JPH03285377A - ガスレーザ装置 - Google Patents
ガスレーザ装置Info
- Publication number
- JPH03285377A JPH03285377A JP2087941A JP8794190A JPH03285377A JP H03285377 A JPH03285377 A JP H03285377A JP 2087941 A JP2087941 A JP 2087941A JP 8794190 A JP8794190 A JP 8794190A JP H03285377 A JPH03285377 A JP H03285377A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- airtight container
- laser medium
- laser
- blower fan
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、産業用や医療用のレーザ光源であるガスレー
ザ装置に関する。
ザ装置に関する。
従来の技術
近年、新しい産業用のレーザ光源としてエキシマレーザ
が注目されている。エキシマレーザはレーザ媒質として
クリプトンやギセノンなどの希ガスとフッ素や塩素など
のハロゲンカスを組み合わせることにより、353〜1
93nmのいくつかの波長で発振線を得ることができる
紫外レーザの一つである。エキシマレーザでは従来のレ
ーザ装置に比べて短い波長域で大きな出力が得られるの
で、微細加工や外科手術等の分野における新しい光源と
して期待されていζ)。
が注目されている。エキシマレーザはレーザ媒質として
クリプトンやギセノンなどの希ガスとフッ素や塩素など
のハロゲンカスを組み合わせることにより、353〜1
93nmのいくつかの波長で発振線を得ることができる
紫外レーザの一つである。エキシマレーザでは従来のレ
ーザ装置に比べて短い波長域で大きな出力が得られるの
で、微細加工や外科手術等の分野における新しい光源と
して期待されていζ)。
特に医療においては、従来から用いられているCO2レ
ーザやYAGレーザなどの赤外レーザが熱的効果で切開
や止血などを行うのに対し、エキシマレーザは高いフォ
トンエネルギーによる光化学効果を利用でき、新しい治
療分野を開く可能性を持っている。
ーザやYAGレーザなどの赤外レーザが熱的効果で切開
や止血などを行うのに対し、エキシマレーザは高いフォ
トンエネルギーによる光化学効果を利用でき、新しい治
療分野を開く可能性を持っている。
以下に従来のガスレーザ装置について説明する。
第5図に示すように、高電圧制御回路13から印加され
る高電圧により主放電電極2a、2b間でレーザ励起放
電が行われると、この領域にあるレーザ媒質ガスが劣化
して放電特性が悪(なり、絆り返し発振ができなくなる
。このため、気密容器1内にクロス70−ファン等の送
風ファン3を設けることによりレーザ媒質ガスを気密容
器1内で高速循環させて主放電電極2a、2b間のレー
ザ媒質ガスを置換しなからレーザ発振を行うという方法
がとられている。
る高電圧により主放電電極2a、2b間でレーザ励起放
電が行われると、この領域にあるレーザ媒質ガスが劣化
して放電特性が悪(なり、絆り返し発振ができなくなる
。このため、気密容器1内にクロス70−ファン等の送
風ファン3を設けることによりレーザ媒質ガスを気密容
器1内で高速循環させて主放電電極2a、2b間のレー
ザ媒質ガスを置換しなからレーザ発振を行うという方法
がとられている。
エキシマレーザの場合、放電によるスパッタもしくはア
ークによって、主放電電極や予備電離電極から微粉末が
発生し、これらの一部分がレーザ媒質ガスと反応してハ
ロゲン化物を生成する。また、気密容器1内の構成物と
レーザ媒質ガスとが反応してハロゲン化物を生成する。
ークによって、主放電電極や予備電離電極から微粉末が
発生し、これらの一部分がレーザ媒質ガスと反応してハ
