JPH0379687B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0379687B2 JPH0379687B2 JP60204169A JP20416985A JPH0379687B2 JP H0379687 B2 JPH0379687 B2 JP H0379687B2 JP 60204169 A JP60204169 A JP 60204169A JP 20416985 A JP20416985 A JP 20416985A JP H0379687 B2 JPH0379687 B2 JP H0379687B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inlet
- plate
- guide plate
- bodies
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K9/00—Arc welding or cutting
- B23K9/02—Seam welding; Backing means; Inserts
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K9/00—Arc welding or cutting
- B23K9/32—Accessories
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Optical Measuring Cells (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、汚染気体から光学手段を保護するた
めの装置に関するものである。
めの装置に関するものである。
本発明は本質的に自動溶接工程において、汚染
気体から光学手段を保護するための装置および方
法に関する。自動溶接においては、例えば「アー
ク溶接の自動化に関する電気光学センサ」と題す
る論文（計測工学，1984年，51，７／８，250〜
263ページ）で述べられているように、検出器が
実際の溶接の直前に、被溶接面の輪郭を走査する
ために、溶接トーチに非常に接近して配置され
る。検出器はこのため、溶接中に発生する汚染気
体や溶接スパツタにさらされる。自動溶接装置の
従来技術においては、検出器は被溶接面から反射
したレーザー光線を収集し、検出するためのレー
ザー光源と光学手段とを含む。レーザー光線は窓
を通過したハウジングから出て行き、反射光線は
同様に窓を通過してハウジングに入る。
気体から光学手段を保護するための装置および方
法に関する。自動溶接においては、例えば「アー
ク溶接の自動化に関する電気光学センサ」と題す
る論文（計測工学，1984年，51，７／８，250〜
263ページ）で述べられているように、検出器が
実際の溶接の直前に、被溶接面の輪郭を走査する
ために、溶接トーチに非常に接近して配置され
る。検出器はこのため、溶接中に発生する汚染気
体や溶接スパツタにさらされる。自動溶接装置の
従来技術においては、検出器は被溶接面から反射
したレーザー光線を収集し、検出するためのレー
ザー光源と光学手段とを含む。レーザー光線は窓
を通過したハウジングから出て行き、反射光線は
同様に窓を通過してハウジングに入る。
どちらの窓も機械的にシールドすることで容易
に溶接スパツタから保護することができる。しか
しながら、より一層の予防手段がないため、溶接
工程の早い段階においてすでに汚染気体は、放射
および反射光線をかなり減衰させ、ひいては分散
させるような堆積物を窓に生じさせ、このため正
確な検出が妨げられる。
に溶接スパツタから保護することができる。しか
しながら、より一層の予防手段がないため、溶接
工程の早い段階においてすでに汚染気体は、放射
および反射光線をかなり減衰させ、ひいては分散
させるような堆積物を窓に生じさせ、このため正
確な検出が妨げられる。
本発明の目的は、特に自動溶接工程において汚
染気体から光学手段を保護するための装置を提供
することによつて、この問題を解決することであ
る。
染気体から光学手段を保護するための装置を提供
することによつて、この問題を解決することであ
る。
本発明は、前面に臨んで凹んだ部屋６を有し、
この部屋６の一端部寄りに入口５ａが形成され、
前記一端部に対向する他端部に排出口１６が形成
される基体１，４と、 前記入口５ａに清浄気体を圧送供給する供給手
段５と、 部屋６を覆つて排出口１６よりも部屋６から遠
去かる位置まで延びて基体１，４に取付けられる
平らな板状体９，１５であつて、この板状体９，
１５には、排出口１６に重なり合う導入口１７が
形成されており、この板状体９，１５は、部屋６
を覆う第１部分９ａと、前記第１部分９ａよりも
導入口１７寄りで導入口１７から予め定める長さ
ｂにわたる第２部分９ｂとを有し、少なくとも第
１部分９ａは透明であり、この導入口１７は、前
記第１部分９ａの幅と等しい幅Ｗ１を有し、かつ
一様な開口間隔Ｗ２で細長く形成されている、そ
のような板状体９，１５と、 板状体９，１５の外面に設けられ、前記第１部
分９ａと第２部分９ｂと導入口１７とを露出させ
て各両側方を囲む切欠き７ａを有し、厚みｙが薄
い板状のカバー７と、 カバー７上で前記板状体９，１５に平行に設け
られ、導入口１７を覆う案内板１１であつて、こ
の案内板１１は、板状体９，１５の第２部分９ｂ
との間で、カバー７の厚みｙに等しい高さｙを有
しかつ導入口１７に連通する偏平な通路１３を形
成する案内板１１と、 基体１，４の部屋６を介して前記第１部分９ａ
に臨む光学手段とを含むことを特徴とする汚染気
体から光学手段を保護するための装置である。
この部屋６の一端部寄りに入口５ａが形成され、
前記一端部に対向する他端部に排出口１６が形成
される基体１，４と、 前記入口５ａに清浄気体を圧送供給する供給手
段５と、 部屋６を覆つて排出口１６よりも部屋６から遠
去かる位置まで延びて基体１，４に取付けられる
平らな板状体９，１５であつて、この板状体９，
１５には、排出口１６に重なり合う導入口１７が
