JPH02138448A - 耐摩耗性高透磁率合金の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、Ｎｉ、Ｎｂ、ＴａおよびＦｅを主成分とし、
副成分としてＣｒ、　Ｍｏ、　Ｇｅ、　Ａｕ、　Ｃｏ、
　Ｖ、　Ｈ，Ｃｕ＋　Ｍｎ＋八１へＳ：、Ｔｉ　。

Ｚｒ、Ｉｆ、Ｓｎ、Ｓｂ＋Ｇａ、　Ｉｎ、Ｔ　ｌ　、Ｚ
ｎ＋Ｃｄ＋希土類元素、白金族元素、Ｂｅ、Ａｇ、Ｓｒ
、Ｂａ、Ｂの１種または２種以上を含有する耐摩耗性高
透磁率合金の製造法に関するもので、その目的とすると
ころは、鍛造加工が容易で、実効透磁率が大きく、飽和
磁束密度が４０００Ｇ以上で、（１１０）　＜１１２＞
＋　（３１１）　＜１１２＞の再結晶集合組織を有して
耐摩耗性が良好な磁性合金を得るにある。

（従来の技術） テープレコーダーなどの磁気記録再生ヘッドは交流磁界
において作動するものであるから、これに用いられる磁
性合金は高周波磁界における実効透磁率が大きいことが
必要とされ、また磁気テープが接触して摺動するため耐
摩耗性が良好であることが望まれている。現在、耐摩耗
性にすぐれた磁気ヘッド用磁性合金としてはセンダスト
（Ｆｅ−Ｓｉ−Ａ　Ｉｔ系合金）およびＭｎ　−Ｚｎフ
ェライト（ＭｎＯ−ＺｎＯ−ＦｅｚＯｓ）があるが、こ
れらは非常に硬く脆いため、鍛造、圧延加工が不可能で
、ヘッドコアの製造には研削、研磨の方法が用いられて
おり、従ってその成品は高価である。またセンダストは
飽和磁束密度は大きいが薄板にできないので高周波磁界
における実効透磁率が比較的小さい。またフェライトは
実効透磁率は大きいが、飽和磁束密度が約４０００　Ｇ
で小さいのが欠点である。他方パーマロイ（Ｎｉ−Ｆｅ
系合金）は飽和磁束密度は大きいが、実効透磁率は小さ
く、また鍛造、圧延加工および打抜きは容易で量産性に
すぐれているが、摩耗しやすいのが大きな欠点であり、
これを改善することが強（望まれている。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明者らは、先にＮｉ−Ｆｅ−Ｎｂ系およびＮｉ−Ｆ
ｅ−Ｔａ系合金は鍛造加工が容易で硬度および透磁率が
大きいことから、磁気ヘッド用磁性合金として好適であ
ることを見い出し、これを特許出願した（特公昭４７−
２９６９０号および特公昭５１−５３６号）。

その後本発明者らは、磁気ヘッド用磁性合金としてＮｉ
−Ｆｅ−Ｎｂ系およびＮｉ−Ｆｅ−Ｔａ系合金の薄板を
殖産して来たが、磁気テープの摺動による薄板の摩耗量
は、薄板の製造工程における加工法および熱処理法によ
って著しく増減して耐摩耗性が損なわれる大きな問題で
あることから、この原因を解明するためこれら合金の摩
耗について系統的な研究を行った。その結果、Ｎｉ−Ｆ
ｅ−Ｎｂ系およびＮｉ−Ｆｅ　−Ｔａ系合金の摩耗は硬
度によって一義的に決定されるものでな（、薄板の製造
方法に依存する再結晶集合組織と緊密な関係があること
が明らかとなった。

（問題点を解決するための手段） 一般に摩耗現象は合金の結晶方位によって大きな差異が
あり、結晶異方性が存在することが知られているが、本
発明者らはＮｉ−Ｆｅ−Ｎｂ系およびＮｉ−ｒｅ　−Ｔ
ａ系合金においては、（１００）　＜００１＞結晶方位
は摩耗し易しく、（１１０）　＜１１２＞とこの＜１１
２＞方向を軸として多少回転した（３１１）　＜１１２
＞結晶方位が耐摩耗性にすぐれていることを見い出した
。