ロゲン化物を生成する。また、気密容器1内の構成物と
レーザ媒質ガスとが反応してハロゲン化物を生成する。
したがって、レーザを発振し続けると、気密容器1内の
レーザ媒質ガス中には微粉末およびレーザ媒質ガス以外
の不純ガスが増加してくる。これらの微粉末および不純
ガスが、レーザ励起放電に悪影響を及ぼし、レーザ光出
力を低下させたり、ガス寿命を短縮させたりするのを防
止するため、通常のエキシマレーザ装置では、気密容器
1の外部にレーザ媒質ガスを導出する外部循環回路9を
設ける。外部循環回路9には、レーザ媒質ガスを循環さ
せるガス循環手段7(例えば、ダイアプラムポンプ)と
集塵装置やガスプロセッサ等のガス再生装置8とが設置
され、レーザ媒質ガスの再生がなされる。
レーザ媒質ガス中には微粉末およびレーザ媒質ガス以外
の不純ガスが増加してくる。これらの微粉末および不純
ガスが、レーザ励起放電に悪影響を及ぼし、レーザ光出
力を低下させたり、ガス寿命を短縮させたりするのを防
止するため、通常のエキシマレーザ装置では、気密容器
1の外部にレーザ媒質ガスを導出する外部循環回路9を
設ける。外部循環回路9には、レーザ媒質ガスを循環さ
せるガス循環手段7(例えば、ダイアプラムポンプ)と
集塵装置やガスプロセッサ等のガス再生装置8とが設置
され、レーザ媒質ガスの再生がなされる。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記従来の装置においては、前述した外部
循環回路にレーザ媒質ガスを循環させるガス循環手段7
(例えばダイアフラムポンプ)を気密容器外部に設置し
ているため、以下に述べるような問題点がある。
循環回路にレーザ媒質ガスを循環させるガス循環手段7
(例えばダイアフラムポンプ)を気密容器外部に設置し
ているため、以下に述べるような問題点がある。
(1) 構成部品が多くなり、構造が複雑になるため
に、ガスリークの危険性が高くなる。特にエキシマレー
ザにおいては、レーザ媒質ガスに有毒なハロゲン(フッ
素、塩素など)を使用するので、医療用などの用途で比
較的狭い室内で使用する際に危険性が高い。
に、ガスリークの危険性が高くなる。特にエキシマレー
ザにおいては、レーザ媒質ガスに有毒なハロゲン(フッ
素、塩素など)を使用するので、医療用などの用途で比
較的狭い室内で使用する際に危険性が高い。
(2)外部循環手段く例えばダイアフラムポンプ)は機
械運動を気密容器内に導入する部品(例えばダイアフラ
ム)が必要となり、一般にそのような部品は寿命が短い
ので信頼性が低く、メンテナンスの面で不利となる。
械運動を気密容器内に導入する部品(例えばダイアフラ
ム)が必要となり、一般にそのような部品は寿命が短い
ので信頼性が低く、メンテナンスの面で不利となる。
(3) レーザ媒質ガスの長寿命化を図るには、外部
循環回路の循環量を多くしなければならないが、外部循
環回路の入口と出口との間の差圧が小さいために、一般
に循環量に比して循環手段が大型なものとなる。ダイア
フラムポンプを例にとると、毎分5eの流量を得るため
には200++at+〉、200mX500Bの空間が
必要となる。このため、レーザ装置全体が大型化し、特
に医療用などの用達で比較的狭い室内で使用する際に支
障を生ずる。
循環回路の循環量を多くしなければならないが、外部循
環回路の入口と出口との間の差圧が小さいために、一般
に循環量に比して循環手段が大型なものとなる。ダイア
フラムポンプを例にとると、毎分5eの流量を得るため
には200++at+〉、200mX500Bの空間が
必要となる。このため、レーザ装置全体が大型化し、特
に医療用などの用達で比較的狭い室内で使用する際に支
障を生ずる。
本発明は上記従来の問題を解決するもので、ガス循環手
段の寿命が長(、ガスリークが生ぜず安全で信頼性が高
くかつ小型化したガスレーザ装置を提供することを目的
とする。
段の寿命が長(、ガスリークが生ぜず安全で信頼性が高
くかつ小型化したガスレーザ装置を提供することを目的
とする。