形成されており、この板状体９，１５は、部屋６
を覆う第１部分９ａと、前記第１部分９ａよりも
導入口１７寄りで導入口１７から予め定める長さ
ｂにわたる第２部分９ｂとを有し、少なくとも第
１部分９ａは透明であり、この導入口１７は、前
記第１部分９ａの幅と等しい幅Ｗ１を有し、かつ
一様な開口間隔Ｗ２で細長く形成されている、そ
のような板状体９，１５と、 板状体９，１５の外面に設けられ、前記第１部
分９ａと第２部分９ｂと導入口１７とを露出させ
て各両側方を囲む切欠き７ａを有し、厚みｙが薄
い板状のカバー７と、 カバー７上で前記板状体９，１５に平行に設け
られ、導入口１７を覆う案内板１１であつて、こ
の案内板１１は、板状体９，１５の第２部分９ｂ
との間で、カバー７の厚みｙに等しい高さｙを有
しかつ導入口１７に連通する偏平な通路１３を形
成する案内板１１と、 基体１，４の部屋６を介して前記第１部分９ａ
に臨む光学手段とを含むことを特徴とする汚染気
体から光学手段を保護するための装置である。
好ましい実施例態様では、前記板状体９，１５
には、前記第１部分９ａ側の案内板１１直下にあ
る導入口１７端部で、前記第１部分９ａに近づく
につれて案内板１１に近づくように傾斜した斜面
２０が形成されることを特徴とする。
には、前記第１部分９ａ側の案内板１１直下にあ
る導入口１７端部で、前記第１部分９ａに近づく
につれて案内板１１に近づくように傾斜した斜面
２０が形成されることを特徴とする。
また本発明は、前面に臨んで凹んだ部屋６を有
し、この部屋６の一端部寄りに入口５ａが形成さ
れ、前記一端部に対向する他端部に排出口１６が
形成される基体１，４と、 前記入口５ａに清浄気体を圧送供給する供給手
段５と、 部屋６を覆つて排出口１６よりも部屋６から遠
去かる位置まで延びて基体１，４に取付けられる
平らな板状体９，１５であつて、この板状体９，
１５には、排出口１６に重なり合う導入口１７が
形成されており、この板状体９，１５は、部屋６
を覆う第１部分９ａと、前記第１部分９ａよりも
導入口１７寄りで導入口１７から予め定める長さ
ｂにわたる第２部分９ｂとを有し、少なくとも第
１部分９ａは透明であり、この導入口１７は、前
記第１部分９ａの幅と等しい幅Ｗ１を有し、かつ
一様な開口間隔Ｗ２で細長く形成されている、そ
のような板状体９，１５と、 板状体９，１５の外面に設けられ、前記第１部
分９ａと第２部分９ｂと導入口１７とを露出させ
て各両側方を囲む切欠き７ａを有し、厚みｙが薄
い板状のカバー７と、 カバー７上で前記板状体９，１５に平行に設け
られ、導入口１７を覆う案内板１１であつて、こ
の案内板１１は、板状体９，１５の第２部分９ｂ
との間で、カバー７の厚みｙに等しい高さｙを有
しかつ導入口１７に連通する偏平な通路１３を形
成し、さらに、導入口１７直上で、導入口１７の
幅Ｗ１と同一幅を有しかつ導入口１７の開口間隔
Ｗ２未満の開口間隔Ｗ３を有する細長い開口部２
１を有する第１案内板１１と、 基体１，４の部屋６を介して前記第１部分９ａ
に臨む光学手段と、 第１案内板１１の上方にカバー７の厚みｙとほ
ぼ等しい間隔ｚをかけて、第１案内板１１に平行
に設けられ、開口部２１を覆うとともに、第１案
内板１１の前記第１部分９ａ寄りの縁１１ａより
も第１部分９ａから遠去かつた縁２２ａを有する
第２案内板２２とを含むことを特徴とする汚染気
体から光学手段を保護するための装置である。
し、この部屋６の一端部寄りに入口５ａが形成さ
れ、前記一端部に対向する他端部に排出口１６が
形成される基体１，４と、 前記入口５ａに清浄気体を圧送供給する供給手
段５と、 部屋６を覆つて排出口１６よりも部屋６から遠
去かる位置まで延びて基体１，４に取付けられる
平らな板状体９，１５であつて、この板状体９，
１５には、排出口１６に重なり合う導入口１７が
形成されており、この板状体９，１５は、部屋６
を覆う第１部分９ａと、前記第１部分９ａよりも
導入口１７寄りで導入口１７から予め定める長さ
ｂにわたる第２部分９ｂとを有し、少なくとも第
１部分９ａは透明であり、この導入口１７は、前
記第１部分９ａの幅と等しい幅Ｗ１を有し、かつ
一様な開口間隔Ｗ２で細長く形成されている、そ
のような板状体９，１５と、 板状体９，１５の外面に設けられ、前記第１部
分９ａと第２部分９ｂと導入口１７とを露出させ
て各両側方を囲む切欠き７ａを有し、厚みｙが薄
い板状のカバー７と、 カバー７上で前記板状体９，１５に平行に設け
られ、導入口１７を覆う案内板１１であつて、こ
の案内板１１は、板状体９，１５の第２部分９ｂ
との間で、カバー７の厚みｙに等しい高さｙを有
しかつ導入口１７に連通する偏平な通路１３を形
成し、さらに、導入口１７直上で、導入口１７の
幅Ｗ１と同一幅を有しかつ導入口１７の開口間隔
Ｗ２未満の開口間隔Ｗ３を有する細長い開口部２
１を有する第１案内板１１と、 基体１，４の部屋６を介して前記第１部分９ａ
に臨む光学手段と、 第１案内板１１の上方にカバー７の厚みｙとほ
ぼ等しい間隔ｚをかけて、第１案内板１１に平行
に設けられ、開口部２１を覆うとともに、第１案
内板１１の前記第１部分９ａ寄りの縁１１ａより
も第１部分９ａから遠去かつた縁２２ａを有する
第２案内板２２とを含むことを特徴とする汚染気
体から光学手段を保護するための装置である。
添付の図面を参照して、本発明の実施例を述べ
る。
る。
第１図において参照符１は自動制御溶接工程の
ための検出器のハウジングの一部を示し、この検
出器は図示されていないレーザー光源を含む。ハ
ウジング１は矢符Ａの方向に放射されるレーザー
光線のための出口窓２と、矢符Ｂの方向に反射さ
れる光線のための入口窓２ａを有する。ハウジン
グ１には、圧縮空気あるいは圧縮二酸化炭素のよ
うなシールド気体のための供給管５に連結してい
る本体４が固定される。
ための検出器のハウジングの一部を示し、この検
出器は図示されていないレーザー光源を含む。ハ
ウジング１は矢符Ａの方向に放射されるレーザー
光線のための出口窓２と、矢符Ｂの方向に反射さ
れる光線のための入口窓２ａを有する。ハウジン
グ１には、圧縮空気あるいは圧縮二酸化炭素のよ
