JPH0391292A - 回路基板の導体パターン形成方法 - Google Patents

回路基板の導体パターン形成方法

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JPH0391292A
JPH0391292A JP22767989A JP22767989A JPH0391292A JP H0391292 A JPH0391292 A JP H0391292A JP 22767989 A JP22767989 A JP 22767989A JP 22767989 A JP22767989 A JP 22767989A JP H0391292 A JPH0391292 A JP H0391292A
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JP
Japan
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pattern
conductor paste
layer conductor
metal
conductor pattern
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Application number
JP22767989A
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English (en)
Inventor
Michiaki Takada
理映 高田
Kenichiro Tsubone
坪根 健一郎
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 回路基板の導体パターン形成方法に係り、どくに回路基
板を製作するための転写可能な厚膜導体パターンの形成
方法に関し、 厚膜導体パターンを形成し易い基台上に一旦、形成した
後、他の絶縁性基板に剥離・転写し回路基板を製作する
ことを目的とし、 基台上に下層導体ペーストを下塗りした後に加熱焼成し
、さらに該下層導体ペースト上に前記下層金属と異なる
金属の上層導体ペーストをパターン印刷し、さらに加熱
焼成により下層金属が上層金属に拡散結合して下層金属
の前記基台との付着強度を低下させた厚膜導体パターン
を形成し、該厚膜導体パターンに絶縁性基板を接着し、
厚膜導体パターンを基台から剥離・転写することにより
回路基板を製作するように構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は回路基板の導体パターン形成方法に係り、とく
に回路基板を製作するための転写可能な厚膜導体パター
ンの形成方法に関する。
セラミック基板に導体ペーストをパターン印刷した後に
焼成し厚膜導体パターンを形成した回路基板は、焼1i
、温度が700℃〜1000℃と高温のため耐熱性のな
い有機物基板やパターン印刷の困難な形状の基板や筐体
などには厚膜導体パターンを直接、形成できない問題が
あり、間接的に厚膜導体パターンを形成し回路基板を製
作する方法が要望されている。
〔従来の技術〕
従来はセラ果ツタ基板に銀−パラジウム系または銅系の
導体ペーストをパターン印刷し、大気中(銀−パラジウ
ムの場合〉または窒素ガス中(銅の場合〉で700℃〜
1000℃の温度に加熱焼成して厚膜導体パターンを形
成し、それをそのまま回路基板として用いている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、このような上記方法によれば、厚膜導体
パターンの焼成温度が高温のため、耐熱性のない有機材
基板やパターン印刷の困難な形状の基板や筐体の底部内
面などには厚膜導体パターンが形成できないといった問
題があった。
上記問題点に鑑み、本発明は厚膜導体パターンを形成し
易い基台上に一旦、形成した後、他の絶縁性基板に剥離
・転写し回路基板を製作するようにした回路基板の導体
パターン形成方法を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、本発明の回路基板の導体パ
ターン形成方法においては、基台上に下層導体ペースト
を下塗りした後に加熱焼成し、さらに該下層導体ペース
ト上に前記下層金属と異なる金属の上層導体ペーストを
パターン印刷し、さらに加熱焼成により下層金属が上層
金属に拡散結合して下層金属の前記基台との付着強度を
低下させた厚膜導体パターンを形成し、該厚膜導体パタ
ーンに絶縁性基板を接着し、厚膜導体パターンを基台か
ら剥離・転写することにより回路基板を製作するように
構成する。
〔作用〕
基台上に下層導体ペーストを下塗りした後に加熱焼成し
、さらに該下層導体ペースト上に前記下層金属と異なる
金属の上層導体ペーストをパターン印刷し加熱焼成する
ことにより、下層金属が上層金属に拡散結合して下層金
属の前記基台との付着強度を低下させるとともに前記両
導体ペーストの境界に切れ目の生じた厚膜導体パターン
を形成することができ、この厚膜導体パターンに絶縁性
基板を接着し前記切れ目に沿って剥離・転写することに
より回路基板を製作することができる。
〔実施例〕
以下図面に示した実施例に基づいて本発明の要旨を詳細
に説明する。
第1図(al、 Tbl、 (cl、 (di、 (e
)は工程順に示す側断面図である。
