JPH038307A - ロータリートランス - Google Patents

ロータリートランス

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JPH038307A
JPH038307A JP1143852A JP14385289A JPH038307A JP H038307 A JPH038307 A JP H038307A JP 1143852 A JP1143852 A JP 1143852A JP 14385289 A JP14385289 A JP 14385289A JP H038307 A JPH038307 A JP H038307A
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JP
Japan
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magnetic
winding
magnetic thin
winding groove
rotary transformer
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JP1143852A
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Katsuyuki Himeshima
姫島 克行
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Sharp Corp
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Sharp Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、家庭用V T R[video tape 
recorderl等のように回転ヘッドを用いる磁気
記録再生装置おいて、回転ヘッド側と固定装置側との間
で信号の伝送を行うロータリートランスに関するもので
ある。
〔従来の技術〕
ロータリートランスは、装置本体側に固定されたステー
タと回転ヘッドに伴って回転するロータからなる。そし
て、従来のロータリートランスは、これらステータとロ
ータが共に第8図に示すようなコア11によって構成さ
れていた。
このコア11は、N1−Zn系フェライトからなる酸化
物磁性体を円盤状に形成したものであり、中心に回転軸
を通すための孔12が設けられている。また、このコア
11の一方の端面である対向面11aには、孔12に対
して同心円となる環状の巻線溝13・13が設けられて
いる。なお、ここでは2チヤンネルのロータリートラン
スを例示しているので、巻線溝13・13は、内周側と
外周側に2本形成されることになる。
上記コア11は、結合剤を添加したNi−Znフェライ
ト粉体を高圧で成形し高温(1200°C)で焼成した
後に所定の機械加工を施すことによって製造される。
そして、このコア11の各巻線溝13・13内には、巻
線14・14が施されている。
ステータは、上記のように構成されたコア11を装置本
体側に固定したものであり、このコア11の各巻線14
は、装置本体側の記録再生回路に接続されている。また
、ロータは、同じ構成のコア11をステータのコア11
と中心軸が−敗し、かつ対向面11a同士が互いに僅か
な間隙を介して向かい合うように配置すると共に、回転
ヘッドに伴って回転するようにしたものである。そして
、このロータ側の各巻線14は、回転ヘッドの各磁気ヘ
ッドに接続されている。
この結果、回転する磁気ヘッドと固定された記録再生回
路は、ロータリートランスによって磁気的に結合され、
両者間での信号の伝送が可能となる。
(発明が解決しようとする課題〕 ロータリートランスの伝送効率E、/aE、は、下記の
式■によって決定される。
ここで、Kは結合係数であり、L3はロータ側から見た
組み合わせインダクタンス、L、は磁気ヘッドのインダ
クタンスである。また、一般にり。
<L、の関係を有する。
この式■から、伝送効率El/aE6を高めるには、イ
ンダクタンスLIIを共振周波数がシステムの帯域まで
落ち込まない程度に高くすればよいことが分かる。
ところで、磁気回路におけるインダクタンスしは、下記
の式■によって表される。
K。
ここで、Nは巻線の巻数、R,は磁路の磁気抵抗である
また、この磁気抵抗R1は、下記の弐〇によって表され
る。
ここで、μは磁路のi!!i磁率、Sは磁路の断面積、
!はけ路長である。
このため、式■にこの弐〇を代入すると、下記の弐〇が
求められる。
! 従って、インダクタンスしは、透磁率μと断面積Sに比
例することが分かる。そして、式■におけるインダクタ
ンスし、も、第8図に示すコア11の透磁率と断面積に
比例することになる。
この結果、ロータリートランスの伝送効率は、コア11
