JPH0383295A - センスアンプ - Google Patents

センスアンプ

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JPH0383295A
JPH0383295A JP1218193A JP21819389A JPH0383295A JP H0383295 A JPH0383295 A JP H0383295A JP 1218193 A JP1218193 A JP 1218193A JP 21819389 A JP21819389 A JP 21819389A JP H0383295 A JPH0383295 A JP H0383295A
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    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
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    • G11C16/28Sensing or reading circuits; Data output circuits using differential sensing or reference cells, e.g. dummy cells
    • GPHYSICS
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    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • G11C17/08Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements
    • G11C17/10Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は半導体記憶装置に係り、特に1ビットの情報を
真補の2個のメモリセルで記憶する方式の半導体記憶装
置に用いられるセンスアンプに間する。
[従来の技術] 従来の技術(特願昭63−158742号)を第2図〜
第3図を参照して説明する。
第2図はセンスアンプの構成図、第3図はメモリの構成
図、第4図は内部波形図である。第3図では説明簡略化
のために、メモリ構成は4ビットとしである。すなわち
2つの行線WO,Wlと2対の列線Do、例、DI、’
nとからなる。
メモリセルは真補で1ビットを構成する。例えば、MO
O,阿面で1ビットを構成する。第3図ではFAMO5
(Floating  Gate  Avalanch
e  Metal  0xide  Sem1cond
uctor)によるメモリセルを示しであるが、MAS
K  ROM (Ma s k  Programma
ble  Read  OnlyMemory)のセル
にて構成しても同様である。
第3図中のMOO,Mo1.訂荀、Mllは未プログラ
ム状態のFAMOSセルであって、行線が選択されると
オンする。また、阿面、 訂酊、  MIO,研■はプ
ログラム状態のFAMOSセルであり、この場合メモリ
セルのしきい値電圧vthはIOV前後にシフトしてい
るため、行線が選択されてもメモリセルはオシしない。
尚、第3図中の3−1がセンスアンプであり、センスア
ンプ3−1は列選択回路3−2を介してメモリセルアレ
イ3−4に接続されている。
次に、第2図、第4図を用いてセンスアンプの動作につ
いて説明する。尚、第2図中のセンスアンプ入力対Si
n、丁茹は第3図中のセンスアンプ入力対Sin、丁可
に接続されるものとする。以下、行線WOが選択されて
いる状態から行線woが非選択となり、行線w1が選択
される場合について説明する。各々の行線WO,Wlの
電位波形は第4図中のVWO,VWIで示されている。
また、列線はDO。
]の対が選択されておりその状態で固定しているものと
する。
まず、行線woが選択されている状態では前述のごとく
メモリセルMOOはオンしており、メモリセル「閲はオ
フしている。この状態ではセンスアンプ入力Sinはオ
ンしているメモリセルMOOに接続されており、第2図
中のインバータlN2−1及びN型hrosトランジス
タN2−1は負帰還回路を構成しているため、センスア
ンプ入力Sinの電位はインバータlN2−1の論理し
