JPH04105376A - エキシマレーザ装置 - Google Patents
エキシマレーザ装置Info
- Publication number
- JPH04105376A JPH04105376A JP2222749A JP22274990A JPH04105376A JP H04105376 A JPH04105376 A JP H04105376A JP 2222749 A JP2222749 A JP 2222749A JP 22274990 A JP22274990 A JP 22274990A JP H04105376 A JPH04105376 A JP H04105376A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- excimer laser
- magnetic coupling
- airtight container
- disks
- blower fan
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は工業用、医療用のエキシマレーザ装置に関する
ものである。
ものである。
従来の技術
近年、新しい産業用のレーザ光源としてエキシマレーザ
が１主目されている。エキシマレーザはレーザ媒質とし
てクリプトン、キセノンなとの希ガスとフッ素、塩素な
とのハロゲンガスを組み合わせることにより、３５３ｎ
ｍから１９３ｎｍのいくつかの波長で発振線を得ること
ができる紫外レーザの一つである。エキシマレーザでは
従来のレーザ装置に比べて短い波長域で大きな出力が得
られるので、微細加工、外科手術、エネルギー等の分野
における新しい光源として盛んに応用されるようになっ
た。特に半導体製造工程においては、超ＬＳＩ作成用縮
小投影装置の光源として、急速に需要が立ち上がりつつ
ある。
が１主目されている。エキシマレーザはレーザ媒質とし
てクリプトン、キセノンなとの希ガスとフッ素、塩素な
とのハロゲンガスを組み合わせることにより、３５３ｎ
ｍから１９３ｎｍのいくつかの波長で発振線を得ること
ができる紫外レーザの一つである。エキシマレーザでは
従来のレーザ装置に比べて短い波長域で大きな出力が得
られるので、微細加工、外科手術、エネルギー等の分野
における新しい光源として盛んに応用されるようになっ
た。特に半導体製造工程においては、超ＬＳＩ作成用縮
小投影装置の光源として、急速に需要が立ち上がりつつ
ある。
第３図は代表的なエキシマレーザ装置の構成を説明する
図である。このようなエキシマレーザ等のガスレーザ装
置においては、高電圧制御回路４から印加される高電圧
により主放電電極２ａ−５間でレーザ励起放電が行われ
ると、この領域にあるレーザ媒質ガスが劣化し放電特性
が悪くなり、繰り返し発振ができなくなる。このため、
通常気密容器ｌ内にクロスフローファン等の送風ファン
３を設けることにより、レーザ媒質ガスを気密容器１内
で高速循環させて主放電電極間のレーザ媒質ガスを置換
しなからレーザ発振を行う方式がとられている。エキシ
マレーザにおいてはし〜ザ媒質ガスとして腐食性の高い
ハロゲン力λを使用するため、前記送風ファンを駆動す
るモータを前記気密容器１内に収めることはできない。
図である。このようなエキシマレーザ等のガスレーザ装
置においては、高電圧制御回路４から印加される高電圧
により主放電電極２ａ−５間でレーザ励起放電が行われ
ると、この領域にあるレーザ媒質ガスが劣化し放電特性
が悪くなり、繰り返し発振ができなくなる。このため、
通常気密容器ｌ内にクロスフローファン等の送風ファン
３を設けることにより、レーザ媒質ガスを気密容器１内
で高速循環させて主放電電極間のレーザ媒質ガスを置換
しなからレーザ発振を行う方式がとられている。エキシ
マレーザにおいてはし〜ザ媒質ガスとして腐食性の高い
ハロゲン力λを使用するため、前記送風ファンを駆動す
るモータを前記気密容器１内に収めることはできない。
そこで通常は送風ファン３の駆動軸を、適当なフィード
スルー５によって気密容器１外部に取り出し、同じく気
密容器１の外に置かれたモータ６に接続している。近年
このフィードスルーには、信頼性の問題から磁気カップ
リングを用いた回転導入機が使用されることが多くなっ
