれに冷間圧延などの方法によって加工率
50%以上の冷間加工を施し、目的の形状のもの、例え
ば厚さ0.1mmの薄板を造る。次にその薄板から例え
ば45闘、内径33闘の環状板を打抜き、これを水素中
その他の適当な非酸化性雰囲気(水素、アルゴン、窒素
など)中あるいは真空中で900°C以上融点以下の温
度で適当時間加熱し、ついで規則−不規則格子変態点(
約600’c )以上の温度から100°C/秒〜1°
C/時の組成に対応した適当な速度で冷却するかあるい
はこれをさらに規則−不規則格子変態点(約600°C
)以下の温度で適当時間再加熱し、冷却する。このよう
にして実効透磁率3000以上、飽和磁束密度4000
G以上を有し、且つ(110) <112〉+{311
}〈112>の再結晶集合組織を有した耐摩耗性高透磁
率合金が得られる。 次に本発明を図面につき説明する
。
な鋳塊を得、さらにこれに1000°C〜1200°C
の高温において鍛造あるいは熱間加工を施して適当な形
状のもの、例えば棒あるいは板となし、必要ならば焼鈍
する。次いでこれに冷間圧延などの方法によって加工率
50%以上の冷間加工を施し、目的の形状のもの、例え
ば厚さ0.1mmの薄板を造る。次にその薄板から例え
ば45闘、内径33闘の環状板を打抜き、これを水素中
その他の適当な非酸化性雰囲気(水素、アルゴン、窒素
など)中あるいは真空中で900°C以上融点以下の温
度で適当時間加熱し、ついで規則−不規則格子変態点(
約600’c )以上の温度から100°C/秒〜1°
C/時の組成に対応した適当な速度で冷却するかあるい
はこれをさらに規則−不規則格子変態点(約600°C
)以下の温度で適当時間再加熱し、冷却する。このよう
にして実効透磁率3000以上、飽和磁束密度4000
G以上を有し、且つ(110) <112〉+{311
}〈112>の再結晶集合組織を有した耐摩耗性高透磁
率合金が得られる。 次に本発明を図面につき説明する
。
第1図は79%Ni−Fe−Nb−Ta系合金(但し、
Nb:Ta−1: 1)について加工率90%の冷間圧
延し、1100°Cで加熱した後、800°C/時の速
度で冷却した場合の再結晶集合組織および諸特性とNb
およびTa量との関係を示したものである。
Nb:Ta−1: 1)について加工率90%の冷間圧
延し、1100°Cで加熱した後、800°C/時の速
度で冷却した場合の再結晶集合組織および諸特性とNb
およびTa量との関係を示したものである。
Ni −Fe−Nb−Ta系合金は冷間圧延加工すると
(110) <112>+ (112) <111>の
加工集合組織が生じるが、これを高温加熱すると(10
0}〈001>と(110) <112>+ (311
) <112>の再結晶集合組織が生成する。しかし、
これにNbおよびTaを添加すると(100) <00
1>再結晶集合組織の生成が抑制され、(110) <
112>+ (311}〈112>の再結晶集合組織が
発達し、それとともに摩耗量は減少する。また実効透磁
率はNbおよびTaの添加によって増大するが、Nbお
よびTaの合計0.5%以下ではその効果が少なく、ま
た20%以上では鍛造加工が困難となり好ましくない。
(110) <112>+ (112) <111>の
加工集合組織が生じるが、これを高温加熱すると(10
0}〈001>と(110) <112>+ (311
) <112>の再結晶集合組織が生成する。しかし、
これにNbおよびTaを添加すると(100) <00
1>再結晶集合組織の生成が抑制され、(110) <
112>+ (311}〈112>の再結晶集合組織が
発達し、それとともに摩耗量は減少する。また実効透磁
率はNbおよびTaの添加によって増大するが、Nbお
よびTaの合計0.5%以下ではその効果が少なく、ま
た20%以上では鍛造加工が困難となり好ましくない。
第2図は79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金に
ついて、1100″Cで加熱した場合の再結晶集合組織
および諸特性と冷間加工率との関係を示したもので、冷
間加工率の増加は(1101<112>+ (3111
<112>の再結晶集合組織の発達をもたらし、耐摩耗
性を向上させ、実効透磁率を高めるが加工率50%以上
