JPH04112867A - β―ラクタム化合物の製造法 - Google Patents
β―ラクタム化合物の製造法Info
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- JPH04112867A JPH04112867A JP2233776A JP23377690A JPH04112867A JP H04112867 A JPH04112867 A JP H04112867A JP 2233776 A JP2233776 A JP 2233776A JP 23377690 A JP23377690 A JP 23377690A JP H04112867 A JPH04112867 A JP H04112867A
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- tert
- butyldimethylsilyloxy
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は３位に水酸基か保護されたヒドロキシエチル基
を有し、４位にシリルエーテル基あるいは置換メルカプ
ト基を有するβ−ラクタム化合物の製造法に関する。
を有し、４位にシリルエーテル基あるいは置換メルカプ
ト基を有するβ−ラクタム化合物の製造法に関する。
本発明によるβ−ラクタム化合物は、４位に反応性に富
む官能基を有し、様々の誘導体に変換できる有用な中間
体である。たとえば、４位の活性な官能基をさらに変換
することにより、第４世代のβ−ラクタム系抗生物質と
して知られているチェナマイシン製造に有用な４−アセ
トキン−３−（１−ヒドロキシエチル）−アゼチンシー
２−オン、’３−（１−ヒドロキシエチル）−４−ハロ
アセチジン−２−オン、３−（１−ヒドロキシエチル）
−４−スルホニルアセチシン−２−オンなどか取得でき
る。
む官能基を有し、様々の誘導体に変換できる有用な中間
体である。たとえば、４位の活性な官能基をさらに変換
することにより、第４世代のβ−ラクタム系抗生物質と
して知られているチェナマイシン製造に有用な４−アセ
トキン−３−（１−ヒドロキシエチル）−アゼチンシー
２−オン、’３−（１−ヒドロキシエチル）−４−ハロ
アセチジン−２−オン、３−（１−ヒドロキシエチル）
−４−スルホニルアセチシン−２−オンなどか取得でき
る。
［従来の技術・発明が解決しようとする課題］ハロスル
ホニルイソシアナートは反応性か高く、入手が容易な反
応剤としてβ−ラクタム合成に広く用いられる。しかし
生成したＮ−ノ＼ロスルホニルーβ−ラクタムか４位に
活性な官能基を有するばあい、Ｎ上のハロスルホニル基
を脱離させ、無保護のβ−ラクタムを収串良くうるため
の反応剤としては、工業生産上取り扱いにくいものや後
処理の際に反応剤より生しる副生物の除去が困難になっ
たりするものが多い。
ホニルイソシアナートは反応性か高く、入手が容易な反
応剤としてβ−ラクタム合成に広く用いられる。しかし
生成したＮ−ノ＼ロスルホニルーβ−ラクタムか４位に
活性な官能基を有するばあい、Ｎ上のハロスルホニル基
を脱離させ、無保護のβ−ラクタムを収串良くうるため
の反応剤としては、工業生産上取り扱いにくいものや後
処理の際に反応剤より生しる副生物の除去が困難になっ
たりするものが多い。
４位にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物と
その製造法に関しては特開昭６１−１８７９１号公報、
４位に置換メルカプト基を有するβ−ラクタム化合物と
その製造法に関しては特開昭６１−２０７３７３号公報
に報告されているかその製造過程でのβ−ラクタム環の
Ｎ上のクロロスルホニル基の脱離においては、脱離に使
用した反応剤より生成してくるアルミ化合物、メトキン
エタノール、ジスルフィドなどの除去あるいは処理にお
いて工業的な面から大きな問題点かあった。
その製造法に関しては特開昭６１−１８７９１号公報、
４位に置換メルカプト基を有するβ−ラクタム化合物と
その製造法に関しては特開昭６１−２０７３７３号公報
に報告されているかその製造過程でのβ−ラクタム環の
Ｎ上のクロロスルホニル基の脱離においては、脱離に使
用した反応剤より生成してくるアルミ化合物、メトキン
エタノール、ジスルフィドなどの除去あるいは処理にお
いて工業的な面から大きな問題点かあった。
この問題を解決するために、本発明者らは鋭意検討を行
なった結果、硫化水素もしくはメルカプトベンゾチアゾ
ールと塩基により還元反応を行なうことにより、簡単に
上記の１位窒素原子上のハロスルホニル基を効率的に脱
離させ、しかも収率よく目的とするβ−ラクタム化合物
（Ｉ）かえられ、しかも反応剤より副生ずるのは硫化水
素のばあいは反応性のないイオウてあり、メルカプトベ
ンゾチアゾールのばあいはそのジスルフィドであり、い
ずれも溶媒に溶けにくいことを利用し、ろ過操作たけて
容易に除去することかできることを見出し本発明を完成
するにいたった。
なった結果、硫化水素もしくはメルカプトベンゾチアゾ
ールと塩基により還元反応を行なうことにより、簡単に
上記の１位窒素原子上のハロスルホニル基を効率的に脱
離させ、しかも収率よく目的とするβ−ラクタム化合物
（Ｉ）かえられ、しかも反応剤より副生ずるのは硫化水
素のばあいは反応性のないイオウてあり、メルカプトベ
ンゾチアゾールのばあいはそのジスルフィドであり、い
ずれも溶媒に溶けにくいことを利用し、ろ過操作たけて
容易に除去することかできることを見出し本発明を完成
するにいたった。
［課題を解決するための手段および作用］本発明は一般
式（■）： （式中、Ｒ１は水酸基の保護基を示し、Ａは酸素原子ま