の透磁率と断面積に依存し、これらが小さくなるとイン
ダクタンスし、の低下に伴って伝送効率も悪化すること
になる。
ところが、近年の磁気記録再生装置は、例えばVTRに
おける高画質・高品位ビデオ信号等の記録のために、ロ
ータリートランスの高帯域化がさらに要請されるように
なっている。ここで、コア11に使用しているNi−Z
n系フェライトの透磁率の周波数特性を第2図の曲線B
に示す。この曲線Bから明らかなようにコア11の透磁
率は周波数が高くなるほど低下し、従来の家庭用VTR
の帯域であるlOMHzを超える周波数では、透磁率も
300以下となる。
このため、ロータリートランスの伝送効率もこのコア1
1の透磁率の低下に伴って悪化し、従来のロータリート
ランスを使用して装置の高帯域化を図ることは困難であ
った。
また、設置スペース等の関係で磁気記録再生装置の小型
化が望まれ、これに伴ってロータリートランスも形状を
小型にする必要が生じている。しかも、例えば家庭用V
TRにおけるFM音声記録やフライングイレーズヘッド
等の採用により、ロータリートランスのチャンネル数は
増加傾向にある、ロータリートランスが小型化されると
、コア11における対向面11aの面積(「直径D2の
円の面積]−「直径り、の円の面積」)が小さくなる。
また、ロータリートランスのチャンネル数が増加すると
、1チヤンネルに割り当てられるコア11の対向面11
aの面積が小さくなる。この結果、ロータリートランス
の伝送効率も、ロータリートランスの小型化およびチャ
ンネル数の増加に伴って悪化することになる。また、こ
のような小型化および多チャンネル化は、チャンネル間
の接近によりクロストークを増加させることになる、こ
のため、従来のロータリートランスを使用して装置の小
型化および多チャンネル化を図ることも困難であった。
従って、従来のロータリートランスは、高帯域化、小型
化および多チャンネル化が容易に図り得ないという問題
点を有していた。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係るロータリートランスは、上記課題を解決す
るために、固定部とこの固定部に対して間隙を介して回
転する回転部とからなり、これら固定部と回転部とにお
けるそれぞれの対向面に巻線溝を形成すると共に、各巻
線溝内に巻線を施すことにより、回転ヘッド側と固定装
置側との間で信号の伝送を行うロータリートランスにお
いて、回転部と固定部とが非磁性体からなる基板を有し
、かつ、各巻線溝と各巻線溝の側面表面部に形成された
段差部とがこれら基板にそれぞれ形成されると共に、上
記各巻線溝および各段差部に合金磁性材料からなる磁性
薄膜が形成され、上記段差部は、径方向の長さが各巻線
溝の底面に形成された磁性薄膜の全厚みよりも大きくな
るように形成されていることを特徴としている。
〔作 用〕
上記構成によれば、固定部側の巻線と回転部側の巻線と
がそれぞれの磁性薄膜とこれらの間の間隙からなる磁気
回路を介して磁気的に結合される、そして、この磁性薄
膜は、合金磁性材料からなるので、透磁率が酸化物磁性
材料に比べて高周波領域においても高くなる。
従って、この磁気回路における透磁率の向上により伝送
効率を高めることができるので、ロータリートランスの
高帯域化が可能となる。また、このように透磁率が向上
すると、磁路の断面積の減少による伝送効率の低下を補
うことができるようになるので、ロータリートランスの
小型化および多チャンネル化も可能となる。さらに、各
巻線溝に形成された磁性薄膜と他の巻線溝に形成された
磁性薄膜との間は、基板の非磁性体によって磁気的に絶
縁されている。このため、チャンネル間のクロストーク
も減少させることができるので、小型化および多チャン
ネル化を容易にすることができる。
さらに、固定部と回転部とに形成された段差部は、径方
向の長さが巻線溝底面に形成された磁性薄膜の全厚みよ
りも大きく形成されている。従って、固定部と回転部と
を対向させた場合には、対向する段差部同士の磁気抵抗
が減少することになる。
これにより、ロータリートランスを磁気記録装置の回転
シリンダに設置した場合、ロータリートランスにおける
インダクタンスの変化は、たとえ固定部と回転部とに寸
法的に微妙なズレが発生しても、このズレによる影響が
上記磁気抵抗の減少により小さいものとなる。
〔実施例J 本発明の一実施例を第1図乃至第6図に基づいて説明す
れば、以下の通りである。
本実施例のロータリートランスは、円盤型のステータと
ロータを有するものを示す、ステータは、装置本体側に
固定されている。また、ロータは、回転ヘッドに伴って
回転するようになっている、そして、これらのステータ
およびロータは、第1図に示す基板21によって構成さ
れている。
基板21は、円盤状の非磁性体からなり、中心に回転軸
を通すための孔22が設けられている。