において特に著しい。
ついて、1100″Cで加熱した場合の再結晶集合組織
および諸特性と冷間加工率との関係を示したもので、冷
間加工率の増加は(1101<112>+ (3111
<112>の再結晶集合組織の発達をもたらし、耐摩耗
性を向上させ、実効透磁率を高めるが加工率50%以上
において特に著しい。
第3図は79%Ni −Fe 5%Nb−5%Ta合
金を冷間加工率85%で圧延した後の加熱温度と再結晶
集合組織および緒特性との関係を示したもので、加熱温
度の上昇とともに(112+ <111>成分が減少し
く110) <112>+ (311) <112>が
発達して耐摩耗性が向上し、また実効透磁率は増大する
が、特に900″C以上において著しい。第4図は合金
番号64(80,3%Ni−Fe−2%Nb−2%Ta
−3χGe合金)、合金番号52(79,5%Ni−F
e−5%Nb−3%Ta−2%Mo合金)、合金番号2
1 (79%Ni−Fe−5%Nb5%Ta合金)につ
いて実効透磁率と冷却速度との関係およびこれらをさら
に再加熱処理を施した場合の実効透磁率(×印)を示し
たものである。合金の組成に対応した最適冷却速度、最
適再加熱温度および再加熱時間が存在することが判る。
金を冷間加工率85%で圧延した後の加熱温度と再結晶
集合組織および緒特性との関係を示したもので、加熱温
度の上昇とともに(112+ <111>成分が減少し
く110) <112>+ (311) <112>が
発達して耐摩耗性が向上し、また実効透磁率は増大する
が、特に900″C以上において著しい。第4図は合金
番号64(80,3%Ni−Fe−2%Nb−2%Ta
−3χGe合金)、合金番号52(79,5%Ni−F
e−5%Nb−3%Ta−2%Mo合金)、合金番号2
1 (79%Ni−Fe−5%Nb5%Ta合金)につ
いて実効透磁率と冷却速度との関係およびこれらをさら
に再加熱処理を施した場合の実効透磁率(×印)を示し
たものである。合金の組成に対応した最適冷却速度、最
適再加熱温度および再加熱時間が存在することが判る。
第5図は79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金に
Cr。
Cr。
Mo、Ge、AuあるいはCoを添加した場合の磁気ヘ
ッドの摩耗量及び実効透磁率の特性図で、Cr、 Mo
、 Get^UあるいはCoを添加すると、何れも実効
透磁率は高くなり、摩耗量は減少するが、Cr、Mo、
GeあるいはAuの7%以上では飽和磁束密度が400
0G以下となり好ましくない。またCo10%以上では
残留磁気が大きくなり、帯磁ノイズが増大するので、好
ましくない。
ッドの摩耗量及び実効透磁率の特性図で、Cr、 Mo
、 Get^UあるいはCoを添加すると、何れも実効
透磁率は高くなり、摩耗量は減少するが、Cr、Mo、
GeあるいはAuの7%以上では飽和磁束密度が400
0G以下となり好ましくない。またCo10%以上では
残留磁気が大きくなり、帯磁ノイズが増大するので、好
ましくない。
第6図は同じ<79%Ni −Fe 5%Nb−5%
Ta合金にV、 H,CuあるいはMnを添加した場合
の磁気ヘッドの摩耗量及び実効透磁率の特性図で、V、
W、Cu。
Ta合金にV、 H,CuあるいはMnを添加した場合
の磁気ヘッドの摩耗量及び実効透磁率の特性図で、V、
W、Cu。
TaあるいはMnを添加すると、何れも実効透磁率は高
くなり、摩耗量は減少するが、■を10%以上、Wを1
5%以上、Cu、TaあるいはMnを25%以上添加す
ると飽和磁束密度が4000G以下となり好ましくない
。
くなり、摩耗量は減少するが、■を10%以上、Wを1
5%以上、Cu、TaあるいはMnを25%以上添加す
ると飽和磁束密度が4000G以下となり好ましくない
。
第7図は同じり79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta
合金に八I+Si+Ti、Zr、Hf+Sn、Sb、G
a、 InあるいはTIを添加した場合の特性図で、八
l、Si、Ti、Zr+llf、Sn、Sb。
合金に八I+Si+Ti、Zr、Hf+Sn、Sb、G
a、 InあるいはTIを添加した場合の特性図で、八
l、Si、Ti、Zr+llf、Sn、Sb。