ている。図４に磁気カップリングを用いた回転導入機の
構造の一例を示す。回転軸受け１０ａ−ｂにより隔壁１
３を挟んで対向するように配置されたディスク１１ａ−
ｂに多極に着磁された永久磁石１２ａ−ｂが取り付けら
れている。永久磁石１２ａ−ｂの間に働く吸引力により
、ディスク１１ａ−ｂは隔壁１３を介して磁気的に結合
され、気密容器１外に配置されたモータ６から送風ファ
ン３に駆動用を伝達することができる。
スルー５によって気密容器１外部に取り出し、同じく気
密容器１の外に置かれたモータ６に接続している。近年
このフィードスルーには、信頼性の問題から磁気カップ
リングを用いた回転導入機が使用されることが多くなっ
ている。図４に磁気カップリングを用いた回転導入機の
構造の一例を示す。回転軸受け１０ａ−ｂにより隔壁１
３を挟んで対向するように配置されたディスク１１ａ−
ｂに多極に着磁された永久磁石１２ａ−ｂが取り付けら
れている。永久磁石１２ａ−ｂの間に働く吸引力により
、ディスク１１ａ−ｂは隔壁１３を介して磁気的に結合
され、気密容器１外に配置されたモータ６から送風ファ
ン３に駆動用を伝達することができる。
発明が解決しようとする課題
しかし、従来の装置においては、図４に示すように、前
述の回転軸受（例えばヘアリング）１０ａがディスクｌ
ｌａについて、回転軸受１０ｂがディスクｌｌｂについ
て隔壁１３と反対側に配置されているために、構造上回
転軸受１０ａと１０ｂの保持部分１４を一体で製作する
ことが不可能であり、両者の中心軸を精度良く合わせる
ことができない。このためディスクｌｌａ・ｌｌｂの回
転に伴って振動が発生する。
述の回転軸受（例えばヘアリング）１０ａがディスクｌ
ｌａについて、回転軸受１０ｂがディスクｌｌｂについ
て隔壁１３と反対側に配置されているために、構造上回
転軸受１０ａと１０ｂの保持部分１４を一体で製作する
ことが不可能であり、両者の中心軸を精度良く合わせる
ことができない。このためディスクｌｌａ・ｌｌｂの回
転に伴って振動が発生する。
半導体リソグラフィー用エキシマレーザにおいては高繰
り返し動作が要求されるためにレーザ媒質ガスの流速を
上げなければならず、送風ファン３も高速で回転させる
必要がある。前述の振動は回転数が増加するほど顕著と
なるが、リソグラフィーのような超微細加工においては
特に問題となる１、またこの振動のために回転軸受１０
ａ−ｂの寿命は著しく短くなり、装置全体としての信頼
性が下がる。さらに、回転軸受１ｏａ−ｂの劣化に伴っ
てダスト（金属微粒子）が発生しレーザ媒質ガスを汚染
するので、レーザ媒質ガスの消費量が増えランニングコ
ストが上がる。
り返し動作が要求されるためにレーザ媒質ガスの流速を
上げなければならず、送風ファン３も高速で回転させる
必要がある。前述の振動は回転数が増加するほど顕著と
なるが、リソグラフィーのような超微細加工においては
特に問題となる１、またこの振動のために回転軸受１０
ａ−ｂの寿命は著しく短くなり、装置全体としての信頼
性が下がる。さらに、回転軸受１ｏａ−ｂの劣化に伴っ
てダスト（金属微粒子）が発生しレーザ媒質ガスを汚染
するので、レーザ媒質ガスの消費量が増えランニングコ
ストが上がる。
本発明はかかる点に鑑みてなされたもので、ディスクタ
イプの磁気カップリングの一対のディスクの回転軸受け
の保持部分を一体で製作可能とし、振動が少なく信頼性
に優れ、がっ経済性の高いエキシマレーザ装置を提供す
ることを目的きしている。
イプの磁気カップリングの一対のディスクの回転軸受け
の保持部分を一体で製作可能とし、振動が少なく信頼性
に優れ、がっ経済性の高いエキシマレーザ装置を提供す
ることを目的きしている。
課題を解決するための手段
上記目的を達成するために本発明は、気密容器と前記気
密容器内に一対の放電電極、レーザ媒質ガス、及び前記
レーザ媒質ガスを前記電極間に送風するための送風ファ
ンを備え、前記送風ファンを駆動する駆動手段は前記気
密容器の外部に配置され、前記駆動手段から前記送風フ
ァンへの動力の伝達には隔壁を挟んで２枚のディスクが
対向し前記ディスクの少なくとも一方が永久磁石である
ディスクタイプの磁気カップリングを用いるエキシマレ
ーザ装置において、前記の対向するディスクの少なくと
も一方が前記磁気カップリングの隔壁に保持される回転