また、この基板21の一方の端面である対向面21aに
は、孔22に対して同心円となる環状の巻線溝23・2
3が設けられている。なお、ここでは、2チヤンネルの
ロータリートランスを例示しているので、巻線溝23・
23は、内周側と外周側に2本形成されている。
上記の各巻線溝23は、両側面がそれぞれテーバ状に形
成され、溝幅が対向面21aに近い部分はど広くなるよ
うになっている。上記の各巻線溝23の両側面には、対
向面21aに近い表面部において、磁気抵抗を減少させ
るように段差部29・29が形成されている。また、各
巻線溝23および各段差部29には、第6図(b)に示
すように、絶縁層26・26を介して合金磁性材料から
なる磁性薄膜25・・・が一定の厚さで形成されている
上記の各段差部29は、第3図(a)および第3図(b
)に示すように、対向面21aと平行に形成されている
。そして、各段差部29は、径方向の長さり、が巻線溝
23・23の底面に形成された磁性薄膜25・・・の全
厚みt2よりも大きくなるように設定されている。
これにより、ロータリートランスを磁気記録装置の回転
シリンダに設置した場合、ロータリートランスにおける
インダクタンスの変化は、たとえ固定部と回転部とに寸
法的に微妙なズレが発生しても磁気抵抗が対向する各段
差部29で減少するために、このズレによる影響が小さ
くなるようになっている。
ここで、合金磁性材料からなる磁性薄膜25として例え
ば4.5μmの膜厚のセンダスト薄膜を2層に積層した
場合における透磁率の周波数特性を第2図の曲線Aに示
す。この曲線Aから明らかなようにセンダスト薄膜は、
前述の曲線Bで示したNi−Zn系フェライトに比べ全
帯域で透磁率が高く、家庭用VTRの帯域上限であるI
OMI(zにおいても、約10dBの差を有することに
なる、従って、この磁性薄膜25をコアとすれば、従来
の酸化物磁性体からなるコアよりも広い帯域で高い透磁
率を得ることができる。
上記磁性yl膜25は、後に説明するように、スパッタ
リングや蒸着によって形成される。このため、第3図(
a)に示すように、巻線溝23の両側面が円筒面状に形
成され、対向面21aに対して垂直面となっている場合
には、この両側面に形成される磁性薄膜25の膜厚t1
 ・t、が底面の膜厚し、よりも薄くなり、しかも一定
の厚さに形成、することが困難になる。そこで、本実施
例では、巻線溝23の両側面を前述のようにテーバ状に
形成している。すると、第3図(b)に示すように、こ
の巻線溝23の内面にスパッタリングや蒸着によって磁
性薄膜25を形成した場合にも、両側面における膜厚t
1 ・tlと底面の全厚みt2とがほぼ均等かつ一定に
なるように形成することができる。このように形成され
た磁性薄膜25は、第3図(a)の場合と比較して磁気
抵抗が低下し、かつこの磁気抵抗のバラツキを少なくす
ることができるようになる。
また、上記磁性薄膜25は、第4図に示すように、巻線
溝23の内面に下地層28を介して形成される。この下
地層28は、基板21と磁性薄膜25との間における密
着性向上、応力差の緩和および熱処理時の化学反応の防
止並びに磁性薄膜25の配向性の改善のために形成され
るものである。
さらに、上記磁性薄膜25は、同じく第4図に示すよう
に、電気的絶縁体からなる絶縁層26・26を介した3
層構造となるように形成されている。これは、磁性薄膜
25を絶縁体を介して積層構造とすることにより、磁束
によって生じるうず電流損失を低減させるためである。
従って、この磁性薄膜25の各層の厚さtは、下記の式
を満足する条件で決定する。
ここで、μ。は真空透磁率、μ。は使用帯域の上限周波
数f、における比透磁率、ρは電気比抵抗である。また
、ω=2πfCである。上記各絶縁層26の厚さは、数
百〜数千人程度とする。なお、この磁性yI膜25は、
積層数を多くするほどよいが、加工時間との兼ね合いか
らここでは3層構造としている。
上記基板21は、第4図に示すように、対向面21a上
および巻線溝23内に形成した磁性薄膜25上の全面を
保護膜27で被われている。この保護膜27は、対向面
21a側の電気的絶縁および磁性薄膜25の保護のため
のものである。
また、第1図に示すように、上記基板21における各巻
線溝23内には、巻線24が巻回されている。なお、こ
の巻線24は、パターン化処理されたものであってもよ
く、又は、薄膜によって形成されたものであってもよい
前記ロータリートランスにおけるステータは、上記構成
の基板21を装置本体側に固定したものであり、この基
板21の各巻線24は、装置本体側の記録再生回路に接
続される。また、ロータは、同じ構成の基板21をステ
ータの基板21と中心軸が一致し、かつ対向面21a同
士が互いに僅かな間隔を介して向かい合うように配置す
ると共に、回転ヘッドに伴って回転するようにしたもの
である。そして、このロータ側の各巻線24は、回転ヘ