すなわち、Ｎｉ　−Ｆｅ−Ｎｂ系およびＮｉ−Ｆｅ−Ｔ
ａ系合金は（１１０）　＜１１２＞＋　（３１１）　＜
１１２＞の再結晶集合組織を形成させることによって耐
摩耗性が著しく向上することを見い出したのである。

本発明者らはこの知見に基づいて、旧−Ｆ’ｅ−Ｎｂ系
およびＮｉ　−Ｆｅ−Ｔａ系合金の（１１０）　＜１１
２〉＋｛３１１）　＜１１２＞再結晶集合組織を形成さ
せるための研究を幾多遂行した。すなわち、Ｎｉ　−Ｆ
ｅ二元系合金は冷間圧延加工すると（１１０）　＜１１
２＞＋　（１１２１＜１１２＞の加工集合組織を生じる
が、これを高温加熱すると（１００）　＜ｏｏｉ＞再結
晶集合組織が発達することが知られている。

しかし、これにＮｂおよび／またはＴａを添加すると積
層欠陥エネルギーが低下し、冷間加工率５０％以上を施
した後、９００℃以上の高温度で加熱することによって
（１１０）　＜１１２＞＋　（３１１）　＜１１２＞再
結晶集合組織を効果的に形成させ、耐摩耗性を著しく向
上できることを見い出した。

また、Ｎｉ−Ｆｅ系合金にＮｂおよび／またはＴａを添
加することによって比電気抵抗は増大し、結晶粒が微細
になるので、交流磁界における渦電流損失が減少し、こ
のため実効透磁率は増大する。要するにＮｂおよび／ま
たはＴａの添加効果により、（１１０）　＜１１２＞＋
　（３１１）　＜１１２＞再結晶集合組織が発達すると
ともに実効透磁率が増大し、耐摩耗性のすぐれた高透磁
率合金が得られるのである。

（作　用） 本発明の合金を造るには、Ｎｉ６０〜９Ｇ％、Ｎｂおよ
びＴａの合計０．５〜２０％（但し、Ｎｂ１４％以下）
および残部Ｆｅを主成分とし、副成分としてＣｒ、Ｍｃ
＋、Ｇｅ、Ａｕの７％以下、Ｃｏ、Ｖ（７）１０％以下
、Ｗの１５％以下、Ｃｕ＋Ｍｎの２５％以下、Ａ　Ｉ−
＋Ｓｔ＋Ｔｉ＋Ｚｒ＋Ｈｆ＋Ｓｎ＋Ｓｂ＋Ｇａ＋　Ｉｎ
、Ｔｊ！　ＩＺｎ、Ｃｄ、希土類元素、白金族元素の５
％以下、Ｂｅ。

Ａｇ、　Ｓｒ、Ｂａの３％以下、Ｂ１％以下の１種ある
いは２種以上の合計０．０１〜３０％の所定量を更に添
加する。かくして得た混合物を充分に撹拌して組成的に
均一な溶融合金を造る。また、鍛造性及び加工性を改善
するため、必要に応じて脱酸剤としてＣ，Ｃａ、　Ｍｇ
等を小ｆｆ１（各０．５％以下）添加する。

次にこれを適当な形および大きさの鋳型に注入して健全
な鋳塊を得、さらにこれに１０００℃〜１２００℃の高
温において鍛造あるいは熱間加工を施して適当な形状の
もの、例えば棒あるいは板となし、必要ならば焼鈍する
０次いでこれに冷間圧延などの方法によって加工率５０
％以上の冷間加工を施し、目的の形状のもの、例えば厚
さ０．１１の薄板を造る。次にその薄板から例えば４５
ｍｍ、内径３３ＩＩＩＩＩ＋の環状板を打抜き、これを
水素中その他の適当な非酸化性雰囲気（水素、アルゴン
、窒素など）中あるいは真空中で９００℃以上融点以下
の温度で適当時間加熱し、ついで規則−不規則格子変態
点（約６００”ｃ　）以上の温度から１００℃／秒〜１
℃／時の組成に対応した適当な速度で冷却するかあるい
はこれをさらに規則−不規則格子変態点（約６００℃）
以下の温度で適当時間再加熱し、冷却する。このように
して実効透磁率３０００以上、飽和磁束密度４０００Ｇ
以上を有し、且つ（１１０）　＜１１２＞＋　（３１１
｝〈１１２＞の再結晶集合組織をもった耐摩耗性高透磁
率合金が得られる。