たはイオウ原子であり、八が酸素原子よびＲ５は炭素数
１〜６の低級アルキル基、フェニル基またはアラルキル
基を示す）を示し、Ａがイオウ原子のばあい、Ｒ２はト
リフェニルメチル基、ｔ−ブチル基、フェニル基、低級
アルキルフェニル基、低級アルコキシフェニル基または
ハロゲン置換フェニル基を示し、Ｘはハロゲンを示す）
で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法に関する。
式（■）： （式中、Ｒ１は水酸基の保護基を示し、Ａは酸素原子ま
たはイオウ原子であり、八が酸素原子よびＲ５は炭素数
１〜６の低級アルキル基、フェニル基またはアラルキル
基を示す）を示し、Ａがイオウ原子のばあい、Ｒ２はト
リフェニルメチル基、ｔ−ブチル基、フェニル基、低級
アルキルフェニル基、低級アルコキシフェニル基または
ハロゲン置換フェニル基を示し、Ｘはハロゲンを示す）
で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法に関する。
前記一般式（１１中の３位のヒドロキシエチル基の〇−
保護基である Ｒ１としては、一般式（■）：（式中、
Ｒ６Ｒ７およびＲ８は炭素数１〜６の低級アルキル基、
フェニル基またはアラルキル基を示す）で表わされるト
リアルキルシリル基、たとえばｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリル基、トリイソプロピルシリル基、イソプロピル
ジメチルシリル基、イソブチルジメチルシリル基、ジメ
チル−（１，２−ジメチルプロピル）シリル基、ジメチ
ル−（１，１，２−トリノチルプロピル）シリル基や、
その他ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基、トリクロロエ
トキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基
、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基などがあげら
れる。
保護基である Ｒ１としては、一般式（■）：（式中、
Ｒ６Ｒ７およびＲ８は炭素数１〜６の低級アルキル基、
フェニル基またはアラルキル基を示す）で表わされるト
リアルキルシリル基、たとえばｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリル基、トリイソプロピルシリル基、イソプロピル
ジメチルシリル基、イソブチルジメチルシリル基、ジメ
チル−（１，２−ジメチルプロピル）シリル基、ジメチ
ル−（１，１，２−トリノチルプロピル）シリル基や、
その他ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基、トリクロロエ
トキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基
、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基などがあげら
れる。
すなわち、本発明は一般式（Ｉ）：
（式中、Ｒ１は水酸基の保護基を示し、Ａは酸素原子ま
たはイオウ原子であり、＾か酸素原子Ｒ５は炭素数１〜
６の低級アルキル基、フェニル基またはアラルキル基を
示す）を示し、八がイオウ原子のばあい、Ｒ２はトリフ
ェニルメチル基、ｔ−ブチル基、フェニル基、低級アル
キルフェニル基、低級アルコキシフェニル基またはハロ
ゲン置換フェニル基を示し、Ｘはハロゲンを示す）で表
わされるＮ−ハロスルホニル−β−ラクタム化合物を有
機溶媒または水溶媒中、硫化水素もしくはメルカプトベ
ンゾチアゾールと塩基により還元することを特徴とする
一般式（■）：（式中、ＲＩ ＡおよびＲ２は前記
と同じ）で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法に関
するものである。
たはイオウ原子であり、＾か酸素原子Ｒ５は炭素数１〜
６の低級アルキル基、フェニル基またはアラルキル基を
示す）を示し、八がイオウ原子のばあい、Ｒ２はトリフ
ェニルメチル基、ｔ−ブチル基、フェニル基、低級アル
キルフェニル基、低級アルコキシフェニル基またはハロ
ゲン置換フェニル基を示し、Ｘはハロゲンを示す）で表
わされるＮ−ハロスルホニル−β−ラクタム化合物を有
機溶媒または水溶媒中、硫化水素もしくはメルカプトベ
ンゾチアゾールと塩基により還元することを特徴とする
一般式（■）：（式中、ＲＩ ＡおよびＲ２は前記
と同じ）で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法に関
するものである。
本発明を反応式で示すと以下の通りである。
本反応における原料のＮ−ハロスルホニル−βラクタム
類ＣＩ＋としては３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−
（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン、３−
（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル
）−１−クロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキ
シ）アセチジン−２−オン、３−（１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホ
ニル−４−（ジメチルイソプロピルシリロキシ）アゼチ
ジン−２−オン、３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）アゼチジン−
