JPH0178167U - - Google Patents

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JPH0178167U
JPH0178167U JP1987172285U JP17228587U JPH0178167U JP H0178167 U JPH0178167 U JP H0178167U JP 1987172285 U JP1987172285 U JP 1987172285U JP 17228587 U JP17228587 U JP 17228587U JP H0178167 U JPH0178167 U JP H0178167U
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ion beam
ion source
ion
section
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【図面の簡単な説明】
第１図は本考案イオン源のグリツドの一実施例
を示す断面図、第２図は本考案に係るイオンビー
ムエツチング装置の一例を示す説明図、３図ａ，
ｂはそれぞれ従来のイオン源のグリツド部の一例
を示す正面図及びその断面図、第４図ａ，ｂは第
３図ｂにおけるＡ部及びＢ部の詳細断面図である
。 １…孔、２…絶縁板、２３…グリツド、２５…
サプレツサグリツド、１３…エツチング室、１４
…試料、１５…試料保持部、１６…イオンビーム
、１７…中和フイラメント、１９…陽極部、２０
…陰極部、２１…ガス入口、２２…イオンビーム
発生室。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ガス入口２１を有するイオンビーム発生室２２
    内に、陽極部１９と、陰極部２０と、この陰極部
    ２０の前方に加速グリツド２６とサプレツサグリ
    ツド２５により形成されたグリツド２３とを配置
    してイオン源を構成し、ガス入口２１よりガスを
    導入し、陽極部１９と陰極部２０間に電圧を加え
    て放電を行い、この放電により生じたガスプラズ
    マから上記グリツド２３及びエツチング室１３内
    の中和フイラメント１７を通してイオンビームを
    取出し、試料１４に当てて物理的にエツチングを
    行うイオンビームエツチング装置において、イオ
    ン源の一構成部品であるグリツド２３は無数の孔
    １を有する絶縁板２の両面にエツチングされにく
    い導電材よりなる加速グリツド２６とサプレツサ
    グリツド２５を添設してなるものとしたイオンビ
    ームエツチング装置のイオン源。
JP1987172285U 1987-11-10 1987-11-10 Pending JPH0178167U (ja)

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