うなシールド気体のための供給管５に連結してい
る本体４が固定される。
本体４にはカバー７が取りはずし可能に装着さ
れる。このカバー７は放射されたレーザー光線の
ためのガラス窓８と反射された光線のためのガラ
ス窓９を保持する。このカバー７はバネストツプ
１０によつて本体４に取り着けられる。本体４と
ハウジング１とで供給管５を通つて供給される気
体のためのバツフアー空間を形成する部屋６を形
成し、これによつて、気体供給圧力の変動にもか
かわらず、前記本体４から排出され窓８および９
上にわたつて流れる気体の圧力が実質的に一定に
保たれる。供給管５を通つて供給される気体の入
口５ａは部屋６の側壁に位置し、このため気体は
紙面に垂直な方向に沿つて入る。部屋６を通る気
体の流れの適度な均一化はこのように達成され
る。
れる。このカバー７は放射されたレーザー光線の
ためのガラス窓８と反射された光線のためのガラ
ス窓９を保持する。このカバー７はバネストツプ
１０によつて本体４に取り着けられる。本体４と
ハウジング１とで供給管５を通つて供給される気
体のためのバツフアー空間を形成する部屋６を形
成し、これによつて、気体供給圧力の変動にもか
かわらず、前記本体４から排出され窓８および９
上にわたつて流れる気体の圧力が実質的に一定に
保たれる。供給管５を通つて供給される気体の入
口５ａは部屋６の側壁に位置し、このため気体は
紙面に垂直な方向に沿つて入る。部屋６を通る気
体の流れの適度な均一化はこのように達成され
る。
部屋６を通る供給管５からの気体の流れの方向
は、矢符により第１図に概略的に示されている。
ガラス窓８および９は、溶接工程において放出さ
れた蒸気や酸化物が、窓２および３を通つて、レ
ーザー光源や反射光線の収集手段のような光学手
段に付着したり、これらを汚染するのを防ぐ。
は、矢符により第１図に概略的に示されている。
ガラス窓８および９は、溶接工程において放出さ
れた蒸気や酸化物が、窓２および３を通つて、レ
ーザー光源や反射光線の収集手段のような光学手
段に付着したり、これらを汚染するのを防ぐ。
ガラス窓８および９の外面はカバー７の内面に
密着して設けられる。案内板１１は、スリツト状
排出口である偏平な通路１２および１３がこの案
内板１１の底面とガラス窓８および９の外面との
間に個別的に形成されるように、ガラス窓８およ
び９にわたつてカバー７の外面上に装着され、こ
の通路１２および１３は高さｙ、長さａ、ｂをそ
れぞれ有する。高さｙは実質的にカバー７の厚み
に等しい。
密着して設けられる。案内板１１は、スリツト状
排出口である偏平な通路１２および１３がこの案
内板１１の底面とガラス窓８および９の外面との
間に個別的に形成されるように、ガラス窓８およ
び９にわたつてカバー７の外面上に装着され、こ
の通路１２および１３は高さｙ、長さａ、ｂをそ
れぞれ有する。高さｙは実質的にカバー７の厚み
に等しい。
ガラス窓８および９は、この２つのガラス窓
８，９の内面に静止した定着板１４によつてカバ
ー７に定着され、一方、ガラス窓８および９の素
材と実質的に等しい厚みのスペーサ板１５がさら
にカバー７と定着板１４の間に設置される。
８，９の内面に静止した定着板１４によつてカバ
ー７に定着され、一方、ガラス窓８および９の素
材と実質的に等しい厚みのスペーサ板１５がさら
にカバー７と定着板１４の間に設置される。
ガラス窓９とスペーサ板１５とは、板状体を構
成する。
成する。
スロツト状導入口１７は、定着板１４、ならび
にガラス窓９およびスペーサ板１５によつて形成
され、導入口１７はカバー７が一旦、本体４に装
着されたら本体４の排出口１６に重なり合う。供
給管５から供給される気体はこのように部屋６、
排出口１６、そして導入口１７を通り通路１２お
よび１３に流れる。
にガラス窓９およびスペーサ板１５によつて形成
され、導入口１７はカバー７が一旦、本体４に装
着されたら本体４の排出口１６に重なり合う。供
給管５から供給される気体はこのように部屋６、
排出口１６、そして導入口１７を通り通路１２お
よび１３に流れる。
第２図に示されるように、ガラス窓９と案内板
１１の間の通路１３の幅は、スロツト状導入口１
７の幅Ｗ１に等しい。
１１の間の通路１３の幅は、スロツト状導入口１
７の幅Ｗ１に等しい。
ハウジング１と本体４とは、基体を構成し、こ
の基体は、前述のように前面（第１図の右方）に
臨んで凹んだ部屋６を有し、この部屋６の一端部
寄り（第１図の上方寄り）に入口５ａが形成さ
れ、この一端部に対向する他端部（第１図の下方
寄り）に排出口１６が形成されている。前記入口
５ａには、供給手段である供給管５から前述のよ
うに圧縮空気などが圧送供給される。ガラス窓９
は透明であるので、レーザー光線が透過する。
の基体は、前述のように前面（第１図の右方）に
臨んで凹んだ部屋６を有し、この部屋６の一端部
寄り（第１図の上方寄り）に入口５ａが形成さ
れ、この一端部に対向する他端部（第１図の下方
寄り）に排出口１６が形成されている。前記入口
５ａには、供給手段である供給管５から前述のよ
うに圧縮空気などが圧送供給される。ガラス窓９
は透明であるので、レーザー光線が透過する。
板状体の一部を構成するガラス窓９は、部屋６
を覆つている部分９ａを有する。スペーサ板１５
は、排出口１６よりも第１図の下方に配置されて
いる。ガラス窓９は、前記部分９ａと、その前記
部分９ａよりも導入口１７寄りで導入口１７から
予め定める長さｂにわたる部分９ｂとを有する。
こうしてガラス窓９とスペーサ板１５とから成る
板状体は、排出口１６よりも部屋６から遠去かる
位置（第１図の下方）まで延びている。板状体の
少なくとも前記部分９ａは、上述のようにレーザ
ー光線を透過するために透明である。導入口１７
は、排出口１６に重なり合い、この導入口１７
は、前記部分９ａの幅と等しい幅Ｗ１を、上述の
ように有している。導入口１７はまた、一様な開
口間隔Ｗ２で、第１図の紙面に垂直方向、第２図
の左右方向に細長く形成されている。こうして板
状体は平らであり、基本的には、前記基体に取付
けられる。
を覆つている部分９ａを有する。スペーサ板１５