軸受によって支持されるよう構成したものである。
密容器内に一対の放電電極、レーザ媒質ガス、及び前記
レーザ媒質ガスを前記電極間に送風するための送風ファ
ンを備え、前記送風ファンを駆動する駆動手段は前記気
密容器の外部に配置され、前記駆動手段から前記送風フ
ァンへの動力の伝達には隔壁を挟んで２枚のディスクが
対向し前記ディスクの少なくとも一方が永久磁石である
ディスクタイプの磁気カップリングを用いるエキシマレ
ーザ装置において、前記の対向するディスクの少なくと
も一方が前記磁気カップリングの隔壁に保持される回転
軸受によって支持されるよう構成したものである。
作用
上記構成によって、ディスクタイプの磁気カップリング
の一対のディスクの回転軸受けの保持部分を一体で製作
し回転軸を精度よく合わせることができるので、振動が
少なく信頼性に優れ、かつ経済性の高いエキシマレーザ
装置が実現できる。
の一対のディスクの回転軸受けの保持部分を一体で製作
し回転軸を精度よく合わせることができるので、振動が
少なく信頼性に優れ、かつ経済性の高いエキシマレーザ
装置が実現できる。
実施例
以下、図面を参照しなから本発明の実施例について説明
する。
する。
第１図は本発明によるエキシマレーザ装置の概略構成図
、第２図は第１図の磁気カップリング部分の断面図であ
る。実施例では、気密容器１に取り付けられた隔壁１３
と回転軸受保持体１４が一体となっている。この回転軸
受保持体１４によってディスクタイプの磁気カップリン
グの一対のディスク１１ａ−ｂを支持する回転軸受（ベ
アリング）１０ａ−ｂが保持されている。本実施例の構
成によれば、ディスク１１ａ−ｂは、隔壁１３を介しな
から同一の回転軸受保持体１４によって保持される回転
軸受１０ａ−ｂに支持されることになる。したがって一
対のディスク１１ａ−ｂの中心軸を厳密に一致させるこ
とが容易となり、回転によって生じる振動を大幅に減少
させることかできる。
、第２図は第１図の磁気カップリング部分の断面図であ
る。実施例では、気密容器１に取り付けられた隔壁１３
と回転軸受保持体１４が一体となっている。この回転軸
受保持体１４によってディスクタイプの磁気カップリン
グの一対のディスク１１ａ−ｂを支持する回転軸受（ベ
アリング）１０ａ−ｂが保持されている。本実施例の構
成によれば、ディスク１１ａ−ｂは、隔壁１３を介しな
から同一の回転軸受保持体１４によって保持される回転
軸受１０ａ−ｂに支持されることになる。したがって一
対のディスク１１ａ−ｂの中心軸を厳密に一致させるこ
とが容易となり、回転によって生じる振動を大幅に減少
させることかできる。
発明の効果
以上のように本発明では、ディスクタイプの磁気カップ
リングのディスクが隔壁に保持される回転軸受によって
支持されるよう構成したので、−対の回転軸受けの保持
部分を一体で製作し回転軸を精度よく合わせることがで
き、振動が少なく信頼性に優れ、かつ経済性の高いエキ
シマレーザ装置が実現できる。
リングのディスクが隔壁に保持される回転軸受によって
支持されるよう構成したので、−対の回転軸受けの保持
部分を一体で製作し回転軸を精度よく合わせることがで
き、振動が少なく信頼性に優れ、かつ経済性の高いエキ
シマレーザ装置が実現できる。
第１図は本発明の実施例にかがるエキシマレーザ装置の
概略構成図である。第２図は第１図の要部の断面図であ
る、第３図は従来のエキシマレーザ装置の構成を示す説
明図、第４図は第３図の要部の断面図である。 １・・・・・・気密容器、２ａ−ｂ・・・・・・主放電
電極、３・・・・−・送風ファン（クロスフローファン
）、４・・・・・・高電圧制御回路、５・・・・・・フ
ィードスルー、６・・・・・・モータ、７・・・・・・
全反射鏡、８・・・・・・出力鏡、９・・・・・・ガス
循環回路、１０ａ−ｂ・・・・・・回転軸受、ｌｌａ・
ｂ・・・・・・ディスク、１２ａ−ｂ・・・・・・磁石
、１３・・・・・・隔壁、１４・・・・・・回転軸受保
持体。 代理人の氏名 弁理士 小鍜治明 ほか２名第１図 １・ 気！８器 ６・・モータｚａ、２ｂｉ
Ｒ電電極 ７・全ＦＬＩＮｎＪ・・送１代７７ン
ｊ 出力含屹４・ 高亀圧智ｊ徨Ｐ電オ復
９・ 力゛ス暢１回路第２図 第３図 第４図
概略構成図である。第２図は第１図の要部の断面図であ