きい値で決定されるある定常レベルに落ち着く。通常こ
の状態でのセンスアンプ入力Sinの電位は1.2V程
度になるように設定されている。
また、この状態はP型MO5)ランジスタP2−1、 
N型MO5)ランジスタN2−1を経由してメモリセル
MOOに定常電流が流れている状態である。
この定常電流値はメモリセルMOOの特性によって決定
され、通常、メモリセルMOOのドレイン電位1.2V
程度では電流値は100μ八程度である。
一方、センスアンプ人カタ丘にはメモリセルM面が接続
されており、メモリセルMOOはオフしているため、P
型MO5)ランジスタP2−2.N型MO5)ランジス
タN2−2を経由して電流が流れ込み、センスアンプ入
力T1の電位がインバータlN2−2の論理しきい値以
上になるとN型MOSトランジスタN2−2がオフし、
そのレベルにセンスアンプ入力丁nは固定される。この
状態では定常電流は流れないため、P型MO3)ランジ
スタP2−2ならびにカレントミラー接続されたP型M
OSトランジスタP2−4はオフする。
一方、前述のごとくP型MO5)ランジスタP2−1に
は定常電流が流れており、カレントミラー接続によって
その電流値は増幅され、P型MOSトランジスタP2−
3.N型MO5)ランジスタN2−3に流そうとするが
、P型MO5)ランジスタP2−4がオフし、節点2−
5が接地レベルになると、N型MO5)ランジスタN2
−3がオフし、P型MOS)ランジスタP2−3を経由
してセンスアンプ出力5outは電源レベルになる。
この状態が行線WOが選択、行線Wlが非選択の時の状
態である。
次に、行線WOが非選択となり、行線W1が選択される
と、センスアンプ入力SinにはメモリセルMIOが接
続され、センスアンプ入力丁ヤにはメモリセルMIOが
接続される。
この場合、メモリセルMIOはオフし、メモリセルMI
Oがオンするため、センスアンプ3−1は前述の場合と
全く相補の動作をし、センスアンプ入力対の電位VSi
n、  VSinのレベルは互いに逆状態に変遷し、セ
ンスアンプ出力5outは接地レベルとなる。上記した
一連の動作における時間軸に対する各部の電位変遷の様
子を第4図中に実線で示す。
[発明が解決しようとする課題] 上述した従来のセンスアンプでは、オン状態にあるメモ
リセル例の列線電位は約1.2Vであり、オフ状態にあ
るメモリセル側の列線電位はインバータlN2−1もし
くはlN2−2の出力がN型MOSトランジスタN2−
1もしくはN2−2をカットオフするときの電位である
インバータlN2−1及びtN2−2はDC的にはオン
状態にあるメモリセル例の列線電位+50mV程度でト
ランジスタN2−1.N2−2をカットオフするが、イ
ンバータlN2−1及びlN2−2自身に遅延があるた
め、前述のレヘルよりも実際には列線電位は高いレベル
となる。オフ状態のメモリセル選択からオン状態のメモ
リセル選択へ移行した場合、列線電位を下げ、トランジ
スタN2−1もしくはN2−2をオンさせ、センスアン
プを動作させるのはメモリセルであり、前述のごとくメ
モリセルのオン状態の定常電流Ionは約100μAで
あるため、わずかにオフ状態のメモリセル側の列vA電
位が余分に上昇していてもセンスアンプ動作を遅らせる
こととなる。
例えば、前述のインバータlN2−1.lN2−2の遅
延によって30mVだけオフ状態のメモリセル側の列線
電位が余分に上昇したとする。また、メモリセルのオン
状態の定常電流Ionが100μAであって列線の静電
容量を30PFとすると、オフセル側列線電位が余分に
上昇したことによるセンスアンプ動作の遅れは下記のよ
うな概算値が見込まれる。
(以下、余白) △Q=C・△V 上記の両式より、 30PF ◆30mV 100μA =9μs i ニドレイン電位1.2V前後でのオン状態のメモリ
セルのドレイン電流、 C:列線の静電容量、 △V二全余分上昇したオフ状態のメモリセル例の列線電
位、 △Q:列線電位1.2V前後で△V変動するときの電荷
変動量、 △t:センスアンプ動作の遅れ。
[発明の従来技術に対する相違点コ 上述した従来のセンスアンプに対し、 本発明の センスアンプは、真補両方のセンスアンプ入力にそれぞ
れ負荷回路を接続するという相違点を有する。
[課題を解決するための手段] 本発明のセンスアンプは、1ビットの情報を真補の2個
のメモリセルで記憶する方式の半導体記憶装置のセンス