ッドの各磁気ヘッドに接続される。
この結果、本実施例におけるステータおよびロータは、
透磁率の高い合金磁性材料からなる磁性薄膜25をコア
として使用することができる。従って、磁気回路を構成
するコアの透磁率の向上により、高い周波数においても
伝送効率を高めることができるので、ロータリートラン
スの高帯域化が可能となる。また、全帯域の透磁率も向
上するので、磁路の断面積の減少による伝送効率の低下
を補うことができるようになり、ロータリートランスの
小型化および多チャンネル化も可能となる、さらに、各
巻線溝23に形成された磁性薄膜25と他の巻線溝23
に形成された磁性薄膜25との間が基板21の非磁性体
によって磁気的に絶縁されるので、チャンネル間のクロ
ストークを減少させることができ、上記小型化および多
チャンネル化を容易にすることができる。
上記のように構成された基板21の製造方法を第5図お
よび第6図に基づいて説明する。
基板21は、第5図(a)に示すように、中心に孔22
が開口された円盤状の非磁性体を使用する。この基板2
1は、磁性薄膜25と同等の線膨張係数を有し、加工性
のよい材料が望ましい。
上記基板21には、第5図(b)に示すように、孔22
に対して同心円となり、基板21表面に対し平行な2本
の環状の段差部29・29を形成する。そして、第5図
(C)に示すように、孔22および段差部29・29に
対し同心円となる2本の環状の巻線溝23・23を形成
する。この際、段差部29・29は、第3図(b)に示
すように、径方向の長さt、が巻線溝23底面に後の工
程で形成される磁性薄膜25の全厚みt2よりも大きく
なるように設定する。
また、上記の段差部29・29および巻線溝23・23
は、前述のようにそれぞれの両側面がテーバ状に形成さ
れる。尚、これらの段差部29・29および巻線溝23
・23は、機械加工による他、選択エツチングにより形
成することが可能である。また、機械加工によって形成
した場合には、各段差部29および各巻線溝23内の表
面粗さを小さくするためにエツチング処理を行うことが
好ましい。
巻線溝23・23が形成されると、第6図(a)に示す
ように、基板21の対向面21a上、各段差部29、お
よび各巻線溝23の内面全面にスパッタリング又は蒸着
によって下地層28を形成する。この下地層2日として
は、前述の密着性向上等の目的に応じて、S to、、
Tags 、AltO,、Cry 03若しくはSiO
等の酸素化合物若しくはこれらの複合物、Cr5Ta、
Nb、Hf若しくはMo等の非磁性金属又はFe、、N
i若しくはNi−Fe等の磁性金属等が用いられる。
下地層28が形成されると、第5図(d)に示すように
、対向面21a上、各段差部29、および各巻線溝23
の内面全面にスパッタリング又は蒸着によって磁性薄膜
25を形成する。
上記磁性薄膜25は、第6図(b)に示すように、絶縁
層26・26を介して3層状に形成される。この磁性薄
WA25の各層は、使用帯域に応じて、N1−Fe系、
Fe−3i系、Fe−Affi系、Fe−Al−3t系
若しくはGo−Fe−Ni系等の合金磁性材料、Co−
Zr系若しくはCo−Nb系等の合金磁性材料又はCr
、Fe、Ni、Ti、、Ta5Zr、Nb、S i、B
SY、Re。
Hf、Zn、Mn、Au若しくはRu等の元素を1種若
しくは2種類以上含む非晶質の合金磁性材料等が用いら
れる。また、絶縁層26・26もスパッタリング又は蒸
着によって形成され、Sin。
、ZrO,、Ta、O,又はCr等が用いられる。
磁性薄膜25が形成されると、この磁性薄膜25の磁気
特性を安定させるために熱処理を行う。
この熱処理は、磁性薄膜25の材料により異なるが、例
えばFe−Aj2−3i系の合金磁性材料の場合には、
500°(1?1時間行う。
熱処理が完了すると、第5図(e)に示すように、対向
面21aを基板21が露出するまで研磨する。また、こ
の研磨加工後には、加工変質層を除去して磁気特性を改
善するために、エツチング処理を行うことが好ましい。
研磨加工が完了すると、第5図(f)に示すように、対
向面21a上および各巻線溝23内の磁性薄膜25上全
面にスパッタリング又は蒸着により保護膜゛27を形成
する。この保護膜27は、Si0.又はCr等が用いら
れる。
この保護膜27が形成されると、基Fi、21が完成す
る。そして、第1図に示すように、この基板21の各巻
線溝23に巻線24を巻回し、この巻線24を固定する
と共に線処理を行うことでロータリートランスが形成さ
れる。
尚、本実施例においては、段差部29に形成された磁性
薄膜25・・・は、対向面21aに対して平行に形成さ
れているが、これに限定されることはなく、例えば第7
図に示すように、段差部29に対して略垂直に形成され
ていても良い。
これにより、磁束の伝達効率は、磁性薄膜25が段差部