Ga、InあるいはT1を添加すると、何れも実効透磁
率は高くなり、摩耗量は減少するが、S++ Ti、Z
r+Hf、Ga、Inあるいは715%以上では飽和磁
束密度は4000G以下となり、AI、Snあるいはs
bが5%以上では鍛造加工が困難となり好ましくない。
率は高くなり、摩耗量は減少するが、S++ Ti、Z
r+Hf、Ga、Inあるいは715%以上では飽和磁
束密度は4000G以下となり、AI、Snあるいはs
bが5%以上では鍛造加工が困難となり好ましくない。
第8図は同じ<79%Ni −Fe 5%Nb−5%
Ta合金にZn+Cd、La、Pt、Be,Ag,Sr
,BaあるいはBを添加した場合の特性図で、Zn、C
d、La、Pt、Be、Ag、Sr、BaあるいはBを
添加すると、何れも実効透磁率は高くなり、摩耗量は減
少するが、Zn+Cd、La+Ptを5%以上、Be、
Sr+Baを3%以上添加すると飽和磁束密度が400
0 G以下となり、Agを3%以上あるいはBを1%以
上添加すると鍛造加工が困難となり好ましくない。
Ta合金にZn+Cd、La、Pt、Be,Ag,Sr
,BaあるいはBを添加した場合の特性図で、Zn、C
d、La、Pt、Be、Ag、Sr、BaあるいはBを
添加すると、何れも実効透磁率は高くなり、摩耗量は減
少するが、Zn+Cd、La+Ptを5%以上、Be、
Sr+Baを3%以上添加すると飽和磁束密度が400
0 G以下となり、Agを3%以上あるいはBを1%以
上添加すると鍛造加工が困難となり好ましくない。
本発明において、冷間加工は(110) <02〉+{
112) <111>の冷間加工集合組織を形成し、こ
れを基として(110) <112>+ (3111<
112>の再結晶集合組織を発達させるために必要で、
第1図および第2図に見られるようにNbおよびTaの
合計0.5%以上において、特に加工率50%以上の冷
間加工を施した場合に(110) <112>+ (3
11}〈112>の再結晶集合組織の発達が顕著で、耐
摩耗性は著るしく向上し、その実効透磁率も高い。
112) <111>の冷間加工集合組織を形成し、こ
れを基として(110) <112>+ (3111<
112>の再結晶集合組織を発達させるために必要で、
第1図および第2図に見られるようにNbおよびTaの
合計0.5%以上において、特に加工率50%以上の冷
間加工を施した場合に(110) <112>+ (3
11}〈112>の再結晶集合組織の発達が顕著で、耐
摩耗性は著るしく向上し、その実効透磁率も高い。
また上記の冷間加工に次いで行われる加熱は、組織の均
一化、加工歪の除去とともに、(110}〈112〉+
{311) <112>の再結晶集合組織を発達させ、
高い実効透磁率とすぐれた耐摩耗性を得るために必要で
あるが、第3図に見られるように特に900°C以上の
加熱によって実効透磁率および耐摩耗性は顕著に向上す
る。
一化、加工歪の除去とともに、(110}〈112〉+
{311) <112>の再結晶集合組織を発達させ、
高い実効透磁率とすぐれた耐摩耗性を得るために必要で
あるが、第3図に見られるように特に900°C以上の
加熱によって実効透磁率および耐摩耗性は顕著に向上す
る。
尚、上記の冷間加工と、次いで行われる900°C以上
融点以下の加熱を繰り返し行うことは、(110) <
112>+ (311) <112>の再結晶集合組織
の集積度を高め、耐摩耗性を向上させるために有効であ
る。この場合は最終冷間加工の加工率が50%以下でも
(110) <112>+ (311) <112>再
結晶集合組織が得られるが、本発明の技術的思想に包含
されるものである。したがって、本発明の冷間加工率は
、全製造工程における冷間加工を総計した加工率を意味
し、最終冷間加工率のみを意味するものではない。
融点以下の加熱を繰り返し行うことは、(110) <
112>+ (311) <112>の再結晶集合組織
の集積度を高め、耐摩耗性を向上させるために有効であ
る。この場合は最終冷間加工の加工率が50%以下でも
(110) <112>+ (311) <112>再
結晶集合組織が得られるが、本発明の技術的思想に包含
されるものである。したがって、本発明の冷間加工率は
、全製造工程における冷間加工を総計した加工率を意味