は、排出口１６よりも第１図の下方に配置されて
いる。ガラス窓９は、前記部分９ａと、その前記
部分９ａよりも導入口１７寄りで導入口１７から
予め定める長さｂにわたる部分９ｂとを有する。
こうしてガラス窓９とスペーサ板１５とから成る
板状体は、排出口１６よりも部屋６から遠去かる
位置（第１図の下方）まで延びている。板状体の
少なくとも前記部分９ａは、上述のようにレーザ
ー光線を透過するために透明である。導入口１７
は、排出口１６に重なり合い、この導入口１７
は、前記部分９ａの幅と等しい幅Ｗ１を、上述の
ように有している。導入口１７はまた、一様な開
口間隔Ｗ２で、第１図の紙面に垂直方向、第２図
の左右方向に細長く形成されている。こうして板
状体は平らであり、基本的には、前記基体に取付
けられる。
カバー７は、前記板状体の外面に設けられ、前
記部分９ａ，９ｂと導入口１７とを露出させて各
両側方を囲む切欠き７ａを有する。このカバー７
は、通路１３の高さに等しい厚みｙを有し、薄い
板状に形成される。
記部分９ａ，９ｂと導入口１７とを露出させて各
両側方を囲む切欠き７ａを有する。このカバー７
は、通路１３の高さに等しい厚みｙを有し、薄い
板状に形成される。
案内板１１は、カバー７上で、ガラス窓９とス
ペーサ板１５とによつて構成される前記板状体に
平行に設けられる。この案内板１１は、導入口１
７を覆うとともに、前記部分９ｂとの間で、偏平
な通路１３を形成する。この通路１３は、カバー
７の厚みｙに等しい高さｙを有しており、導入口
１７に連通する。こうして案内板１１は、第１図
においてガラス窓９の前記部分９ａから第１図の
下方に予め定める長さｂにわたつて延びる部分９
ｂを覆つて、この部分９ｂとの間で、案内板１１
によつて偏平な通路１３を形成する。
ペーサ板１５とによつて構成される前記板状体に
平行に設けられる。この案内板１１は、導入口１
７を覆うとともに、前記部分９ｂとの間で、偏平
な通路１３を形成する。この通路１３は、カバー
７の厚みｙに等しい高さｙを有しており、導入口
１７に連通する。こうして案内板１１は、第１図
においてガラス窓９の前記部分９ａから第１図の
下方に予め定める長さｂにわたつて延びる部分９
ｂを覆つて、この部分９ｂとの間で、案内板１１
によつて偏平な通路１３を形成する。
反射されたレーザー光線は、光学手段によつて
受光され、この光学手段は、ハウジング１と本体
４とによつて構成される基体の部屋６を介して前
記部分９ａに臨んでおり、これによつてレーザー
光線を受光することができ、このカバー７の切欠
き７ａは、ガラス窓９の部分９ａ，９ｂの両側方
を囲むとともに、導入口１７の両側方を囲むよう
に形成される。
受光され、この光学手段は、ハウジング１と本体
４とによつて構成される基体の部屋６を介して前
記部分９ａに臨んでおり、これによつてレーザー
光線を受光することができ、このカバー７の切欠
き７ａは、ガラス窓９の部分９ａ，９ｂの両側方
を囲むとともに、導入口１７の両側方を囲むよう
に形成される。
上述の説明は主としてガラス窓９に関して行わ
れたけれども、もう１つのガラス窓８に関しても
同様である。ガラス窓９の部分９ａ上の前記薄膜
状気体の流れは、ガラス窓８および９の外面に悪
影響を及ぼすような気体や酸化物が付着するのを
防ぎ、このため溶接工程において長期間、窓の上
の堆積物の形成を防ぎ、もしそうでないなら堆積
物は放射されたレーザー光線および／または反射
光線を弱め、分散させるので正確な検出が妨げら
れる。さらに個々のガラス窓８，９を最も望まし
く保護するためには、薄膜状の気体の流れが必要
であり、この流れは一方には溶接工程を妨げない
強さを有し、他方、ガラス窓８，９の表面の全長
はもちろん全幅にわたる膜を維持するのに充分な
強さを有する。
れたけれども、もう１つのガラス窓８に関しても
同様である。ガラス窓９の部分９ａ上の前記薄膜
状気体の流れは、ガラス窓８および９の外面に悪
影響を及ぼすような気体や酸化物が付着するのを
防ぎ、このため溶接工程において長期間、窓の上
の堆積物の形成を防ぎ、もしそうでないなら堆積
物は放射されたレーザー光線および／または反射
光線を弱め、分散させるので正確な検出が妨げら
れる。さらに個々のガラス窓８，９を最も望まし
く保護するためには、薄膜状の気体の流れが必要
であり、この流れは一方には溶接工程を妨げない
強さを有し、他方、ガラス窓８，９の表面の全長
はもちろん全幅にわたる膜を維持するのに充分な
強さを有する。
気体の流れはガラス窓８および９の表面の全長
を覆う最も好ましい薄膜の状態であると、ガラス
窓８，９が長くなればなるほど、案内板１１の下
から発生する薄膜特性を有する気体の流れに課せ
られる要求は高くなる。このことは距離ａが距離
ｂよりも短いことを意味する。案内板１１とガラ
ス窓８および９のそれぞれとの間にある気体の流
れの有する距離ａ，ｂと、通路１２および１３の
高さｙとの比、すなわち、ａ／ｙおよびｂ／ｙの
それぞれが、10から20の範囲であるとき、適切な
薄膜状の流れが達成されることが、本件発明者の
実験によつて判つた。これより高い比の場合、供
給された気体の圧力は、薄膜状の気体の流れをガ
ラス窓８，９の表面の全長にわたつて延びるよう
にするには、不必要に高くしなければならなくな
り、これに反して、これより低い比である場合、
気体の流れは不充分な薄さである。
を覆う最も好ましい薄膜の状態であると、ガラス
窓８，９が長くなればなるほど、案内板１１の下
から発生する薄膜特性を有する気体の流れに課せ
られる要求は高くなる。このことは距離ａが距離
ｂよりも短いことを意味する。案内板１１とガラ
ス窓８および９のそれぞれとの間にある気体の流
れの有する距離ａ，ｂと、通路１２および１３の
高さｙとの比、すなわち、ａ／ｙおよびｂ／ｙの
それぞれが、10から20の範囲であるとき、適切な
薄膜状の流れが達成されることが、本件発明者の
実験によつて判つた。これより高い比の場合、供
給された気体の圧力は、薄膜状の気体の流れをガ
ラス窓８，９の表面の全長にわたつて延びるよう
にするには、不必要に高くしなければならなくな