次に本発明を図面につき説明する。

第１図は７９％Ｎｉ−Ｆｅ−Ｎｂ−Ｔａ系合金（但し、
Ｎｂ：Ｔａ　−１：　１　）について加工率９０％の冷
間圧延し、１１００℃で加熱した後、８００℃／時の速
度で冷却した場合の再結晶集合組織および緒特性とＮｂ
およびＴａ量との関係を示したものであるゆＮｉ　−Ｆ
ｅ−Ｎｂ−Ｔａ系合金は冷間圧延加工すると（１１０）
　＜１１２〉＋｛１１２）　＜１１１＞の加工集合組織
が生じるが、これを高温加熱すると（１００）　＜００
１＞と（１１０）　＜１１２＞＋　（３１１）　＜１１
２＞の再結晶集合組織が生成する。しかし、これにＮｂ
およびＴａを添加すると（１００）　＜００１＞再結晶
集合組織の生成が抑制され、［１１０）　＜１１２＞＋
　（３１１）　＜１１２＞の再結晶集合組織が発達し、
それとともに摩耗量は減少する。また実効透磁率はＮｂ
およびＴ８の添加によって増大するが、ＮｂおよびＴａ
の合計０．５％以下ではその効果が少なく、また２０％
以上では鍛造加工が困難となり好ましくない。

第２図は７９％Ｎｉ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ合金に
ついて、１１００℃で加熱した場合の再結晶集合組織お
よび緒特性と冷間加工率との関係を示したもので、冷間
加工率の増加は（１１０１＜１１２＞＋　（３１１）　
＜１１．２＞の再結晶集合組織の発達をもたらし、耐摩
耗性を向上させ、実効透磁率を高めるが加工率５０％以
上において特に著しい。

第３図は７９％Ｎｉ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ合金を
冷間加工率８５％で圧延した後の加熱温度と再結晶集合
組織および緒特性との関係を示したもので、加熱温度の
上昇とともに（ｉ１２）　＜１１１＞成分が減少しく１
１０）　＜１１２＞＋　（３１１）　＜１１２＞が発達
して耐摩耗性が向上し、また実効透磁率は増大するが、
特に１０００℃以上において著しい。

第４図は合金番号６４（８０，３％Ｎｉ−Ｆｅ−２％Ｎ
ｂ−２％Ｔａ−３χＧｅ合金）、合金番号５２（７９，
５％Ｎｉ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−３％Ｔａ−２％Ｍｏ合金）
、合金番号２Ｈ？９％Ｎｉ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ
合金）について実効透磁率と冷却速度との関係およびこ
れらをさらに再加熱処理を施した場合の実効透磁率（×
印）を示したものである。合金の組成に対応した最適冷
却速度、最適再加熱温度および再加熱時間が存在するこ
とが判る。

第５図は７９％Ｎｉ−’Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ合金
にＣｒ、Ｍｏ＋Ｇｅ、＾ＵあるいはＣｏを添加した場合
の磁気ヘッドの摩耗量及び実効透磁率の特性図で、Ｃｒ
、Ｍｏ。

Ｇｅ、　ＡｕあるいはＣｏを添加すると、何れも実効透
磁率は高くなり、摩耗量は減少するが、Ｃｒ＋　Ｍｏ、
　ＧｅあるいはＡｕの７％以上では飽和磁束密度が４０
００Ｇ以下となり好ましくない。またＣｏ１０％以上で
は残留磁気が大きくなり、帯磁ノイズが増大するので、
好ましくない。

第６図は同じ＜７９％Ｎｉ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ
合金にＶ、　Ｈ，ＣｕあるいはＩ’Ｉｎを添加した場合
の磁気ヘッドの摩耗量及び実効透磁率の特性図で、Ｖ、
Ｗ、Ｃｕ。

ＴａあるいはＭｎを添加すると、何れも実効透磁率は高
くなり、摩耗量は減少するが、Ｖを１０％以上、Ｗを１
５％以上、ＣｕあるいはＭｎを２５％以上添加すると飽
和磁束密度が４０００Ｇ以下となり好ましくない。

