JPS61270896A - セラミツク基板の製造方法 - Google Patents
セラミツク基板の製造方法Info
- Publication number
- JPS61270896A JPS61270896A JP11293985A JP11293985A JPS61270896A JP S61270896 A JPS61270896 A JP S61270896A JP 11293985 A JP11293985 A JP 11293985A JP 11293985 A JP11293985 A JP 11293985A JP S61270896 A JPS61270896 A JP S61270896A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- green sheet
- ceramic
- ceramic substrate
- conductive paste
- polyester film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
セラミック基板は、その高耐熱性の高絶縁性とにより電
子部品の基板材料、あるいはパッケージ材料として広(
用いられているが、特に配線パターンをセラミック基板
上に印刷し、多層に積層して用いる多層セラミック基板
の製造方法の改善を行った。
子部品の基板材料、あるいはパッケージ材料として広(
用いられているが、特に配線パターンをセラミック基板
上に印刷し、多層に積層して用いる多層セラミック基板
の製造方法の改善を行った。
本発明は、セラミック基板を多層に積層し、基板上の配
線パターンを、相互にスルーホールに埋込まれた導体に
よって接続する必要のある多層セラミック基板の製造方
法に関する。
線パターンを、相互にスルーホールに埋込まれた導体に
よって接続する必要のある多層セラミック基板の製造方
法に関する。
セラミック材料は、高耐熱性(融点は通常2000℃以
上)で機械的強度も大であり、且つ高絶縁性という特徴
があるので、電子部品の基板材料、バ −ツケージ部品
、電子部品搭載用の基板等の多くの用途に用いられてい
る。
上)で機械的強度も大であり、且つ高絶縁性という特徴
があるので、電子部品の基板材料、バ −ツケージ部品
、電子部品搭載用の基板等の多くの用途に用いられてい
る。
セラミックは、一度焼結を終わると、極めて硬度は高く
なるので機械的な加工は殆ど出来ない。
なるので機械的な加工は殆ど出来ない。
従って、加工は焼結の前の生のバインダーを含んだ粘土
質の状態で行っている。
質の状態で行っている。
一般にセラミック基板は、生(Oreen)のシート状
態の材料を所望の形状に機械加工した後、高温で焼結し
た後使用される。
態の材料を所望の形状に機械加工した後、高温で焼結し
た後使用される。
焼結前のセラミック板は、通常グリーンシートと呼ばれ
、粘性のある柔らかい粘土状態で、加工され、スルーホ
ールに導電ペーストを充填するに当たり、そのプロセス
管理に問題があり改善が要望されている。
、粘性のある柔らかい粘土状態で、加工され、スルーホ
ールに導電ペーストを充填するに当たり、そのプロセス
管理に問題があり改善が要望されている。
セラミックを多層に積層して用いる場合の基本的な構造
を第2図により説明する。同図において多層セラミック
基板1はそれぞれ11,12.〜15等のセラミック層
より成り、各セラミック層上には必要なる配線パターン
10が描かれている。
を第2図により説明する。同図において多層セラミック
基板1はそれぞれ11,12.〜15等のセラミック層
より成り、各セラミック層上には必要なる配線パターン
10が描かれている。
セラミックの相互間を接続するため導電材料が充填され
たスルーホール2が設けられている。これらは焼結前に
それぞれ印刷法により形成され、多層に積層した後、焼
結を行って一体化している。
たスルーホール2が設けられている。これらは焼結前に
それぞれ印刷法により形成され、多層に積層した後、焼
結を行って一体化している。
基板上には図のごと<ICパッケージ4、あるいは、そ
の他の電子部品5等が搭載されている。
の他の電子部品5等が搭載されている。
セラミック基板に、ICチップを搭載してキャップを被
せることにより、それ自体をICパッケージとして用い
ることも可能である。
せることにより、それ自体をICパッケージとして用い
ることも可能である。
このように多層セラミック基板は、高配線密度を必要と
する場合の基板材料としては用途が広い。
する場合の基板材料としては用途が広い。
グリーンシート7と呼ばれる生のセラミック板は、その
ままではハンドリングが困難なため、通常第3図に示す
ごとく片面をポリエステルフィルム6が接着された状態
で加工工程にまわされる。
ままではハンドリングが困難なため、通常第3図に示す
ごとく片面をポリエステルフィルム6が接着された状態