り、これに反して、これより低い比である場合、
気体の流れは不充分な薄さである。
供給管５から供給された気体は通路１８を通つ
て、放射されたレーザー光線のための出口窓２の
前に位置する部屋１９に流れることができる。溶
接中の微かな超過圧力はこうして部屋６と部屋１
９の両方に保たれる。この超過圧力はこれらの部
屋を粉塵から守り、そのため放射される光線およ
び受けられる光線が粉塵によつて悪影響されな
い。
て、放射されたレーザー光線のための出口窓２の
前に位置する部屋１９に流れることができる。溶
接中の微かな超過圧力はこうして部屋６と部屋１
９の両方に保たれる。この超過圧力はこれらの部
屋を粉塵から守り、そのため放射される光線およ
び受けられる光線が粉塵によつて悪影響されな
い。
第３図は第１図および第２図示の装置とは別の
実施態様に従う導入口１７の詳細な状態を示す。
第３図に示されるように導入口１７のガラス窓９
の端部には、通路１３による薄膜状の流れの形成
に好ましい影響を与える斜面２０が設けられる。
そのうちこのガラス窓９には、案内板１１直下に
ある前述の部屋６を覆う部分９ａ側（第３図の左
方、前述の第１図および第２図の上方）の導入口
１７端部で、前記部分９ａに近づくにつれて（す
なわち第３図の左方になるにつれて）案内板１１
に近づくように（第３図の上方となるように）、
傾斜した斜面２０が形成される。
実施態様に従う導入口１７の詳細な状態を示す。
第３図に示されるように導入口１７のガラス窓９
の端部には、通路１３による薄膜状の流れの形成
に好ましい影響を与える斜面２０が設けられる。
そのうちこのガラス窓９には、案内板１１直下に
ある前述の部屋６を覆う部分９ａ側（第３図の左
方、前述の第１図および第２図の上方）の導入口
１７端部で、前記部分９ａに近づくにつれて（す
なわち第３図の左方になるにつれて）案内板１１
に近づくように（第３図の上方となるように）、
傾斜した斜面２０が形成される。
第４図は第１図および第２図示の装置に類似す
るが、さらに別の実施例のスロツト状導入口１７
付近の詳細な構成を示し、この実施例はアルミニ
ウムの溶接に特に有益である。アルミニウムを溶
接する際、アルミニウム酸化物はとりわけ案内板
１１の上面、特に薄膜状の流れがその下から発生
する案内板１１の縁１１ａ，１１ｂに堆積する。
アルミニウム酸化物の破片が取れ、ガラス窓８，
９に落ちるようになるまで縁１１ａ，１１ｂに堆
積するのには比較的短時間しかかからない。ガラ
ス窓８，９の上に落ちた破片の下流には、薄膜状
の流れのない領域が形成されるので、破片は薄膜
状の流れを妨げ、この領域ではガラス窓８，９の
上にアルミニウム酸化物が堆積する。この問題は
第４図示の実施例に従う構成により実質的に取り
除かれる。
るが、さらに別の実施例のスロツト状導入口１７
付近の詳細な構成を示し、この実施例はアルミニ
ウムの溶接に特に有益である。アルミニウムを溶
接する際、アルミニウム酸化物はとりわけ案内板
１１の上面、特に薄膜状の流れがその下から発生
する案内板１１の縁１１ａ，１１ｂに堆積する。
アルミニウム酸化物の破片が取れ、ガラス窓８，
９に落ちるようになるまで縁１１ａ，１１ｂに堆
積するのには比較的短時間しかかからない。ガラ
ス窓８，９の上に落ちた破片の下流には、薄膜状
の流れのない領域が形成されるので、破片は薄膜
状の流れを妨げ、この領域ではガラス窓８，９の
上にアルミニウム酸化物が堆積する。この問題は
第４図示の実施例に従う構成により実質的に取り
除かれる。
この実施例において、案内板１１には導入口１
７に対向してスロツト状開口部２１が設けられ
る。この開口部２１の幅は導入口１７の幅Ｗ１
（第２図参照）に等しい。
７に対向してスロツト状開口部２１が設けられ
る。この開口部２１の幅は導入口１７の幅Ｗ１
（第２図参照）に等しい。
案内板２２は、案内板１１の上の微かな間隔、
すなわち距離ｚを隔てて装着され、こうして通路
２３および２４が形成される。距離ｚはカバー７
の厚みｙにほぼ等しい。案内板１１の開口部２１
は、導入口１７直上に形成され、上述のように導
入口１７の幅Ｗ１と同一幅を有しており、また第
４図に明らかなように、導入口１７の開口間隔Ｗ
２未満の開口間隔Ｗ３を有し、細長く形成され
る。もう１つの案内板２２は、案内板１１に平行
に設けられて、開口部２１を覆う。この案内板２
２の縁２２ａは、案内板１１における前記部分９
ａを寄り（第４図の左方）の縁１１ａよりも前記
部分９ａから遠去かつて（すなわち第４図の右方
に）、存在する。したがつて第４図では、ｂ＞ｅ
である。上述および後述の説明は主としてガラス
窓９に関連して述べられているけれども、もう１
つのガラス窓８に関してもまた同様である。
すなわち距離ｚを隔てて装着され、こうして通路
２３および２４が形成される。距離ｚはカバー７
の厚みｙにほぼ等しい。案内板１１の開口部２１
は、導入口１７直上に形成され、上述のように導
入口１７の幅Ｗ１と同一幅を有しており、また第
４図に明らかなように、導入口１７の開口間隔Ｗ
２未満の開口間隔Ｗ３を有し、細長く形成され
る。もう１つの案内板２２は、案内板１１に平行
に設けられて、開口部２１を覆う。この案内板２
２の縁２２ａは、案内板１１における前記部分９
ａを寄り（第４図の左方）の縁１１ａよりも前記
部分９ａから遠去かつて（すなわち第４図の右方
に）、存在する。したがつて第４図では、ｂ＞ｅ
である。上述および後述の説明は主としてガラス
窓９に関連して述べられているけれども、もう１
つのガラス窓８に関してもまた同様である。
通路１２および１３と同様に薄膜状の流れは通
路２３および２４にも形成され、この流れは少な
くとも案内板１１の縁１１ａに延びる。この薄膜
状の流れは案内板１１の縁１１ａにアルミニウム
酸化物が堆積するのを防ぐ。案内板２２の縁２２
ａの上のアルミニウム酸化物の堆積物が万一取れ
た場合でも、案内板１１の上に落ちる破片となる
が、ガラス窓８および９の上には落ちず、あるい
は落ちてもまれである。このような破片が案内板
１１の上の薄膜状の流れを妨げたとしても、この
ことはガラス窓８および９の上の薄膜状の流れに