第７図は同じ＜７９％Ｎｉ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ
合金に＾１．Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ＋Ｈｆ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｇ
ａ、　ＩｎあるいはＴ１を添加した場合の特性図で、Ａ
１．Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｆｆ、Ｓｎ、Ｓｂ＋Ｇａ、Ｉ
ｎあるいはＴＩを添加すると、何れも実効透磁率は高く
なり、摩耗量は減少するが、Ｓｉ、　Ｔｉ、Ｚｒ。

ｆｌｆ、Ｇａ、ＩｎあるいはＴ１５％以上では飽和磁束
密度は４０００Ｇ以下となり、ＡＩ、Ｓｎあるいはｓｂ
が５％以上では鍛造加工が困難となり好ましくない。

第８図は同じ＜７９％Ｎｉ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ
合金にＺｎ＋Ｃｄ＋Ｌａ＋Ｐ　ｔ＋Ｂｅ＋八ｇ　＋へＳ
ｒ　＋　ＢａあるいはＢを添加した場合の特性図で、Ｚ
ｎ、　ｃｄ、　Ｌａ＋　Ｐ　Ｌ＋　Ｂｅ＋　”Ｌ　Ｓｒ
＋　ＢａあるいはＢを添加すると、何れも実効透磁率は
高くなり、摩耗量は減少するが、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｌａ、Ｐ
Ｌを５％以上、Ｂｅ、　Ｓｒ、　Ｂａを３％以上添加す
ると飽和磁束密度が４０００　Ｇ以下となり、Ａｇを３
％以上あるいはＢを１％以上添加すると鍛造加工が困難
となり好ましくない。

本発明において、冷間加工は（１１０）　＜１１２〉＋
｛１１２）　＜１１１＞の冷間加工集合組織を形成し、
これを基として（１１０）　＜１１２＞＋　（３１１）
　＜１１２＞の再結晶集合組織を発達させるために必要
で、第１図および第２図に見られるようにＮｂおよびＴ
ａの合計０．５％以上において、特に加工率５０％以上
の冷間加工を施した場合に（１１０）　＜１１２＞＋　
（３１１｝〈１１２＞の再結晶集合組織の発達が顕著で
、耐摩耗性は著るしく向上し、その実効透磁率も高い。

また上記の冷間加工に次いで行われる加熱は、組織の均
一化、加工歪の除去とともに、（１１０｝〈１１２＞＋
　（３１１）　＜１１２＞の再結晶集合組織を発達させ
、高い実効透磁率とすぐれた耐摩耗性を得るために認１
であるが、第３図に見られるように特に９００℃以上の
加熱によって実効透磁率および耐摩耗性は顕著に向上す
る。

尚、上記の冷間加工と、次いで行われる９００℃以上融
点以下の加熱を繰り返し行うことは、（１１０｝〈１１
２＞＋　（３１１）　＜１１２＞の再結晶集合組織の集
積度を高め、耐摩耗性を向上させるために有効である。

この場合は最終冷間加工の加工率が５０％以下でも（１
１０）　＜１１２＞＋　（３１１）　＜１１２＞再結晶
集合組織が得られるが、本発明の技術的思想に包含され
るものである。したがって、本発明の冷間加工率は、全
製造工程における冷間加工を総計した加工率を意味し、
最終冷間加工率のみを意味するものではない。

上記の９００℃以上融点以下の温度から規則−不規則格
子変態点（約６００℃）以上の温度までの冷却は、急冷
しても除冷しても得られる磁性には大した変りはないが
、第４図に見られるようにこの変態点以下の冷却速度は
磁性に大きな影響を及ぼす。すなわちこの変態点以下の
温度より１００℃／秒〜１℃／時の組成に対応した適当
な速度で常温迄冷却することにより、地の規則度が適度
に調整され、すぐれた磁性が得られる。そして上記の冷
却速度の内１００℃／秒に近い速度で象、冷すると、規
則度が小さくなり、これ以上速く冷却すると規則化が進
まず、規則度はさらに小さくなり磁性は劣化する。しか
し、その規則度の小さい合金をその変態点以下の２００
〜６００℃に組成に対応して、１分間以上１００時間以
下再加熱し冷却すると、規則化が進んで適度な規則度と
なり磁性は向上する。