し、最終冷間加工率のみを意味するものではない。
上記の900’C以上融点以下の温度から規則−不規則
格子変態点(約600°C)以上の温度までの冷却は、
急冷しても徐冷しても得られる磁性には大した変りはな
いが、第4図に見られるようにこの変態点以下の冷却速
度は磁性に大きな影響を及ぼす。すなわちこの変態点以
下の温度より100’C/秒〜1°C/時の組成に対応
した適当な速度で常温迄冷却することにより、地の規則
度が適度に調整され、すぐれた磁性が得られる。そして
上記の冷却速度の内100°C/秒に近い速度で急冷す
ると、規則度が小さくなり、これ以上速く冷却すると規
則化が進まず、規則度はさらに小さくなり磁性は劣化す
る。しかし、その規則度の小さい合金をその変態点以下
の200〜600’Cに組成に対応して、1分間以上1
00時間以下再加熱し冷却すると、規則化が進んで適度
な規則度となり磁性は向上する。
格子変態点(約600°C)以上の温度までの冷却は、
急冷しても徐冷しても得られる磁性には大した変りはな
いが、第4図に見られるようにこの変態点以下の冷却速
度は磁性に大きな影響を及ぼす。すなわちこの変態点以
下の温度より100’C/秒〜1°C/時の組成に対応
した適当な速度で常温迄冷却することにより、地の規則
度が適度に調整され、すぐれた磁性が得られる。そして
上記の冷却速度の内100°C/秒に近い速度で急冷す
ると、規則度が小さくなり、これ以上速く冷却すると規
則化が進まず、規則度はさらに小さくなり磁性は劣化す
る。しかし、その規則度の小さい合金をその変態点以下
の200〜600’Cに組成に対応して、1分間以上1
00時間以下再加熱し冷却すると、規則化が進んで適度
な規則度となり磁性は向上する。
他方、上記の変態点以上の温度から、例えば1°C/時
以下の速度で徐冷すると、規則化は進みすぎ、磁性は低
下する。
以下の速度で徐冷すると、規則化は進みすぎ、磁性は低
下する。
尚、上記の熱処理を水素が存在する雰囲気中で施すこと
は、実効透磁率を高めるのに特に効果があるので好まし
い。
は、実効透磁率を高めるのに特に効果があるので好まし
い。
(実施例)
次に本発明を実施例につき説明する。
第 1
表
実省l津1
合金番号21(組成Ni−79%、Nb=5%、Ta=
5%+Fe=残部)の合金の製造 原料として99.8%純度の電解ニッケル、99.9%
純度の電解鉄、99.8%純度のニオブおよびタンタル
を用いた。試料を造るには、原料を全重量800gでア
ルミナ坩堝に入れ、真空中で高周波誘導電気炉によって
溶かした後、よく撹拌して均質な溶融合金とした。次に
これを直径25mm、高さ170mmの孔をもつ鋳型に
注入し、得られた鋳塊を約1100°Cで鍛造して厚さ
7mmの板とした。さらに1000″C〜1200°C
の間で適当な厚さまで熱間圧延し、ついで常温で種々な
加工率で冷間圧延を施して0.1mmの薄板とし、それ
から外径45mm、内径33mmの環状板を打ち抜いた
。
5%+Fe=残部)の合金の製造 原料として99.8%純度の電解ニッケル、99.9%
純度の電解鉄、99.8%純度のニオブおよびタンタル
を用いた。試料を造るには、原料を全重量800gでア
ルミナ坩堝に入れ、真空中で高周波誘導電気炉によって
溶かした後、よく撹拌して均質な溶融合金とした。次に
これを直径25mm、高さ170mmの孔をもつ鋳型に
注入し、得られた鋳塊を約1100°Cで鍛造して厚さ
7mmの板とした。さらに1000″C〜1200°C
の間で適当な厚さまで熱間圧延し、ついで常温で種々な
加工率で冷間圧延を施して0.1mmの薄板とし、それ
から外径45mm、内径33mmの環状板を打ち抜いた
。
つぎにこれに種々な熱処理を施して、磁気特性ならびに
磁気ヘッドのコアとして使用した場合湿度80%、40
″CにおいてCrO□磁気テープによる200時間時間
後の摩耗量をタリサーフ表面粗さ計で測定を行い、第1
表のような特性を得た。
磁気ヘッドのコアとして使用した場合湿度80%、40
″CにおいてCrO□磁気テープによる200時間時間
後の摩耗量をタリサーフ表面粗さ計で測定を行い、第1
表のような特性を得た。
実11津罎
合金番号52(組成N1=79.5%、Nb=5%。
Ta=3%、 Mo−2%、 Fe=残部)の合金の製