課題を解決するための手段
この課題を解決するために本発明のガスレーザ装置は、
レーザ媒質ガスを励起する放電部と送風ファンを内蔵し
た気密容器と、レーザ媒質ガスを気密容器の外部に導出
する外部循環回路とをそなえ、ガス循環手段を前記気密
容器内に設置した構成を有している。
レーザ媒質ガスを励起する放電部と送風ファンを内蔵し
た気密容器と、レーザ媒質ガスを気密容器の外部に導出
する外部循環回路とをそなえ、ガス循環手段を前記気密
容器内に設置した構成を有している。
作用
この構成においては、ガス循環手段が気密容器内部に設
置されるため、ガス循環手段からのガス漏れのおそれが
なくなり、また、ガス循環手段が長寿命となる。さらに
、ガスレーザ装置全体が小型化される。
置されるため、ガス循環手段からのガス漏れのおそれが
なくなり、また、ガス循環手段が長寿命となる。さらに
、ガスレーザ装置全体が小型化される。
実施例
以下、本発明の第1の実施例について図面を参照しなが
ら説明する。第1図に示すように、高電圧制御回路13
から高電圧が印加される主放it極2 a 、2 b
%クロスフローファン等の送風ファン3およびブロワ−
6が気密容器1内に設けられている。主放電電極2a、
2b間に放電部が形成される。ブロワ−6の回転軸は送
風ファン3の回転軸に接続され、さらに送風ファン3の
回転軸はフィードスルー(例えば磁性流体シール)5を
へてモーター4に接続されている。気密容器1の外部に
はレーザ媒質ガスの再生装置8を有する外部循環回路9
が設けられている。
ら説明する。第1図に示すように、高電圧制御回路13
から高電圧が印加される主放it極2 a 、2 b
%クロスフローファン等の送風ファン3およびブロワ−
6が気密容器1内に設けられている。主放電電極2a、
2b間に放電部が形成される。ブロワ−6の回転軸は送
風ファン3の回転軸に接続され、さらに送風ファン3の
回転軸はフィードスルー(例えば磁性流体シール)5を
へてモーター4に接続されている。気密容器1の外部に
はレーザ媒質ガスの再生装置8を有する外部循環回路9
が設けられている。
以上のように構成されたガスレーザ装置の動作を説明す
る。ブロワ−6と送風ファン3の回転軸が接続されてい
るので、モーター4の駆動力によって両者は同時に回転
する。ブロワ−6の回転によって気密容器1内のレーザ
媒質ガスは外部循環回路9を循環し、ガス再生装置8で
再生されたレーザ媒質ガスは再び気密容器1内に戻され
る。すなわち、ブロワ−6がガス循環手段として作用す
る。
る。ブロワ−6と送風ファン3の回転軸が接続されてい
るので、モーター4の駆動力によって両者は同時に回転
する。ブロワ−6の回転によって気密容器1内のレーザ
媒質ガスは外部循環回路9を循環し、ガス再生装置8で
再生されたレーザ媒質ガスは再び気密容器1内に戻され
る。すなわち、ブロワ−6がガス循環手段として作用す
る。
以上のように第1の実施例によれば、ガス循環手段であ
るブロワ−6を気密容器1内に設けることにより、ガス
循環手段からのリークガスが気密容器1の外部に漏れ出
る危険性をな(することができる。また、ガス循環手段
そのものにはフィードスルーを使用する必要性がないた
めに、ガス循環手段の寿命が長くなり、構成部品の点数
も少なく、信頼性が高くメンテナンスの面で有利となる
。
るブロワ−6を気密容器1内に設けることにより、ガス
循環手段からのリークガスが気密容器1の外部に漏れ出
る危険性をな(することができる。また、ガス循環手段
そのものにはフィードスルーを使用する必要性がないた
めに、ガス循環手段の寿命が長くなり、構成部品の点数
も少なく、信頼性が高くメンテナンスの面で有利となる
。
また、ブロワ−6は差圧が小さくても送風量を大きくす
ることができるので、循環量を大きく設定し、レーザ媒
質ガスの寿命を伸ばすことができる。
ることができるので、循環量を大きく設定し、レーザ媒
質ガスの寿命を伸ばすことができる。
発明者の実験によれば、ブロワ−6に直径100■の軸