他方、上記の変態点以上の温度から、例えば１℃／時以
下の速度で徐冷すると、規則化は進みすぎ、磁性は低下
する。

尚、上記の熱処理を水素が存在する雰囲気中で施すこと
は、実効透磁率を高めるのに特に効果があるので好まし
い。

（実施例） 次に本発明を実施例につき説明する。

実施拠土 合金番号５２（組成Ｎ１＝７９．５％、Ｎｂ＝５％。

Ｔａ＝３％、Ｍｏ＝２％、Ｆｅ＝残部）の合金の製造原
料は実施例１と同じ純度でニッケル、鉄、ニオブ、タン
タル９９．８％純度のモリブデンおよびニオブ６５％、
タンタル５％を含むフェロニオブ合金を用いた。試料を
造るには、原料を全重量８００ｇでアルミナ坩堝に入れ
、真空中で高周波誘導電気炉によって溶かした後、よ（
撹拌して均質な溶融合金とした。次にこれを直径２５ｍ
ｍ、高さ１７０ｍｍの孔をもつ鋳型に注入し、得られた
鋳塊を約１１００℃で鍛造して厚さ７ｍｍの板とした。

さらに約１０００℃〜１２００℃の間で適当な厚さまで
熱間圧延し、ついで常温で種々な加工率で冷間圧延を施
して０．１ｍｍの薄板とし、それから外径４５ｍｍ、内
径３３ｍｍの環状板を打ち抜いた。試料に種々の熱処理
を施して磁気特性および磁気ヘッドのコアとして使用し
た場合湿度８０％、温度４０℃においてＣｒｙ２磁気テ
ープによる２００時間時間後の摩耗量の測定を行い、第
１表に示すような特性が得られた。

なお代表的な合金の特性は第２表に示すとおりである。

本発明において、５０％以上の冷間加工の処理前に、１
０００℃を超え１２００℃以下の温度で熱間圧延すると
、次いで施される加工率５０％以上の冷間加工ならびに
９００℃以上の温度における熱処理によりもたらされる
（１１０）　＜１１２＞＋　（３１１）　ｄ１２＞の再
結晶集合組織の生成および耐摩耗性に強く影響する。

る。

実施例°２ ７９％Ｎｉ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ合金を本願実施
例１に準じて製造し、約１０００“Ｃで鍛造して厚さ７
Ｍの板とした。さらに種々な加熱温度で厚さ１．Ｏｔｒ
ｍまで熱間圧延加工し、次いで常温で冷間圧延加工を施
して０．１＋ｎｍの薄板（冷間加工率９０％）とした。

この薄板を１１００℃の水素中で２時間加熱後８００”
Ｃ／ｈｒの速度で常温まで冷却した場合の熱間圧延加工
の温度と再結晶集合組織および摩耗量との関係を第９図
に示した。熱間圧延加工の温度が１０００℃以下では（
１１２）　＜ｌｌｂが残留し摩耗量が大きいが、１００
０℃〜１２００℃間の温度では（１１０）　ｃ１１２〉
＋｛３１１）　＜１１２＞が発達し摩耗量が特に小さく
なる。

すなわち、本発明では熱間圧延加工の温度によって、最
終的に得られる合金の耐摩耗性が大きく影響されるので
ある。

上記のように本発明合金は加工が容易で、耐摩耗性にす
ぐれ、４００００以上の飽和磁束密度、３０００以上の
高い実効透磁率、低保磁力を有しているので、磁気記録
再生ヘッドのコアおよびケース用磁性合金として好適で
あるばかりでな（、耐摩耗性および高透磁率を必要とす
る一般の電磁器機の磁性材料としても好適である。

次に本発明において合金の組成を主成分としてＮｉ６０
〜９０％、ＮｂおよびＴａの合計０．５〜２０％（但し
、Ｎｂ１４％以下）および残部Ｆｅと限定し、これに副
成分として添加する元素をＣｒ、　Ｍｏ、　Ｇｅ＋　Ａ
ｕを７％以下、Ｃｏ、Ｖを１０％以下、Ｗを１５％以下
、Ｃｕ、　Ｍｎを２５％以下、＾Ｉ！、　Ｓｉ、Ｔｉｔ
Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｎ＋Ｓｂ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｚｎ、Ｃ
ｄ。