造原料は実施例1と同じ純度でニッケル、鉄、ニオブ、
タンタル99.8%純度のモリブデンおよびニオブ65
%、タンタル5%を含むフェロニオブ合金を用いた。試
料の製造法は実施例1と同じである。
造原料は実施例1と同じ純度でニッケル、鉄、ニオブ、
タンタル99.8%純度のモリブデンおよびニオブ65
%、タンタル5%を含むフェロニオブ合金を用いた。試
料の製造法は実施例1と同じである。
試料に種々の熱処理を施して磁気特性および磁気ヘッド
のコアとして使用した場合湿度80%、温度40°Cに
おいてCrO□磁気テープによる200時間時間後の摩
耗量の測定を行い、第2表に示すような特性が得られた
。
のコアとして使用した場合湿度80%、温度40°Cに
おいてCrO□磁気テープによる200時間時間後の摩
耗量の測定を行い、第2表に示すような特性が得られた
。
なお代表的な合金の特性は第3表に示すとおりである。
本発明において、50%以上の冷間加工の処理前に、1
000°Cを超え1200°C以下の温度で熱間圧延す
ると、次いで施される加工率50%以上の冷間加工なら
びに900°C以上の温度における熱処理によりもたら
される(110) <112>+ (311}〈112
>の再結晶集合組織の生成および耐摩耗性に強く影響す
る。
000°Cを超え1200°C以下の温度で熱間圧延す
ると、次いで施される加工率50%以上の冷間加工なら
びに900°C以上の温度における熱処理によりもたら
される(110) <112>+ (311}〈112
>の再結晶集合組織の生成および耐摩耗性に強く影響す
る。
実施例3
79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金を本願実施
例1に準じて製造し、約1000°Cで鍛造して厚さ7
Mの板とした。さらに種々な加熱温度で厚さ1.0mm
まで熱間圧延加工し、次いで常温で冷間圧延加工を施し
て0.1mmの薄板(冷間加工率90%)とした。この
薄板を1100’Cの水素中で2時間加熱後800°C
/hrの速度で常温まで冷却した場合の熱間圧延加工の
温度と再結晶集合組織および摩耗量との関係を第9図に
示した。熱間圧延加工の温度が1000°C以下では(
112) <111>が残留し摩耗量が大きいが、10
00’C〜1200°C間の温度では(110) <1
12〉+{311) <112>が発達し摩耗量が特に
小さくなる。
例1に準じて製造し、約1000°Cで鍛造して厚さ7
Mの板とした。さらに種々な加熱温度で厚さ1.0mm
まで熱間圧延加工し、次いで常温で冷間圧延加工を施し
て0.1mmの薄板(冷間加工率90%)とした。この
薄板を1100’Cの水素中で2時間加熱後800°C
/hrの速度で常温まで冷却した場合の熱間圧延加工の
温度と再結晶集合組織および摩耗量との関係を第9図に
示した。熱間圧延加工の温度が1000°C以下では(
112) <111>が残留し摩耗量が大きいが、10
00’C〜1200°C間の温度では(110) <1
12〉+{311) <112>が発達し摩耗量が特に
小さくなる。
すなわち、本発明では熱間圧延加工の温度によって、最
終的に得られる合金の耐摩耗性が大きく影響されるので
ある。
終的に得られる合金の耐摩耗性が大きく影響されるので
ある。
上記のように本発明合金は加工が容易で、耐摩耗性にす
ぐれ、4000 G以上の飽和磁束密度、3000以上
の高い実効透磁率、低保磁力を有しているので、磁気記
録再生ヘッドのコアおよびケース用磁性合金として好適
であるばかりでなく、耐摩耗性および高透磁率を必要と
する一般の電磁器機の磁性材料としても好適である。
ぐれ、4000 G以上の飽和磁束密度、3000以上
の高い実効透磁率、低保磁力を有しているので、磁気記
録再生ヘッドのコアおよびケース用磁性合金として好適
であるばかりでなく、耐摩耗性および高透磁率を必要と
する一般の電磁器機の磁性材料としても好適である。
次に零°発明において合金の組成をNi60〜90%、
NbおよびTaの合計0.5〜20%(但し、Nb14
%以下)および残部Feと限定し、これに副成分として
添加する元素をCr、 Mo、 Ge、 Auを7%以
下、Co、Vを10%以下、Wを15%以下、Cu、