２−オン、１−クロロスルホニル−３−（１（ジメチル
イソプロピルシリロキシ）エチル）４−（トリメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オン、■−クロロスルホニ
ルー３−（１−（ジメチル（１゜１．２−）ジメチルプ
ロピル）シリロキシ）エチル）４−（トリメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オン、■−クロロスルホニルー
３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリロキシ）
エチル）−４−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−
２−オン、■−クロロスルホニルー３−（１−（ジメチ
ル（１，２−ジメチルプロピル）シリロキシ）エチル）
−４−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン
、３−（１−ｔｅｒｔ−ブトキンエチル）−１−クロロ
スルホニル−エチルシリロキシ）アセチシン−２−オン
、３−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシエチル）−１−クロロ
スルホニル−４（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−
２−オン、３− （１−（ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル
オキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−（トリ
メチルシリロキシ）アセチシン−２−オン、３−（１−
ｔｅｒｔ−ブトキシエチル）−１−クロロスルホニル−
４−（トリエチルシリロキシ）アセチジン−２−オン、
１−クロロスルホニル−４−トリエチルシリル基キ−３
−（１−（ トリメチルシリロキシ）エチル）アゼチジ
ン−２−オン、３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−（
フェニルチオ）アゼチジン−２−オン、３−（１−（ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル−１−クロ
ロスルホニル−４−（ｐ−メトキシフェニルチオ）アゼ
チジン−２−オン、３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４
−（Ｐ−クロロフェニルチオ）アゼチジン−２−オン、
３−（ｌ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−■ークロロスルホニルー４−（ｐ−メトキシフ
ェニルチオ）アセチジン−２−オン、３−（１−（ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロ
ロスルホニル−４−（ｐ−メチルフェニルチオ）アセチ
フン−２ーオン、３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−
（ｐ−フルオロフェニルチオ）アゼチジン−２−オン、
３−（１ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル）
−１−クロロスルホニル−４−（３．４−ジクロロフェ
ニルチオ）アゼチジン−２−オンがあげられる。
類ＣＩ＋としては３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−
（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン、３−
（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル
）−１−クロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキ
シ）アセチジン−２−オン、３−（１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホ
ニル−４−（ジメチルイソプロピルシリロキシ）アゼチ
ジン−２−オン、３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）アゼチジン−
２−オン、１−クロロスルホニル−３−（１（ジメチル
イソプロピルシリロキシ）エチル）４−（トリメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オン、■−クロロスルホニ
ルー３−（１−（ジメチル（１゜１．２−）ジメチルプ
ロピル）シリロキシ）エチル）４−（トリメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オン、■−クロロスルホニルー
３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリロキシ）
エチル）−４−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−
２−オン、■−クロロスルホニルー３−（１−（ジメチ
ル（１，２−ジメチルプロピル）シリロキシ）エチル）
−４−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン
、３−（１−ｔｅｒｔ−ブトキンエチル）−１−クロロ
スルホニル−エチルシリロキシ）アセチシン−２−オン