何の直接的影響も与えない。従つてアルミニウム
を溶接する場合、第４図示の実施例に従うガラス
窓８および９の使用期間は第１図示の実施例にお
ける前記ガラス窓８，９のそれよりも相当長くな
る。
路２３および２４にも形成され、この流れは少な
くとも案内板１１の縁１１ａに延びる。この薄膜
状の流れは案内板１１の縁１１ａにアルミニウム
酸化物が堆積するのを防ぐ。案内板２２の縁２２
ａの上のアルミニウム酸化物の堆積物が万一取れ
た場合でも、案内板１１の上に落ちる破片となる
が、ガラス窓８および９の上には落ちず、あるい
は落ちてもまれである。このような破片が案内板
１１の上の薄膜状の流れを妨げたとしても、この
ことはガラス窓８および９の上の薄膜状の流れに
何の直接的影響も与えない。従つてアルミニウム
を溶接する場合、第４図示の実施例に従うガラス
窓８および９の使用期間は第１図示の実施例にお
ける前記ガラス窓８，９のそれよりも相当長くな
る。
ガラス窓８，９に代えて、その他のレーザー光
線などの光を透過させる材料から成る板であつて
もよい。
線などの光を透過させる材料から成る板であつて
もよい。
以上のように請求項１および請求項３の本発明
によれば、清浄な気体が前記導入口１７に導か
れ、これによつて板状体９，１５の透明な第１部
分９ａの表面上に薄膜状の流れが接触して、その
表面の全面にわたつて流れるので、汚染気体が前
記表面に付着することが、清浄気体の薄膜状の流
れによつて妨げられ、その表面が常に清浄に保た
れる。
によれば、清浄な気体が前記導入口１７に導か
れ、これによつて板状体９，１５の透明な第１部
分９ａの表面上に薄膜状の流れが接触して、その
表面の全面にわたつて流れるので、汚染気体が前
記表面に付着することが、清浄気体の薄膜状の流
れによつて妨げられ、その表面が常に清浄に保た
れる。
またこの表面にたとえ汚染物質が堆積ないしは
付着しても、清浄気体の薄膜状の流れが、その表
面上に接触してその表面の全面にわたつて流れる
ので、その表面に付着または堆積している汚染物
質が除去される。
付着しても、清浄気体の薄膜状の流れが、その表
面上に接触してその表面の全面にわたつて流れる
ので、その表面に付着または堆積している汚染物
質が除去される。
また請求項１および請求項３の本発明によれ
ば、板状体９，１５には、基体１，４の排出口１
６に重なり合う導入口１７が形成されており、こ
の導入口１７は、少なくとも部屋６を覆う第１部
分９ａの幅と等しい幅Ｗ１を有し、かつ一様な開
口間隔Ｗ２で細長く形成されており、案内板１１
は、導入口１７を覆い、しかも前記第１部分９ａ
よりも導入口１７寄りで導入口１７から予め定め
る長さｂにわたる板状体９，１５の第２部分９ｂ
との間で、カバー７の厚みｙに等しい高さｙを有
しかつ導入口１７に連通する偏平な通路１３を、
形成するので、板状体９，１５の少なくとも部屋
６を覆う第１部分９ａ上の表面の全面にわたつて
清浄気体の薄膜状の流れを確実に形成することが
できるとともに、清浄気体の全てが、前記表面上
に接触する薄膜状の流れを形成することになり、
清浄気体の無駄がなくなる。
ば、板状体９，１５には、基体１，４の排出口１
６に重なり合う導入口１７が形成されており、こ
の導入口１７は、少なくとも部屋６を覆う第１部
分９ａの幅と等しい幅Ｗ１を有し、かつ一様な開
口間隔Ｗ２で細長く形成されており、案内板１１
は、導入口１７を覆い、しかも前記第１部分９ａ
よりも導入口１７寄りで導入口１７から予め定め
る長さｂにわたる板状体９，１５の第２部分９ｂ
との間で、カバー７の厚みｙに等しい高さｙを有
しかつ導入口１７に連通する偏平な通路１３を、
形成するので、板状体９，１５の少なくとも部屋
６を覆う第１部分９ａ上の表面の全面にわたつて
清浄気体の薄膜状の流れを確実に形成することが
できるとともに、清浄気体の全てが、前記表面上
に接触する薄膜状の流れを形成することになり、
清浄気体の無駄がなくなる。
さらに薄い板状のカバー７の上には、案内板１
１が設けられており、このカバー７の切欠き７ａ
は、板状体９，１５の第１部分９ａと第２部分９
ｂと導入口１７とを露出させて各両側方を囲み、
したがつて案内板１１によつて板状体９，１５の
前記第２部分９ｂとの間で、そのカバー７の厚み
ｙに等しい高さｙを有する偏平な通路１３を正確
に形成することができ、薄膜状の清浄気体の流れ
を確実に形成することができるという優れた効果
が達成される。
１が設けられており、このカバー７の切欠き７ａ
は、板状体９，１５の第１部分９ａと第２部分９
ｂと導入口１７とを露出させて各両側方を囲み、
したがつて案内板１１によつて板状体９，１５の
前記第２部分９ｂとの間で、そのカバー７の厚み
ｙに等しい高さｙを有する偏平な通路１３を正確
に形成することができ、薄膜状の清浄気体の流れ
を確実に形成することができるという優れた効果
が達成される。
しかも基体１，４は、前面に臨んで凹んだ部屋
６を有し、その一端部寄りに形成された入口５ａ
からは、供給手段５からの清浄な気体が圧送供給
され、基体１，４の前記一端部に対向する他端部
に形成された排出口１６から、その清浄な気体が
排出されるので、部屋６に粉塵などが侵入するこ
とが防がれ、そのため部屋６に臨んで設けられる
たとえばレーザー光線の受光手段またはレーザー
光源などの光学手段の汚損を確実に防ぐことがで
きる。
６を有し、その一端部寄りに形成された入口５ａ
からは、供給手段５からの清浄な気体が圧送供給
され、基体１，４の前記一端部に対向する他端部
に形成された排出口１６から、その清浄な気体が
排出されるので、部屋６に粉塵などが侵入するこ
とが防がれ、そのため部屋６に臨んで設けられる
たとえばレーザー光線の受光手段またはレーザー
光源などの光学手段の汚損を確実に防ぐことがで
きる。
しかもこの部屋６からの排出口１６を経て導か
れる清浄な気体は、前述のように導入口１７から
偏平な通路１３を経て、前記第１部分９ａ上に薄
層状の流れを形成させるので、構成が簡略化され
るという優れた効果もまた達成される。特にこの
ような構成の簡略化は、粉塵の多い悪環境下で、