Mnを25%以下、Al1゜Si、Ti、Zr、Hf、
Sn、Sb+Ga、 In、Ti2 、Zn、Cd、希
土類元素、白金族元素を5%以下、Be,Ag,Sr,
Baを3%以下、Bを1%以下の1種または2種以上の
合計で0.01〜30%と限定した理由は各実施例、第
3表および画面中箱5図ないし第8図で明らかなように
、この組成範囲の実効透磁率は3000以上、飽和磁束
密度4000 G以上で、且つ(110) <112〉
+{311) <112>の再結晶集合組織を有し、耐
摩耗性がすぐれているが、この組成範囲をはずれると磁
気特性あるいは耐摩耗性が劣化するからである。
NbおよびTaの合計0.5〜20%(但し、Nb14
%以下)および残部Feと限定し、これに副成分として
添加する元素をCr、 Mo、 Ge、 Auを7%以
下、Co、Vを10%以下、Wを15%以下、Cu、
Mnを25%以下、Al1゜Si、Ti、Zr、Hf、
Sn、Sb+Ga、 In、Ti2 、Zn、Cd、希
土類元素、白金族元素を5%以下、Be,Ag,Sr,
Baを3%以下、Bを1%以下の1種または2種以上の
合計で0.01〜30%と限定した理由は各実施例、第
3表および画面中箱5図ないし第8図で明らかなように
、この組成範囲の実効透磁率は3000以上、飽和磁束
密度4000 G以上で、且つ(110) <112〉
+{311) <112>の再結晶集合組織を有し、耐
摩耗性がすぐれているが、この組成範囲をはずれると磁
気特性あるいは耐摩耗性が劣化するからである。
すなわち、NbおよびTaの合計0.5%以下では(1
10) <112>十(3111<112>の再結晶集
合組織が充分発達しないので耐摩耗性が悪<、Nbおよ
びTaの合計20%以上およびNb14%以上では鍛造
加工が困難となり、また、飽和磁束密度4000 G以
上になるからである。
10) <112>十(3111<112>の再結晶集
合組織が充分発達しないので耐摩耗性が悪<、Nbおよ
びTaの合計20%以上およびNb14%以上では鍛造
加工が困難となり、また、飽和磁束密度4000 G以
上になるからである。
そしてNi60〜90%、NbおよびTaの合計0.5
〜20%(但し、Nb14%以下)および残部Feの組
成範囲の合金は、実効透磁率3000以上、飽和磁束密
度4000 G以上で、耐摩耗性がすぐれ、且つ加工性
が良好であるが、一般にこれにさらにCr、Mo、Ge
、Au。
〜20%(但し、Nb14%以下)および残部Feの組
成範囲の合金は、実効透磁率3000以上、飽和磁束密
度4000 G以上で、耐摩耗性がすぐれ、且つ加工性
が良好であるが、一般にこれにさらにCr、Mo、Ge
、Au。
J V+ Cu、 Mn + A N + Zr、 S
t + Ti + Hf + Ga、 In + T
!!、+ Zn + Cd+希土類元素、白金族元素、
Be,Ag,Sr,Ba、 B等を添加すると特に実効
透磁率を高める効果があり、C0を添加すると特に飽和
磁束密度を高める効果があり、Au+Mn+T’++
Co、希土類元素、白金族元素、Be。
t + Ti + Hf + Ga、 In + T
!!、+ Zn + Cd+希土類元素、白金族元素、
Be,Ag,Sr,Ba、 B等を添加すると特に実効
透磁率を高める効果があり、C0を添加すると特に飽和
磁束密度を高める効果があり、Au+Mn+T’++
Co、希土類元素、白金族元素、Be。
Sr、Ba、Bを添加すると鍛造、加工を良好にする効
果があり、八1 、Sn、Sb、Au+八gへTi、Z
n、Cd、Beおよび■の添加は(110) <112
〉+{311) <112>の再結晶集合組織を発達さ
せ、耐摩耗性を向上する効果がある。
果があり、八1 、Sn、Sb、Au+八gへTi、Z
n、Cd、Beおよび■の添加は(110) <112
〉+{311) <112>の再結晶集合組織を発達さ
せ、耐摩耗性を向上する効果がある。
(発明の効果)
要するに本発明合金は鍛造加工が容易で(110) <
112〉+{311) <112>の再結晶集合組織を
形成させることによって耐摩耗性がすぐれ、飽和磁束密
度が4000 G以上で、実効透磁率が高いので、磁気
記録再生ヘッド用磁性合金として好適であるばかりでな
く、耐摩耗性および高透磁率を必要とする一般の電磁器