る、第３図は従来のエキシマレーザ装置の構成を示す説
明図、第４図は第３図の要部の断面図である。 １・・・・・・気密容器、２ａ−ｂ・・・・・・主放電
電極、３・・・・−・送風ファン（クロスフローファン
）、４・・・・・・高電圧制御回路、５・・・・・・フ
ィードスルー、６・・・・・・モータ、７・・・・・・
全反射鏡、８・・・・・・出力鏡、９・・・・・・ガス
循環回路、１０ａ−ｂ・・・・・・回転軸受、ｌｌａ・
ｂ・・・・・・ディスク、１２ａ−ｂ・・・・・・磁石
、１３・・・・・・隔壁、１４・・・・・・回転軸受保
持体。 代理人の氏名 弁理士 小鍜治明 ほか２名第１図 １・ 気！８器 ６・・モータｚａ、２ｂｉ
Ｒ電電極 ７・全ＦＬＩＮｎＪ・・送１代７７ン
ｊ 出力含屹４・ 高亀圧智ｊ徨Ｐ電オ復
９・ 力゛ス暢１回路第２図 第３図 第４図
Claims (1)
- 気密容器と前記気密容器内に一対の放電電極、レーザ媒
質ガス、及び前記レーザ媒質ガスを前記電極間に送風す
るための送風ファンを備え、前記送風ファンを駆動する
駆動手段は前記気密容器の外部に配置され、前記駆動手
段から前記送風ファンへの動力の伝達には隔壁を挟んで
２枚のディスクが対向し前記ディスクの少なくとも一方
が永久磁石であるディスクタイプの磁気カップリングを
用いるエキシマレーザ装置において、前記の対向するデ
ィスクの少なくとも一方が前記磁気カップリングの隔壁
に保持される回転軸受によって支持されることを特徴と
するエキシマレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2222749A JPH04105376A (ja) | 1990-08-24 | 1990-08-24 | エキシマレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2222749A JPH04105376A (ja) | 1990-08-24 | 1990-08-24 | エキシマレーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04105376A true JPH04105376A (ja) | 1992-04-07 |
Family
ID=16787308
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2222749A Pending JPH04105376A (ja) | 1990-08-24 | 1990-08-24 | エキシマレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04105376A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5936321A (en) * | 1997-05-29 | 1999-08-10 | Denso Corporation | Magnet coupling including permanent magnets disposed to define magnetic gap therebetween |
| US6490304B1 (en) * | 1999-03-05 | 2002-12-03 | Ntn Corporation | Excimer laser device |
-
1990
- 1990-08-24 JP JP2222749A patent/JPH04105376A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5936321A (en) * | 1997-05-29 | 1999-08-10 | Denso Corporation | Magnet coupling including permanent magnets disposed to define magnetic gap therebetween |
| US6490304B1 (en) * | 1999-03-05 | 2002-12-03 | Ntn Corporation | Excimer laser device |
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