メンテナンスを容易にするために、重要なことで
ある。
れる清浄な気体は、前述のように導入口１７から
偏平な通路１３を経て、前記第１部分９ａ上に薄
層状の流れを形成させるので、構成が簡略化され
るという優れた効果もまた達成される。特にこの
ような構成の簡略化は、粉塵の多い悪環境下で、
メンテナンスを容易にするために、重要なことで
ある。
特に請求項３の本発明によれば、第１案内板１
１に形成された開口部２１は、導入口１７直上
で、導入口１７の幅Ｗ１と同一幅を有し、かつ導
入口１７の開口間隔Ｗ２未満の開口間隔Ｗ３を有
し、細長く形成されているので、導入口１７から
の清浄気体の一部分だけが、その開口部２１か
ら、第１案内板１１と第２案内板２２との間の間
隔ｚの通路２４に流れ、この第２案内板２２は、
開口部２１を覆うとともに、その縁２２ａは、板
状体９，１５の少なくとも部屋６を覆う第１部分
９ａ寄りにある第１案内板１１の縁１１ａより
も、その第１部分９ａから遠去かつて形成され、
すなわち第４図において、ｂ＞ｅであるので、第
１案内板１１の縁１１ａへのアルミニウム酸化物
などの堆積を防ぐことができるという優れた効果
が達成される。これによつて板状体９，１５の前
記第１部分９ａを長期間にわたつて清浄に保つこ
とができる。
１に形成された開口部２１は、導入口１７直上
で、導入口１７の幅Ｗ１と同一幅を有し、かつ導
入口１７の開口間隔Ｗ２未満の開口間隔Ｗ３を有
し、細長く形成されているので、導入口１７から
の清浄気体の一部分だけが、その開口部２１か
ら、第１案内板１１と第２案内板２２との間の間
隔ｚの通路２４に流れ、この第２案内板２２は、
開口部２１を覆うとともに、その縁２２ａは、板
状体９，１５の少なくとも部屋６を覆う第１部分
９ａ寄りにある第１案内板１１の縁１１ａより
も、その第１部分９ａから遠去かつて形成され、
すなわち第４図において、ｂ＞ｅであるので、第
１案内板１１の縁１１ａへのアルミニウム酸化物
などの堆積を防ぐことができるという優れた効果
が達成される。これによつて板状体９，１５の前
記第１部分９ａを長期間にわたつて清浄に保つこ
とができる。
第１図は本発明の一実施例の断面図、第２図は
第１図に示される実施例の正面図、第３図は本発
明の他の実施例の導入口１７付近の断面図、第４
図は本発明のさらに他の実施例の導入口１７付近
の断面図である。 １……ハウジング、４……本体、５……供給
管、６……部屋、７……カバー、８，９……ガラ
ス窓、１１……案内板、１１ａ，２２ａ……縁、
１２，１３；２３，２４……通路、１５……スペ
ーサ板、１６……排出口、１７……導入口、２０
……斜面、２１……開口部、２２……案内板。
第１図に示される実施例の正面図、第３図は本発
明の他の実施例の導入口１７付近の断面図、第４
図は本発明のさらに他の実施例の導入口１７付近
の断面図である。 １……ハウジング、４……本体、５……供給
管、６……部屋、７……カバー、８，９……ガラ
ス窓、１１……案内板、１１ａ，２２ａ……縁、
１２，１３；２３，２４……通路、１５……スペ
ーサ板、１６……排出口、１７……導入口、２０
……斜面、２１……開口部、２２……案内板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 前面に臨んで凹んだ部屋６を有し、この部屋
６の一端部寄りに入口５ａが形成され、前記一端
部に対向する他端部に排出口１６が形成される基
体１，４と、 前記入口５ａに清浄気体を圧送供給する供給手
段５と、 部屋６を覆つて排出口１６よりも部屋６から遠
去かる位置まで延びて基体１，４に取付けられる
平らな板状体９，１５であつて、この板状体９，
１５には、排出口１６に重なり合う導入口１７が
形成されており、この板状体９，１５は、部屋６
を覆う第１部分９ａと、前記第１部分９ａよりも
導入口１７寄りで導入口１７から予め定める長さ
ｂにわたる第２部分９ｂとを有し、少なくとも第
１部分９ａは透明であり、この導入口１７は、前
記第１部分９ａの幅と等しい幅Ｗ１を有し、かつ
一様な開口間隔Ｗ２で細長く形成されている、そ
のような板状体９，１５と、 板状体９，１５の外面に設けられ、前記第１部
分９ａと第２部分９ｂと導入口１７とを露出させ
て各両側方を囲む切欠き７ａを有し、厚みｙが薄
い板状のカバー７と、 カバー７上で前記板状体９，１５に平行に設け
られ、導入口１７を覆う案内板１１であつて、こ
の案内板１１は、板状体９，１５の第２部分９ｂ
との間で、カバー７の厚みｙに等しい高さｙを有
しかつ導入口１７に連通する偏平な通路１３を形
成する案内板１１と、 基体１，４の部屋６を介して前記第１部分９ａ
に臨む光学手段とを含むことを特徴とする汚染気
体から光学手段を保護するための装置。 ２ 前記板状体９，１５には、前記第１部分９ａ
側の案内板１１直下にある導入口１７端部で、前
記第１部分９ａに近づくにつれて案内板１１に近
づくように傾斜した斜面２０が形成される特許請
求の範囲第１項記載の汚染気体から光学手段を保
護するための装置。 ３ 前面に臨んで凹んだ部屋６を有し、この部屋
６の一端部寄りに入口５ａが形成され、前記一端
部に対向する他端部に排出口１６が形成される基
体１，４と、 前記入口５ａに清浄気体を圧送供給する供給手
段５と、 部屋６を覆つて排出口１６よりも部屋６から遠
去かる位置まで延びて基体１，４に取付けられる
平らな板状体９，１５であつて、この板状体９，
１５には、排出口１６に重なり合う導入口１７が
形成されており、この板状体９，１５は、部屋６
を覆う第１部分９ａと、前記第１部分９ａよりも
導入口１７寄りで導入口１７から予め定める長さ
ｂにわたる第２部分９ｂとを有し、少なくとも第
１部分９ａは透明であり、この導入口１７は、前
記第１部分９ａの幅と等しい幅Ｗ１を有し、かつ
一様な開口間隔Ｗ２で細長く形成されている、そ
のような板状体９，１５と、 板状体９，１５の外面に設けられ、前記第１部
分９ａと第２部分９ｂと導入口１７とを露出させ
て各両側方を囲む切欠き７ａを有し、厚みｙが薄
い板状のカバー７と、 カバー７上で前記板状体９，１５に平行に設け