機の磁性材料としても好適である。
112〉+{311) <112>の再結晶集合組織を
形成させることによって耐摩耗性がすぐれ、飽和磁束密
度が4000 G以上で、実効透磁率が高いので、磁気
記録再生ヘッド用磁性合金として好適であるばかりでな
く、耐摩耗性および高透磁率を必要とする一般の電磁器
機の磁性材料としても好適である。
第1図は79%Ni−Fe−Nb−Ta系合金の緒特性
とNbおよびTa量(但し、Nb:Ta量 1 : 1
)との関係を示す特性図、 第2図は79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金の
再結晶集合組織および緒特性と冷間加工率との関係を示
す特性図、 第3図ば79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金の
再結晶集合組織および緒特性と加熱温度との関係を示す
特性図、 第4図は80,3%Ni−Fe−2%Nb−2%Ta−
3%Ge合金(合金番号64) 、79.5%Ni−F
e−5%Nb−3%Ta−2%Mo合金(52)、およ
び79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金(21)
の実効透磁率と冷却速度、再加熱温度および再加熱時間
との関係を示す特性図、 第5図は79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金に
Cr、Mo。 Ge、 AuあるいはCoを添加した場合の緒特性と各
元素の添加量との関係を示す特性図、 第6図は79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金に
V、 W、 CuあるいはMnを添加した場合の緒特性
と各元素の添加量との関係を示す特性図、 第7図は79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金に
^1Si4i+Zr+Hf+Sn、Sb、Ga+Inあ
るいはTj2を添加した場合の緒特性と各元素の添加量
との関係を示す特性図、 第8図は79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金に
Zn、Cd。 La、 Pt、 Be、八g + Sr + Baある
いはBを添加した場合の緒特性と各元素の添加量との関
係を示す特性図、第9図は79χNi−Fe−5χNb
−5X Ta合金を実施例1により製造した時の熱間圧
延加工温度と再結晶集合組織の集積度との関係を示す特
性図である。
とNbおよびTa量(但し、Nb:Ta量 1 : 1
)との関係を示す特性図、 第2図は79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金の
再結晶集合組織および緒特性と冷間加工率との関係を示
す特性図、 第3図ば79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金の
再結晶集合組織および緒特性と加熱温度との関係を示す
特性図、 第4図は80,3%Ni−Fe−2%Nb−2%Ta−
3%Ge合金(合金番号64) 、79.5%Ni−F
e−5%Nb−3%Ta−2%Mo合金(52)、およ
び79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金(21)
の実効透磁率と冷却速度、再加熱温度および再加熱時間
との関係を示す特性図、 第5図は79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金に
Cr、Mo。 Ge、 AuあるいはCoを添加した場合の緒特性と各
元素の添加量との関係を示す特性図、 第6図は79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金に
V、 W、 CuあるいはMnを添加した場合の緒特性
と各元素の添加量との関係を示す特性図、 第7図は79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金に
^1Si4i+Zr+Hf+Sn、Sb、Ga+Inあ