29に対して平行に形成されていた場合よりも一層向上
させることが可能になる。
また、磁性薄膜25は、等方性または異方性のいずれを
有していても良く、例えば段差部29および巻線溝23
の磁性薄膜25に異方性を持たせた場合には、磁束の伝
達効率を制御することが可能になる。
〔発明の効果〕
本発明に係るロータリートランスは、以上のように、固
定部とこの固定部に対して間隙を介して回転する回転部
とからなり、これら固定部と回転部とにおけるそれぞれ
の対向面に巻線溝を形成すると共に、各巻線溝内に巻線
を施すことにより、回転ヘッド側と固定装置側と、の間
で信号の伝送を行うロータリートランスにおいて、回転
部と固定部とが非磁性体からなる基板を有し、かつ、各
巻線溝と各巻線溝の側面表面部に形成された段差部とが
これら基板にそれぞれ形成されると共に、上記各巻線溝
および各段差部に合金磁性材料からなる磁性薄膜が形成
され、上記段差部は、径方向の長さが各巻線溝の底面に
形成された磁性薄膜の全厚みよりも大きくなるように形
成されている構成である。
これにより、磁気回路の透磁率を高め伝送効率を向上さ
せることから、ロータリートランスの高帯域化が可能と
なる。また、このように透磁率が向上すると、磁路の断
面積の減少による伝送効率の低下を補うことができるよ
うになるので、ロータリートランスの小型化および多チ
ャンネル化も可能となる。さらに、基板の非磁性材料に
よりチャンネル間が絶縁されるので、ロータリートラン
スの小型化および多チャンネル化によるクロストークの
増加を防止することができる。
従って、本発明は、ロータリートランスの高帯域化並び
に小型化、多チャンネル化を促進することができるとい
う効果を奏する。
さらに、段差部の径方向の長さが巻線溝の底面に形成さ
れた磁性薄膜の全厚みよりも大きくされているために、
段差部における磁気抵抗が減少する。従って、ロータリ
ートランスを磁気記録装置の回転シリンダに設置した場
合、固定部と回転部とが寸法的に微妙にズしても、ロー
タリートランスのインダクタンスへの影響が上記磁気抵
抗の減少により小さいものになるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第6図は、本発明の一実施例を示すものであ
る。 第1図は、ロータリートランスの縦断面図である。 第2図は、合金磁性材料と酸化物磁性材料の周波数特性
を比較した図である。 第3図(a)(b)は、ロータリートランスにおける巻
線溝の形状を比較した部分拡大縦断面図である。 第4図は、ロータリートランスにおける巻線溝部の部分
拡大縦断面図である。 第5図(a)〜(f)は、それぞれロータリートランス
の各製造過程を示す縦断面図である。 第6図(a)(b)は、それぞれロータリートランスの
各製造過程における巻線溝部の部分拡大縦断面図である
。 第7図は、本発明の他の実施例を示すものであり、ロー
タリートランスにおける巻線溝部の部分拡大縦断面図で
ある。 第8図は、従来例を示すものであって、ロータリートラ
ンスの縦断面図である。 21は基板、21aは対向面、23は巻線溝、24は巻
線、25は磁性薄膜、29は段差部である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.固定部とこの固定部に対して間隙を介して回転する
    回転部とからなり、これら固定部と回転部とにおけるそ
    れぞれの対向面に巻線溝を形成すると共に、各巻線溝内
    に巻線を施すことにより、回転ヘッド側と固定装置側と
    の間で信号の伝送を行うロータリートランスにおいて、 回転部と固定部とが非磁性体からなる基板を有し、かつ
    、各巻線溝と各巻線溝の側面表面部に形成された段差部
    とがこれら基板にそれぞれ形成されると共に、上記各巻
    線溝および各段差部に合金磁性材料からなる磁性薄膜が
    形成され、上記段差部は、径方向の長さが各巻線溝の底
    面に形成された磁性薄膜の全厚みよりも大きくなるよう
    に形成されていることを特徴とするロータリートランス
JP1143852A 1989-06-06 1989-06-06 ロータリートランス Pending JPH038307A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010283263A (ja) * 2009-06-08 2010-12-16 Nec Tokin Corp 非接触電力伝送装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010283263A (ja) * 2009-06-08 2010-12-16 Nec Tokin Corp 非接触電力伝送装置

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