で加工工程にまわされる。
機械的加工、あるいは導電ペーストの印刷、充填等をポ
リエステルフィルムを付けたまま行い、セラミックを多
層に積層する前にポリエステルフィルムを剥離する。
リエステルフィルムを付けたまま行い、セラミックを多
層に積層する前にポリエステルフィルムを剥離する。
上記に述べた、従来のグリーンシートの使用法では、ス
ルーホール2に導電ペースト3を充填するに当たって、
グリーンシート7の上よりスクリーンマスクを用いた印
刷法を用いる。
ルーホール2に導電ペースト3を充填するに当たって、
グリーンシート7の上よりスクリーンマスクを用いた印
刷法を用いる。
スクリーンマスクには、スルーホール2に対応した位置
にスルーホール寸法よりも多少の余裕をみたパターンが
描かれていて印刷終了後、ポリエステルフィルム6を除
去する。第4図に示されたごとく、グリーンシートのポ
リエステルフィルムとは反対面に導電ペーストのだれが
残る。
にスルーホール寸法よりも多少の余裕をみたパターンが
描かれていて印刷終了後、ポリエステルフィルム6を除
去する。第4図に示されたごとく、グリーンシートのポ
リエステルフィルムとは反対面に導電ペーストのだれが
残る。
これは配線の微細ピッチ化の障害となるので、導電ペー
ストの粘度の管理、印刷の工程管理等が重要なる問題と
なっている。
ストの粘度の管理、印刷の工程管理等が重要なる問題と
なっている。
上記問題点は、多層セラミック基板を焼結前のグリーン
シートを加工するに当たり、従来のごとくグリーンシー
トの一面のみでなく、両面を有機フィルムにて被覆する
。
シートを加工するに当たり、従来のごとくグリーンシー
トの一面のみでなく、両面を有機フィルムにて被覆する
。
その上で、スルーホールを開口し、導電ペーストの充填
して、前記有機フィルムを除去することによって解決さ
れる。
して、前記有機フィルムを除去することによって解決さ
れる。
導電ペーストの充填時に生じただれは、すべてポリエス
テルフィルム上に付着するので、導電ペースト充填後、
ポリエステルフィルムを剥離することにより、グリーン
シートには全くだれの無い埋込みスルーホールが得られ
る。
テルフィルム上に付着するので、導電ペースト充填後、
ポリエステルフィルムを剥離することにより、グリーン
シートには全くだれの無い埋込みスルーホールが得られ
る。
本発明の一実施例について、第1図工程断面図により説
明する。
明する。
第1図(a)は、ポリエステルフィルム6が接着された
グリーンシート7の反対面上に、接着材8をスプレィ法
、あるいは刷毛により塗布した状態を示す。
グリーンシート7の反対面上に、接着材8をスプレィ法
、あるいは刷毛により塗布した状態を示す。
接着材を塗布した上にポリエステルフィルム9−をラミ
ネイトコーター等で接着させる。これを第1図(blに
示す。
ネイトコーター等で接着させる。これを第1図(blに
示す。
次いで、スルーホール2をパンチングにより開口して第
1図(C)が得られる。
1図(C)が得られる。
次いで、印刷法で導電ペースト3を充填すると第1図(
d)の状態が得られる。
d)の状態が得られる。
導電ペーストの乾燥後、グリーンシートの両面のポリエ
ステルフィルムを剥離することにより、だれの無いスル
ーホールの充填されたグリーンシートを得ることが出来
る。これを第1図(e)に示す。
ステルフィルムを剥離することにより、だれの無いスル
ーホールの充填されたグリーンシートを得ることが出来
る。これを第1図(e)に示す。
しかる後、グリーンシートの面に必要なる配線パターン
の印刷を行って乾燥した後、所要の枚数のグリーンシー
トを圧着して、高温で焼結させる。
の印刷を行って乾燥した後、所要の枚数のグリーンシー
トを圧着して、高温で焼結させる。
グリーンシートの材料としてアルミナを使用する時は、
焼結温度は1500〜1600℃で、この場合は導電ペ
ーストとしてはタングステン、あるいはモリブデン等が
使用される。
焼結温度は1500〜1600℃で、この場合は導電ペ
ーストとしてはタングステン、あるいはモリブデン等が
使用される。
焼結温度が900−1100℃と低い、セラミック材料
としてガラスセラミックがあり、この場合は金、銅、あ
るいはニッケル等の導電ペーストが焼結温度によって使
い分けて使用することが出来る。
としてガラスセラミックがあり、この場合は金、銅、あ
るいはニッケル等の導電ペーストが焼結温度によって使
い分けて使用することが出来る。
以上に説明せるごとく、本発明の製造方法の適用により
、多層セラミック基板の製造に当たっての、印刷ペース
トの調整、管理が容易となり、検査工数が省略され、コ
スト削減に寄与する。
、多層セラミック基板の製造に当たっての、印刷ペース
トの調整、管理が容易となり、検査工数が省略され、コ
スト削減に寄与する。
また設計面での高密度配線が可能となる。
第1図は本発明にかかわる多層セラミック基板のグリー