るいはTj2を添加した場合の緒特性と各元素の添加量
との関係を示す特性図、 第8図は79%Ni−Fe−5%Nb−5%Ta合金に
Zn、Cd。 La、 Pt、 Be、八g + Sr + Baある
いはBを添加した場合の緒特性と各元素の添加量との関
係を示す特性図、第9図は79χNi−Fe−5χNb
−5X Ta合金を実施例1により製造した時の熱間圧
延加工温度と再結晶集合組織の集積度との関係を示す特
性図である。
Claims (2)
- 1.重量比にてNi60〜90%、NbおよびTaの合
計0.5〜20%(但し、Nb14%以下、Nbおよび
Taは0%を含まず)および残部Feと少量の不純物と
からなり、1KHzにおける実効透磁率3000以上、
飽和磁束密度4000G以上で、且つ{110}〈11
2〉+{311}〈112〉の再結晶集合組織を有する
耐摩耗性高透磁率合金よりなる磁気記録再生ヘッド。 - 2.重量比にてNi60〜90%、NbおよびTaの合
計0.5〜20%(但し、Nb14%以下、Nbおよび
Taは0%を含まず)および残部Feを主成分とし、副
成分としてCr,Mo,Ge,Auをそれぞれ7%以下
、Co,Vをそれぞれ10%以下、Wを15%以下、C
u,Mnをそれぞれ25%以下、Al,Si,Ti,Z
r,Hf,Sn,Sb,Ga,In,Tl,Zn,Cd
,希土類元素,白金族元素をそれぞれ5%以下、Be,
Ag,Sr,Baをそれぞれ3%以下、Bを1%以下の
1種または2種以上の合計0.01〜30%、少量の不
純物とからなり1KHzにおける実効透磁率3000以
上、飽和磁束密度4000G以上で、且つ{110}〈
112〉+{311}〈112〉の再結晶集合組織を有
する耐摩耗性高透磁率合金よりなる磁気記録再生ヘッド
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1262695A JPH0645839B2 (ja) | 1985-01-30 | 1989-10-07 | 耐摩耗性高透磁率磁気記録再生ヘッド |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60014556A JPS61174349A (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 | 耐摩耗性高透磁率合金およびその製造法ならびに磁気記録再生ヘツド |
| JP1262695A JPH0645839B2 (ja) | 1985-01-30 | 1989-10-07 | 耐摩耗性高透磁率磁気記録再生ヘッド |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60014556A Division JPS61174349A (ja) | 1985-01-30 | 1985-01-30 | 耐摩耗性高透磁率合金およびその製造法ならびに磁気記録再生ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02146704A true JPH02146704A (ja) | 1990-06-05 |
| JPH0645839B2 JPH0645839B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=26350507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1262695A Expired - Lifetime JPH0645839B2 (ja) | 1985-01-30 | 1989-10-07 | 耐摩耗性高透磁率磁気記録再生ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0645839B2 (ja) |
-
1989
- 1989-10-07 JP JP1262695A patent/JPH0645839B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0645839B2 (ja) | 1994-06-15 |
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