JPH0379153U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0379153U JPH0379153U JP13979189U JP13979189U JPH0379153U JP H0379153 U JPH0379153 U JP H0379153U JP 13979189 U JP13979189 U JP 13979189U JP 13979189 U JP13979189 U JP 13979189U JP H0379153 U JPH0379153 U JP H0379153U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- generation chamber
- plasma generation
- target
- metal
- Prior art date
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- Pending
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第１図は、この考案の一実施例に係る金属イオ
ン源を示す断面図である。第２図および第３図は
、それぞれ、従来の金属イオン源の例を示す概略
図である。 ２……プラズマ生成室、４……プラズマ、８…
…金属粒子、１０……引出し電極系、１４……金
属イオン、１６……イオン、１８……ターゲツト
、３０……グリツド。
ン源を示す断面図である。第２図および第３図は
、それぞれ、従来の金属イオン源の例を示す概略
図である。 ２……プラズマ生成室、４……プラズマ、８…
…金属粒子、１０……引出し電極系、１４……金
属イオン、１６……イオン、１８……ターゲツト
、３０……グリツド。
Claims (1)
- プラズマを作るプラズマ生成室と、このプラズ
マ生成室内に設けられていてイオン化すべき金属
から成るターゲツトと、前記プラズマ生成室内に
このターゲツトとプラズマとの間を区画するよう
に設けられていて、同ターゲツトに対して正電圧
が印加されるグリツドと、前記プラズマ生成室内
のプラズマからイオンを引き出す引出し電極系と
を備えることを特徴とする金属イオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13979189U JPH0379153U (ja) | 1989-11-30 | 1989-11-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13979189U JPH0379153U (ja) | 1989-11-30 | 1989-11-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0379153U true JPH0379153U (ja) | 1991-08-12 |
Family
ID=31686816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13979189U Pending JPH0379153U (ja) | 1989-11-30 | 1989-11-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0379153U (ja) |
-
1989
- 1989-11-30 JP JP13979189U patent/JPH0379153U/ja active Pending
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