希土類元素、白金族元素を５％以下、Ｂｅ、　Ａｇ＋　
Ｓｒ　Ｉ　Ｂａを３％以下、Ｂを１％以下の１種または
２種以上の合計で０．０１〜３０％と限定した理由は各
実施例、第３表および図面中第５図ないし第８図で明ら
かなように、この組成範囲の実効透磁率は３０００以上
、飽和磁束密度４０００　Ｇ以上で、且つ（１１０）　
＜０２＞＋［３１１１＜１１２＞の再結晶集合組織を有
し、耐摩耗性がすぐれているが、この組成範囲をはずれ
ると磁気特性あるいは耐摩耗性が劣化するからである。

すなわち、ＮｂおよびＴａの合計０．５％以下では（１
１０）　＜１１２〉＋｛３１１）　＜１１２＞の再結晶
集合組織が充分発達しないので耐摩耗性が悪く、Ｎｂお
よびＴａの合計２０％以上およびＮｂ１４％以上では鍛
造加工が困難となり、また、飽和磁束密度４０００　Ｇ
以上になるからである。

そしてＮｉ６０〜９０％、ＮｂおよびＴａの合計０．５
〜２０％（但し、Ｎｂ１４％以下）および残部Ｆｅの組
成範囲の合金は、実効透磁率３０００以上、飽和磁束密
度４０００Ｇ以上で、耐摩耗性がすぐれ、且つ加工性が
良好であるが、これにさらにＣｒ＋Ｍｏ、Ｇｅ＋Ａｕ＋
　＋＋、ｖ。

Ｃｕ、Ｍｎ、八１　、Ｚｒ、Ｓｉ＋Ｔｉ＋旧、Ｇａ、　
Ｉｎ、Ｔ　／、　、Ｚｎ、Ｃｄ＋　希土類元素、白金族
元素、Ｂｅｔ　Ａｇ＋　Ｓｒ、　Ｂａｔ　Ｂ等を添加す
ると特に実効透磁率を高める効果があり、Ｃｏを添加す
ると特に飽和磁束密度を高める効果があり、＾ＬＩ＋Ｍ
ｎ＋ＴＩ＋　Ｃｏ、希土類元素、白金族元素、Ｂｅ、Ｓ
ｒ。

Ｂａ、Ｂを添加すると鍛造、加工を良好にする効果があ
り、＾４２　、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｕ、八ｇ、Ｔｉ、Ｚｎ、
Ｃｄ、Ｂｅおよび■の添加は＋１１０１　＜１１２＞＋
　（３１１１＜１１２＞の再結晶集合組織を発達させ、
耐摩耗性を向上する効果がある。

（発明の効果） 要するに本発明合金は鍛造加工が容易で（１１０）　＜
１１２＞＋　（３１１）　＜１１２＞の再結晶集合組織
を形成させることによって耐摩耗性がすぐれ、飽和磁束
密度が４０００　Ｇ以上で、実効透磁率が高いので、磁
気記録再生ヘッド用磁性合金として好適であるばかりで
なく、耐摩耗性および高透磁率を必要とする一般の電磁
器機の磁性材料としても好適である。