流ファンを用いることで毎分50eの流量が得られレー
ザ媒質ガスの寿命を従来の2倍に延長することができた
。さらに、ブロワ−6による体積の増加分は直径140
−1厚さ100mですみ、従来のガスレーザ装置のガス
循環手段に用いるダイアフラムポンプに比べて体積比で
16分の1に減少し、レーザ装置全体も小形化できる。
流ファンを用いることで毎分50eの流量が得られレー
ザ媒質ガスの寿命を従来の2倍に延長することができた
。さらに、ブロワ−6による体積の増加分は直径140
−1厚さ100mですみ、従来のガスレーザ装置のガス
循環手段に用いるダイアフラムポンプに比べて体積比で
16分の1に減少し、レーザ装置全体も小形化できる。
しかも、低周波振動を発生するダイアフラムポンプを使
用しないため、超微細加工用などの、振動を嫌う用途に
も有利となる。
用しないため、超微細加工用などの、振動を嫌う用途に
も有利となる。
以下、本発明の第2の実施例について図面を参照しなが
ら説明する。第2図および第3図に示すように、第1の
実施例のガス循環手段であるブロワ−6に代えて、送風
ファン3のモータ4に接続しない便の端部の外側にケー
シング10を設けさらに前記送風ファン3のモータ4に
接続しない側の回転軸11を中空構造として送風ファン
3の内側空間に連結させたガス循環手段を設ける。
ら説明する。第2図および第3図に示すように、第1の
実施例のガス循環手段であるブロワ−6に代えて、送風
ファン3のモータ4に接続しない便の端部の外側にケー
シング10を設けさらに前記送風ファン3のモータ4に
接続しない側の回転軸11を中空構造として送風ファン
3の内側空間に連結させたガス循環手段を設ける。
以上のように構成されたガスレーザ装置について、以下
その動作を説明する。送風ファン3の端部がケーシング
10によりシロッコファンとして作用するので、気密容
器1内のレーザ媒質ガスは外部循環回路9を循環し、中
空の回転軸11を通過して送風ファン3から気密容器1
内に吐出される。
その動作を説明する。送風ファン3の端部がケーシング
10によりシロッコファンとして作用するので、気密容
器1内のレーザ媒質ガスは外部循環回路9を循環し、中
空の回転軸11を通過して送風ファン3から気密容器1
内に吐出される。
以下本発明の第3の実施例について図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第4図に示すように、第2図の構成と異なるのは、ガス
循環手段である中空の回転軸11に代えて、送風ファン
3の駆動軸側でない方の端面を開放して、ガス循環手段
とした点である。
循環手段である中空の回転軸11に代えて、送風ファン
3の駆動軸側でない方の端面を開放して、ガス循環手段
とした点である。
以上のように構成されたガスレーザ装置について以下そ
の動作を説明する。
の動作を説明する。
送風ファン3の端部がケーシング10により、シロッコ
ファンとしての作用をすることによって、気密容器1内
のレーザ媒質ガスは外部循環回路9を循環し、直接送風
ファン3の開放口から内部に流入し、気密容器1内に吐
出される。
ファンとしての作用をすることによって、気密容器1内
のレーザ媒質ガスは外部循環回路9を循環し、直接送風
ファン3の開放口から内部に流入し、気密容器1内に吐
出される。
以上のように、第2および第3の実施例によれば、ガス
循環手段として送風ファン3の一部分を利用するので、
部品点数を少なくすることができる。
循環手段として送風ファン3の一部分を利用するので、
部品点数を少なくすることができる。
発明の効果
以上の説明からも明らかなように本発明は、レーザ媒質
ガスを励起する放電部と送風ファンを内蔵した気密容器
と、レーザ媒質ガスを気密容器の外部に導出する外部循
環回路を備え、ガス循環手段を気密容器内に設置する構
成により、気密容器から外部にガスリークがなく、安全
で、ガス循環手段の寿命が長(、信頼性が高くレーザ装
置全体を小型化できる優れたガスレーザ装置を実現でき