アンプで、真補両方にカレントミラー増幅部があり、前
記カレントミラー増幅部の入力が列選択回路及びメモリ
セルと直列接続されたセンスアンプにおいて、前記真補
両方の入力にそれぞれメモリセルの電流駆動能力よりも
小さな電流駆動能力の負荷回路を付設したことを特徴と
する。
[実施例] 第1図に本発明の一実施例のセンスアンプの構成を示す
。センスアンプ入力S in、  S inにそれぞれ
負荷回路Ll−1,Ll−2が接続されている以外は全
〈従来例と同一の構成である。
負荷回路L+−1,Ll−2はそれぞれ縦積3段のメモ
リセルで構成され、そのゲートはすべて電源電位である
。これら負荷回路Ll−1,Ll−2は真補のS in
、  S inに接続されるが、メモリセルの1/3の
電流駆動能力しかないため、センスアンプのデータ判定
動作には影響を与えない。
メモリ構成、アドレス選択が従来例と全く同一の場合の
センスアンプ入力Sin、  Sin及びセンスアンプ
出力5outの電位波形を破線で第4図に示す。
第4図に示すように、例えばセンスアンプ入力Si、n
の電位V’SinはインバータlN2−2の遅延によっ
て一旦余分に電位が上昇するが、その後、負荷回路と負
帰還回路部lN2−2.N2−2によって余分に上昇し
た電位が下がる。従って、センスアンプ出力電位V’5
outの変化タイミングが、従来例VSoutに比べて
早くなり、センスアンプの動作スピードが迅速化される
尚、本発明における負荷回路は前述の実施例に示したも
のに限らず、センスアンプのデータ判定動作に影響を与
えない程度にメモリセルに比較して十分電流駆動能力が
小さく、次のリートサイクルまでに余分に上昇した列線
レベルを回復させるものであれば他にも種々考えられる
例えば、上記制約を満足する範囲内であれば、第5図に
示すように、負荷回路部のメモリセルの縦積段数を増や
す、あるいは第6図に示すように負荷回路を拡散層、ポ
リシリコン等で形成される単純な抵抗体とするなどの実
施例が考えられる。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明は真補両方のセンスアンプ
入力に負荷回路を接続することにより、オフ状態にある
メモリセル側の列線電位を極力低くてきるため、第4図
の破線で示すように、センスアンプの動作スピードを速
めることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係るセンスアンプの構成図
、第2図は従来例のセンスアンプの構成図、第3図は半
導体記憶装置の全体構成図、第4図は内部波形図、第5
図、第6図はそれぞれ負荷回路の変形例を示す構成図で
ある。 PI−1〜PI−4゜ P2−1〜P2−4・・・・P型MO5)ランジスタ、
N1−1−N1−4゜ N2−1〜N2−4・ ・N型MO5)ランジスタ、 lN2−1.  lN2−2゜ lNl−1,lNl−2・・・インバータ、1−1〜1
−5゜ 2−1〜2−5・・・・・節点、 S in、  丁可・・・ 5out # ・ 4 # ・ wo、wt・ ・ ・ ・ Ll−1,Ll−2・ ・センスアンプ入力対、 ・センスアンプ出力、 ・行線、 ・負荷回路、 DO,’mで。 DI、  酊−−−−、、、、列線対、3−1 ・ ・センスアンプ、 MOO,MOO〜Mll。 Mll−−−、、、、、、、メモリセル対、3−2・・
・・・・・・・列選択回路、3−3・・・・・・・・・
行選択回路、3−4・・・・・・・・・メモリセルアレ
イ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  1ビットの情報を真補の2個のメモリセルで記憶する
    方式の半導体記憶装置のセンスアンプで、真補両方にカ
    レントミラー増幅部があり、前記カレントミラー増幅部
    の入力が列選択回路及びメモリセルと直列接続されたセ
    ンスアンプにおいて、前記真補両方の入力にそれぞれメ
    モリセルの電流駆動能力よりも小さな電流駆動能力の負
    荷回路を付設したことを特徴とするセンスアンプ。
JP21819389A 1989-08-24 1989-08-24 センスアンプ Expired - Lifetime JPH0793033B2 (ja)

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