【図面の簡単な説明】

第１図は７９％Ｎｉ−Ｆｅ−Ｎｂ−Ｔａ系合金の緒特性
とＮｂおよびＴａ１（但し、Ｎｂ：Ｔａ”　１　：　１
　）との関係を示す特性図、 第２図は７９％Ｎｉ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ合金の
再結晶集合組織および緒特性と冷間加工率との関係を示
す特性図、 第３図は７９％Ｎｉ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ合金の
再結晶集合組織および緒特性と加熱温度との関係を示す
特性図、 第４図は８０．３％Ｎｉ−Ｆｅ−２％Ｎｂ−２％Ｔａ−
３％Ｇｅ合金（合金番号６４）　、７９．５％Ｎｉ−Ｆ
ｅ−５％Ｎｂ−３％Ｔａ−２％Ｍｏ合金（５２）、およ
び７９％旧−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ合金（２１）の
実効透磁率と冷却速度、再加熱温度および再加熱時間と
の関係を示す特性図、 第５図は７９％Ｎｉ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ合金に
Ｃｒ、Ｍｏ。 Ｇｅ＋　ＡｕあるいはＣｏを添加した場合の緒特性と各
元素の添加量との関係を示す特性図、 第６図は７９％Ｎｉ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ合金に
ν、　Ｗ、　ＣｕあるいはＭｎを添加した場合の緒特性
と各元素の添加量との関係を示す特性図、 第７図は７９％Ｎｉ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ合金に
ｉ。 Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｌｆ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｉｎあ
るいはＴｊｌ！を添加した場合の緒特性と各元素の添加
量との関係を示す特性図、 第８図は７９％Ｎｊ−Ｆｅ−５％Ｎｂ−５％Ｔａ合金に
Ｚｎ　＋　Ｃｄ　＋Ｌａ、Ｐｔ、Ｂｅ、Ａｇ＋Ｓｒ、Ｂ
ａあるいはＢを添加した場合の緒特性と各元素の添加量
との関係を示す特性図、第９図は７９Ｘ　Ｎｉ−Ｆｅ−
５χＮｂ−５’Ｘ　Ｔａ合金を実施例１により製造した
時の熱間圧延加工温度と再結晶集合組織の集積度との関
係を示す特性図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、重量比にてＮｉ６０〜９０％、ＮｂおよびＴａの合
   計０．５〜２０％（但し、Ｎｂ１４％以下ＮｂおよびＴ
   ａは０％を含まず）および残部Ｆｅを主成分とし、副成
   分としてＣｒ、Ｍｏ、Ｇｅ、Ａｕをそれぞれ７％以下、
   Ｃｏ、Ｖをそれぞれ１０％以下、Ｗを１５％以下、Ｃｕ
   、Ｍｎをそれぞれ２５％以下、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ
   、Ｈｆ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｚｎ、Ｃｄ、
   希土類元素、白金族元素をそれぞれ５％以下、Ｂｅ、Ａ
   ｇ、Ｓｒ、Ｂａをそれぞれ３％以下、Ｂを１％以下の１
   種または２種以上の合計０．０１〜３０％、少量の不純
   物とからなる合金を１０００℃を超え１２００℃以下の
   温度で熱間加工した後冷却し、次に加工率５０％以上の
   冷間加工を施した後、９００℃以上融点以下の温度で加
   熱し、ついで規則−不規則格子変態点以上、融点以下の
   温度から１００℃／秒〜１℃／時の組成に対応した適当
   な速度で常温まで冷却することにより、１ＫＨｚにおけ
   る実効透磁率３０００以上、飽和磁束密度４０００Ｇ以
   上で、且つ｛１１０｝〈１１２〉＋｛３１１｝〈１１２
   〉の再結晶集合組織をもった合金を得ることを特徴とす
   る耐摩耗性高透磁率合金の製造法。 ２、重量比にてＮｉ６０〜９０％、ＮｂおよびＴａの合
   計０．５〜２０％（但し、Ｎｂ１４％以下ＮｂおよびＴ
   ａは０％を含まず）および残部Ｆｅを主成分とし、副成
   分としてＣｒ、Ｍｏ、Ｇｅ、Ａｕをそれぞれ７％以下、
   Ｃｏ、Ｖをそれぞれ１０％以下、Ｗを１５％以下、Ｃｕ
   、Ｍｎをそれぞれ２５％以下、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ
   、Ｈｆ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｚｎ、Ｃｄ、
   希土類元素、白金族元素をそれぞれ５％以下、Ｂｅ、Ａ
   ｇ、Ｓｒ、Ｂａをそれぞれ３％以下、Ｂを１％以下の１
   種または２種以上の合計０．０１〜３０％、少量の不純
   物とからなる合金を１０００℃を超え１２００℃以下の
   温度で熱間加工した後冷却し、次に加工率５０％以上の
   冷間加工を施した後、９００℃以上融点以下の温度で加
   熱し、ついで規則−不規則格子変態点以上、融点以下の
   温度から１００℃／秒〜１℃／時の組成に対応した適当
   な速度で冷却し、これをさらに規則−不規則格子変態点
   以下の温度で１分間以上１００時間以下の組成に対応し
   た適当時間加熱し冷却することにより、１ＫＨｚにおけ
   る実効透磁率３０００以上、飽和磁束密度４０００Ｇ以
   上で、且つ｛１１０｝〈１１２〉＋｛３１１｝〈１１２
   〉の再結晶集合組織をもった合金を得ることを特徴とす
   る耐摩耗性高透磁率合金の製造法。