るものである。
ガスを励起する放電部と送風ファンを内蔵した気密容器
と、レーザ媒質ガスを気密容器の外部に導出する外部循
環回路を備え、ガス循環手段を気密容器内に設置する構
成により、気密容器から外部にガスリークがなく、安全
で、ガス循環手段の寿命が長(、信頼性が高くレーザ装
置全体を小型化できる優れたガスレーザ装置を実現でき
るものである。
第1図は本発明の第1の実施例のガスレーザ装置の構成
を示す説明図、第2図は本発明の第2の実施例のガスレ
ーザ装置の構成の要部を示す一部切欠き説明図、第3図
は第2図のA−A’断面図、第4図は本発明の第3の実
施例のガスレーザ装置の構成の要部を示す一部切欠き説
明図、第5図は従来のガスレーザ装置の構成を示す説明
図である。 1・・・・・・気密容器、2a、2b・・・・・・主放
電電極、3・・・・・・送風ファン、4・・・・・・モ
ータ、5・・・・・・フィードスルー、6・・・・・・
ブロワ−18・・・・・・ガス再生装置、9・・・・・
・外部循環回路、10・・・・・・ケーシング、11・
・・・・・回転軸、12・・・・・・軸受け。
を示す説明図、第2図は本発明の第2の実施例のガスレ
ーザ装置の構成の要部を示す一部切欠き説明図、第3図
は第2図のA−A’断面図、第4図は本発明の第3の実
施例のガスレーザ装置の構成の要部を示す一部切欠き説
明図、第5図は従来のガスレーザ装置の構成を示す説明
図である。 1・・・・・・気密容器、2a、2b・・・・・・主放
電電極、3・・・・・・送風ファン、4・・・・・・モ
ータ、5・・・・・・フィードスルー、6・・・・・・
ブロワ−18・・・・・・ガス再生装置、9・・・・・
・外部循環回路、10・・・・・・ケーシング、11・
・・・・・回転軸、12・・・・・・軸受け。
Claims (3)
- (1)レーザ媒質ガスを励起する放電部を備えた気密容
器と、前記レーザ媒質ガスを前記気密容器の外部に導出
する外部循環回路と、前記気密容器内に設置されている
、前記レーザ媒質ガスを前記外部循環回路に送出するガ
ス循環手段とを有することを特徴とするガスレーザ装置
。 - (2)気密容器内に、放電部にレーザ媒質ガスを送風す
る送風ファンをそなえ、前記送風ファンとガス循環手段
とを同一の動力源で駆動させることを特徴とする請求項
1記載のガスレーザ装置。 - (3)気密容器内に、放電部にレーザ媒質ガスを送風す
る送風ファンをそなえ、前記送風ファンの一部分をガス
循環手段として使用することを特徴とする請求項1記載
のガスレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2087941A JPH03285377A (ja) | 1990-04-02 | 1990-04-02 | ガスレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2087941A JPH03285377A (ja) | 1990-04-02 | 1990-04-02 | ガスレーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03285377A true JPH03285377A (ja) | 1991-12-16 |
Family
ID=13928925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2087941A Pending JPH03285377A (ja) | 1990-04-02 | 1990-04-02 | ガスレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03285377A (ja) |
-
1990
- 1990-04-02 JP JP2087941A patent/JPH03285377A/ja active Pending
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