(81図は下層導体ペーストの印刷、焼成工程で、例え
ばアルミナや窒化アルξすなどを加熱焼成し製作した基
台1の一面全面に下層導体ペースト2、即ち銀−パラジ
ウム導体ペーストを1〜50μmの厚さに印刷塗布し、
大気中、700℃〜900℃の温度で加熱焼成する。(
なお、この下層導体ペーストは全面でなく、材料を節約
する観点から次工程でパターン印刷する小部分だけ、あ
るいはパターンに一致させて塗布してもよい〉 (b1図はパターン印刷工程で、下層導体ペースト2の
上にさらに上層導体ペースト3、即ち銅導体ペーストを
1〜50μmの厚さにパターン印刷する。
(01図は下層導体ペーストの焼成工程で、窒素ガス中
、700℃〜1000℃の温度で加熱焼成する。このと
き、下層導体ペースト3中の金属、即ち銀元素は上層導
体ペースト2中の金属、即ち銅へ拡散移動して両者を結
合し基台lとの付着強度を低下させるとともに下層導体
ペースト2と−L重層体ペースト3との境界に切れ目4
の生じた厚膜導体パターン5を形成する。(なお、−1
層、下層導体ペーストのパターンを一致させた場合は当
然に切れ目は生しない) fd1図は接着剤の塗布工程で、厚膜導体パターン5の
上に接着剤6を塗布する。接着剤6は次工程で接着する
絶縁性基板7の材質と厚膜導体パターン5との馴染みの
良さ及び接着強度を考慮し選定する。例えば、絶縁性基
板7がポリイミド系樹脂フィルムであればポリイミド系
接着剤を、エポキシ系樹脂積層基板であればエポキシ系
接着剤を用いる。
+01図は厚膜導体パターンの転写工程で、絶縁性基板
7、例えばポリイミド系樹脂フィルム(シートあるいは
エポキシ系樹脂積層基板)を重ねて接着し、上方矢印方
向に引き剥がすことにより厚膜導体パターン5だけを切
れ目4に沿って剥離し、絶縁性基板7に転写し回路基板
を完成する。なおもし、上層導体ペーストが下層導体ペ
ーストからはみ出していても剥離には支障はない。
このように、基台に下塗りした下層導体ペーストの上に
上層導体ペーストをパターン印刷し加熱焼成によって下
層導体ペーストの金属元素が上層導体ペーストの金属に
移動拡散し結合するとともに下層導体ペーストの基台と
の付着強度を剥離可能に低下する厚膜導体パターン(上
記実施例では銅−銀一パラジウムからなる)を、形成し
易い基台に一旦、形成することにより、耐熱性のない有
機物基板やパターン印刷の困難な形状の基板や筐体の底
部内面などのように厚膜導体パターンを直接、形成でき
ない基板に剥離・転写して厚膜回路基板を比較的簡単に
製作することができる。
なお、転写する絶縁性基板は基板自体が金属などの導体
であれば、パターン接着面に絶縁体を被着しておき接着
する。
また、上記説明した方法では厚膜導体パターンを転写し
た絶縁性基板を回路基板としたが、基台、即ちセラくツ
ク基台上に転写後桟る下層金属パターン、即ち銀−パラ
ジウムパターンで厚膜回路基板を製作することもできる
〔発明の効果〕
以上、詳述したように本発明によれば、従来、厚膜導体
パターンの形成できない有機物や複雑形状の基板に厚膜
導体パターンを転写して厚膜回路基板を製作することが
できるといった産業上極めて有用な効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)、 (b)、 (cl、 (d)、 (e
)は本発明による一実施例の工程順を示す側断面図であ
る。 図において、 1は基台(セラくツク基台)、 2は下層導体ペースト(銀−パラジウム導体ペースト)
、 3は上層導体ペースト(銅導体ペースト)、4は切れ目
、 5は厚膜導体パターン、 6は接着剤、 7は絶縁性基板を示す。 0 下層導体ペーストの印刷・焼成工程 (al パターン印刷工程 (bl 接着剤の塗布工程 (d) 上層導体ペーストの焼成工程 (C) 本発明による一実施例の工程順を示す側断面同第 1 
図(その−) 厚膜導体パターンの転写工程 (e)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 〔1〕基台(1)上に下層導体ペースト(2)を下塗り
    した後に加熱焼成し、さらに該下層導体ペースト(2)
    上に該下層導体ペースト(2)に含まれる金属と異なる
    金属の上層導体ペースト(3)をパターン印刷し、さら
    に加熱焼成により下層金属が上層金属に拡散結合して下
    層金属の前記基台(1)との付着強度を低下させた厚膜
    導体パターン(5)を形成し、該厚膜導体パターン(5
    )に絶縁性基板(7)を接着し、厚膜導体パターン(5
    )を基台(1)から剥離・転写することにより回路基板
    を製作することを特徴とする回路基板の導体パターン形
    成方法。 〔2〕請求項1記載の厚膜導体パターン(5)が銅−銀
    −パラジウムであることを特徴とする回路基板の導体パ
    ターン形成方法。 〔3〕請求項1記載の基台(1)がセラミック製であり
    、該セラミック基台に転写後に残る銀−パラジウムパタ
    ーンで回路基板を製作することを特徴とする回路基板の
    導体パターン形成方法。
JP22767989A 1989-09-01 1989-09-01 回路基板の導体パターン形成方法 Pending JPH0391292A (ja)

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