JPH0387345A - 溶融金属メッキ付着量制御方法 - Google Patents

溶融金属メッキ付着量制御方法

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JPH0387345A
JPH0387345A JP22041889A JP22041889A JPH0387345A JP H0387345 A JPH0387345 A JP H0387345A JP 22041889 A JP22041889 A JP 22041889A JP 22041889 A JP22041889 A JP 22041889A JP H0387345 A JPH0387345 A JP H0387345A
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JP
Japan
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steel strip
molten metal
metal plating
magnetic force
plating
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Pending
Application number
JP22041889A
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English (en)
Inventor
Mikio Kawamura
三喜夫 川村
Masaaki Mori
正晃 森
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は溶融金属メッキ付着量制御方法に関するもので
ある。
(従来の技術) 溶融金属メッキの付着量制御方法としては、メッキ浴か
ら引き上げた銅帯の両面からガスを噴射する、いわゆる
ガスワイプにより、余剰メッキ金属を掻き取り、所定の
付kJJLに制御することが現在のところ主流になって
いる。
このようなメッキ付着量によると、掻き取り溶融金属が
飛散(スプラッシュ)が発生し、この−部が付着量制御
後の溶融金属メッキ鋼帯に付着し、品質を著しく損うこ
と等から銅帯通板速度を下げ、生産性を犠牲にして随伴
溶融金属を少なくしてスプラッシュを防止している。
又特開昭58−1084号公報により開示されているご
とく、メッキ浴から引き上げたメッキ鋼帯両側から電磁
力を照射し、余剰メッキ金属をワイプすることが知られ
ているが、このような付着量制御においても同様な難点
がある。
特に鋼帯通板速度を上げ生産性を向上すると、銅帯に随
伴する余剰金属も増加し、このような難点をますます助
長する等の欠点をともなうものである。
(発明が解決しようとする課題) 本発明はスプラッシュの発生を抑制し、メッキ製品の品
質を向上する溶融亜鉛メッキ付着量制御方法を提供する
ものである。
(課題を解決するための手段) 本発明は、溶融金属メッキ後未凝固状態のメッキ銅帯両
面に高周波磁力を照射するとともに、該磁力照射部位に
ガス噴射することを特徴とする溶融金属メッキ付着量制
御方法である。
上記のごとき溶融金属メッキとしては、亜鉛、アルミニ
ウム、鉛(ターンメタル)等に適用できる。
次に高周波電磁力としては、周波数1kHz〜IMHz
、電流500〜5000Aが適当である。又ガス噴射に
用いるガスとしては、空気、窒素ガス等を用いることが
でき、その温度としては、常温〜500℃でよい。又ガ
ス噴射圧としては、メッキ鋼帯とノズル間隔を10〜2
0mmで、1〜3kg/cdで好ましく制御できる。
次にこのような構成により、スプラッシュをほとんど発
生させることなくメッキ付着量が制御できる理由を詳細
に説明する。
高周波磁力の交番磁界により、溶融金属中に誘導電流が
右ネジ方向に流れ、この誘導電流と交番磁界が作用し力
が発生し、この力の方向はフレーミングの左手法則に従
い、高周波磁界から遠ざかる方向に働く。従って溶融金
属には銅帯の進行方向に対して、垂直方向に力が作用す
ることから溶融金属の膜厚は薄くなる。つまり、余剰メ
ッキ金属の一部が掻き取られ、メッキ金属の層厚は薄く
なっている。
このような状態の部位にガス噴射することによって、ス
プラッシュをほとんど発生させることなく目的とするメ
ッキ付着量に制御するものである。
即ち、高周波磁力により、随伴するメッキ金属を掻き取
るにとどまり、スプラッシュはほとんど発生せず、又ガ
スワイプもある程度メッキ金属層厚が薄くなっており、
゛それ程掻き取り量としてはないのでスプラッシュはほ
とんど発生しない。
従って通板速度を上昇し、メッキ鋼帯のメッキ金属随伴
量が多くなっても、メッキ付着量制御によりスプラッシ
ュの発生はほとんどない。
しかして、高周波電磁力によるワイプ部位と、ガスワイ
プ部位が光ると、均一なメッキ付Wm制御が困難になる
ことから、互に同一部位でワイプするごとく、磁力照射
とガス噴射を行なうものである。
次に本発明方法の一例を図面により説明する。
図面において、溶融金属メッキ浴1から引き上げた鋼帯
2の両面に、高周波電極3とガス噴射ノズル4をそれぞ
れ配設し、メッキ鋼帯2の同一部位に高周波磁力とガス
を噴射し、メッキ金属付着量を制御するものである。
(実 施 例) 本発明の実施例を比較例とともに挙げる。
(発明の効果) 本発明により、溶融金属メッキの付着量制御に際し、ス
プラッシュの発生をほとんどなくし、メッキ製品の品質
を向上することができる。
又高速通板においてもスプラッシュの発生がほとんどな
く、生産性を向上させることができる等の優れた効果が
得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明によるメッキ付着量制御例の説明図で
ある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  溶融金属メッキ後未凝固状態のメッキ鋼帯両面に高周
    波磁力を照射するとともに、該磁力照射部位にガス噴射
    することを特徴とする溶融金属メッキ付着量制御方法。
JP22041889A 1989-08-29 1989-08-29 溶融金属メッキ付着量制御方法 Pending JPH0387345A (ja)

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