JPH0410416A - 基体乾燥方法及び基体乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野１ 本発明は、半導体のシリコン基板、フォトマスク、液晶
パネルのガラス基板等の洗浄後の乾燥方法及び装置に関
する６ 〔従来の技術〕 従来、純水から基体を微低速で引き上げていくことによ
り、純水の表面張力を利用して基体に付着する水滴を極
力排出し、残った水分を基体の熱容量、あるいは熱風、
ヒーター等の補助手段により乾燥する方式が提案され、
実施されている。

（特開昭５６−１６１４３１）、（特開昭６０＝２２３
１３０）、（特開昭６ｌ−２７０３９９１［発明が解決
しようとする課題］ しかしながら、前述の従来技術では、表面張力の大きい
純水を用いて引き上げ乾燥をおこなうため、表面が疎水
性である基体の場合、引き上げ条件等を変更しても水滴
が除去されずに基体に残留してしまう。この残留水分の
ある状態で基体を、基体の熱容量、あるいは熱風、ヒー
ター等で乾燥すると、シミ、ムラ等が発生し、基体を汚
してしまう。又、熱による乾燥は、乾燥時間が長くかか
ってしまう。

本発明はこの様な問題点を解決するもので、その目的と
するところは、純水引き上げ乾燥方法のみでは除去でき
なかった水滴を、吸水性のある多孔質物を近接させて表
面張力により除去し、完全に基体上の水滴を除去する方
法、及び装置を提供することにある。

又、基体の清浄性を上げ、乾燥品質を上げる装置を提供
することも、目的とする。

［課題を解決するための手段１ 本発明の基体乾燥方法及び基体乾燥装置は、純水槽から
基体を微低速で引き上げていくことにより、純水の表面
張力を利用して基体に付着する水滴を極力排去し、更に
前記基体に、吸水性のある多孔質物を近づけることによ
り、残留水滴を除去することを特徴とする。

又、前記多孔質物を連続的に移動し、常に清浄部で水滴
除去をおこなうことを特徴とする。

多孔質物は、セラミック、金属、プラスチック等の材料
のものがよい、又、吸水性のある紙、不織布でも使用可
能である。

［作　用］ 基体を表面張力の大きい純水から微低速で引き上げてい
くと、表面張力の作用により、かなりの水は除去ができ
る。しかし疎水性の大きい基体では、疎水面上に純水が
水滴として残留してしまう。この球状化した水滴に、多
孔質を近接させると、純水の表面張力が破れ、表面張力
により純水が多孔質の方に吸い寄せられてしまう。

この様に基体に多孔質物が接触しない程度に近づけて、
基体と多孔質物を相対的に移動すれば。

連続的に残留水滴を除去することが可能となる。

［実　施　例］ 以下に本発明の実施例を図面にもとづいて説明する。第
１図において、純水は純粋槽ｌに純水供給バイブ３より
供給され、槽内を流動する。純水槽ｌに純水が満たされ
ると、槽上部の切欠きを通して純水はあふれ、オーバー
フローした純水は、オーバーフロー槽２を受け、排水バ
イブ４より排出される。一方基体７は治具５にセットさ
れており、これをロボットアーム８に取り付は上下動を
おこなう。

基体の引き上げ時は、まず基体を純水槽に完全に沈めた
状態から、毎秒１−１０ｍｍという微低速で引き上げ、
純水の表面張力を利用して基体表面に付着する水滴を極
力排出する。

残留する水滴は、ロール状の多孔質物６を、ローラー９
を回転させながら基体に近接して、多孔質物６に吸水す
る。

〔発明の効果１ この様に本発明は２段で純水を除去する機構となってお
り、疎水性の強い基体等で純水引き上げ法だけでは除去
できない水滴も完全に除去することが可能となった。

又、水滴が残らないため、シミ、ムラ等の発生がなく、
基体の乾燥品質が大巾に向上した。

摩白水バイブ 排水バイブ 治具 ロール状の多孔質物 基体゛ ロボットアーム ローラー 以上 出願人　セイコーエプソン株式会社 代理人　弁理士　鈴　木　喜三部（化１名）

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の基体乾燥方式の概略図。 ・・純水槽 ２・・・オーバーフロー槽

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）純水槽から基体を微低速で引き上げていくことに
   より、純水の表面張力を利用して基体に付着する水滴を
   極力排去し、更に前記基体に、吸水性のある多孔質物を
   近づけることにより、残留水滴を除去することを特徴と
   する基体乾燥方法。
2. （２）請求項１記載の基体乾燥方法に於いて、多孔質物
   を連続的に移動し、常に清浄部で水滴除去をおこなうこ
   とを特徴とする基体乾燥装置。