ンシート加工工程順断面図、 第2図は多層セラミック板の構造、 第3図は従来のグリーンシート加工法、第4図は印刷工
程後の導電ペーストのだれ、を示す。 図面において、 1は多層セラミック基板、 2はスルーホール、 3は導電ペースト、 4はICパッケージ、 5は電子部品、 6.9はポリエステルフィルム・ 7はグリーンシート、 8は接着材、 10は配線パターン、 をそれぞれ示す。 第 1 図 うAンぎラミγ7裁りた唇え白2 第2図 懸の1リー>シー7−/l 7Dニジゑ第3図 r”91?Vs’ttty+ 48 r−71−/l
r−a第4図
ンシート加工工程順断面図、 第2図は多層セラミック板の構造、 第3図は従来のグリーンシート加工法、第4図は印刷工
程後の導電ペーストのだれ、を示す。 図面において、 1は多層セラミック基板、 2はスルーホール、 3は導電ペースト、 4はICパッケージ、 5は電子部品、 6.9はポリエステルフィルム・ 7はグリーンシート、 8は接着材、 10は配線パターン、 をそれぞれ示す。 第 1 図 うAンぎラミγ7裁りた唇え白2 第2図 懸の1リー>シー7−/l 7Dニジゑ第3図 r”91?Vs’ttty+ 48 r−71−/l
r−a第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 焼結前のグリーンシート(7)の両面を、有機フィル
ム(6)、(9)にて被覆した後、スルーホール(2)
を開口し、 導電ペースト(3)の充填した後、前記有機フィルムを
除去する工程を含むことを特徴とするセラミック基板の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11293985A JPS61270896A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | セラミツク基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11293985A JPS61270896A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | セラミツク基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61270896A true JPS61270896A (ja) | 1986-12-01 |
Family
ID=14599278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11293985A Pending JPS61270896A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | セラミツク基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61270896A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63239999A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-05 | 日本碍子株式会社 | セラミツク多層積層体の製造方法 |
| JPH03285397A (ja) * | 1990-03-31 | 1991-12-16 | Narumi China Corp | 多層配線基板の製造方法 |
| JP2018026480A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-15 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミック配線基板及びセラミック配線基板の製造方法 |
-
1985
- 1985-05-24 JP JP11293985A patent/JPS61270896A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63239999A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-05 | 日本碍子株式会社 | セラミツク多層積層体の製造方法 |
| JPH03285397A (ja) * | 1990-03-31 | 1991-12-16 | Narumi China Corp | 多層配線基板の製造方法 |
| JP2018026480A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-15 | 日本特殊陶業株式会社 | セラミック配線基板及びセラミック配線基板の製造方法 |
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