られ、導入口１７を覆う第１案内板１１であつ
て、この第１案内板１１は、板状体９，１５の第
２部分９ｂとの間で、カバー７の厚みｙに等しい
高さｙを有しかつ導入口１７に連通する偏平な通
路１３を形成し、さらに導入口１７直上で、導入
口１７の幅W1と同一幅を有しかつ導入口１７の
開口間隔Ｗ２未満の開口間隔Ｗ３を有する細長い
開口部２１を有する第１案内板１１と、 基体１，４の部屋６を介して前記第１部分９ａ
に臨む光学手段と、 第１案内板１１の上方にカバー７の厚みｙとほ
ぼ等しい間隔ｚをあけて、第１案内板１１に平行
に設けられ、開口部２１を覆うとともに、第１案
内板１１の前記第１部分９ａ寄りの縁１１ａより
も第１部分９ａから遠去かつた縁２２ａを有する
第２案内板２２とを含むことを特徴とする汚染気
体から光学手段を保護するための装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8402872A NL8402872A (nl) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | Inrichting voor het afschermen van optische organen bij een automatisch lasproces. |
| NL8402872 | 1984-09-19 |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4224448A Division JPH074669B2 (ja) | 1984-09-19 | 1992-08-24 | 検出装置 |
| JP22442992A Division JPH05210065A (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | 検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61123813A JPS61123813A (ja) | 1986-06-11 |
| JPH0379687B2 true JPH0379687B2 (ja) | 1991-12-19 |
Family
ID=19844493
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60204169A Granted JPS61123813A (ja) | 1984-09-19 | 1985-09-13 | 汚染気体から光学手段を保護するための装置 |
| JP4224448A Expired - Lifetime JPH074669B2 (ja) | 1984-09-19 | 1992-08-24 | 検出装置 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4224448A Expired - Lifetime JPH074669B2 (ja) | 1984-09-19 | 1992-08-24 | 検出装置 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4658113A (ja) |
| EP (1) | EP0179505B1 (ja) |
| JP (2) | JPS61123813A (ja) |
| KR (1) | KR900004973B1 (ja) |
| AU (1) | AU576261B2 (ja) |
| CA (1) | CA1291887C (ja) |
| DE (1) | DE3567714D1 (ja) |
| IL (1) | IL76255A (ja) |
| NL (1) | NL8402872A (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8402872A (nl) * | 1984-09-19 | 1986-04-16 | Optische Ind De Oude Delft Nv | Inrichting voor het afschermen van optische organen bij een automatisch lasproces. |
| CA1280807C (en) * | 1987-09-11 | 1991-02-26 | National Research Council Of Canada | Adaptive welding control vision head |
| FI93582C (fi) * | 1991-09-18 | 1995-04-25 | Janesko Oy | Sovitelma prosessissa olevan optisen ikkunan puhdistamiseksi |
| JPH0780645A (ja) * | 1993-09-08 | 1995-03-28 | Fanuc Ltd | 溶接センサの冷却装置 |
| JPH08132235A (ja) * | 1994-11-11 | 1996-05-28 | Fanuc Ltd | 産業用溶接ロボットの冷却装置 |
| US5727300A (en) * | 1995-02-07 | 1998-03-17 | The Boeing Company | Fastener verification system |
| US5879626A (en) * | 1997-07-30 | 1999-03-09 | Allen-Bradley Company, Llc | Photoelectric sensor having dust removal apparatus |
| DE10305258A1 (de) * | 2002-02-08 | 2003-08-21 | Creo Inc | Verfahren und Vorrichtung zum Schutz von optischen Elementen |
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