、３−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシエチル）−１−クロロ
スルホニル−４（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−
２−オン、３− （１−（ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル
オキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−（トリ
メチルシリロキシ）アセチシン−２−オン、３−（１−
ｔｅｒｔ−ブトキシエチル）−１−クロロスルホニル−
４−（トリエチルシリロキシ）アセチジン−２−オン、
１−クロロスルホニル−４−トリエチルシリル基キ−３
−（１−（ トリメチルシリロキシ）エチル）アゼチジ
ン−２−オン、３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−（
フェニルチオ）アゼチジン−２−オン、３−（１−（ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル−１−クロ
ロスルホニル−４−（ｐ−メトキシフェニルチオ）アゼ
チジン−２−オン、３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４
−（Ｐ−クロロフェニルチオ）アゼチジン−２−オン、
３−（ｌ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−■ークロロスルホニルー４−（ｐ−メトキシフ
ェニルチオ）アセチジン−２−オン、３−（１−（ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロ
ロスルホニル−４−（ｐ−メチルフェニルチオ）アセチ
フン−２ーオン、３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−
（ｐ−フルオロフェニルチオ）アゼチジン−２−オン、
３−（１ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル）
−１−クロロスルホニル−４−（３．４−ジクロロフェ
ニルチオ）アゼチジン−２−オンがあげられる。
これらの原料は特開昭６１−１８７９１号および同６１
２０７３７３号公報に報告されている方法で合成した。
２０７３７３号公報に報告されている方法で合成した。
つぎに、本反応により生成したβ−ラクタム化合物の窒
素上の置換基を脱離させ、目的化合物（Ｉｌｌをうる反
応について述べる。
素上の置換基を脱離させ、目的化合物（Ｉｌｌをうる反
応について述べる。
本反応の化合物（１１および化合物（Ｉ）において八が
酸素原子のばあい、Ｒ２はトリメチルシリル基、トリエ
チルシリル基、ジメチルイソプロピルシリル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリル基などがあげられ、Ａがイオ
ウ原子のばあい、Ｒ２はフェニル基、ｐ−メトキシフェ
ニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−メチルフェニル基
、ｐ−フルオロフェニル基、３．４−ジクロロフェニル
基、トリフェニルメチル基、ｔ−ブチル基などがあげら
れる。また、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子なとのハロゲンであり、好ましくは塩素原子で
ある。
酸素原子のばあい、Ｒ２はトリメチルシリル基、トリエ
チルシリル基、ジメチルイソプロピルシリル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリル基などがあげられ、Ａがイオ
ウ原子のばあい、Ｒ２はフェニル基、ｐ−メトキシフェ
ニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−メチルフェニル基
、ｐ−フルオロフェニル基、３．４−ジクロロフェニル
基、トリフェニルメチル基、ｔ−ブチル基などがあげら
れる。また、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子なとのハロゲンであり、好ましくは塩素原子で
ある。
この反応は有機溶媒中、あるいは水溶媒中、一般式（１
）に示した化合物に硫化水素もしくはメルカプトベンゾ
チアゾールと塩基を作用させることにより行なわれる。
）に示した化合物に硫化水素もしくはメルカプトベンゾ
チアゾールと塩基を作用させることにより行なわれる。
塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
トリブチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジ
プロピルアミン、ジブチルアミン、ジエチルアミン、ア
ニリン、シクロヘキシルアミン等の一級、二級、三級ア
ミン、およびアンモニア、水酸化ナトリウムなどの無機
塩基か用いられる。
トリブチルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ジ
プロピルアミン、ジブチルアミン、ジエチルアミン、ア
ニリン、シクロヘキシルアミン等の一級、二級、三級ア
ミン、およびアンモニア、水酸化ナトリウムなどの無機
塩基か用いられる。
反応溶媒としては、たとえばトルエン、ヘキサン、エー
テルなどの有機溶媒、および水溶媒が使用できる。
テルなどの有機溶媒、および水溶媒が使用できる。
反応は−１（１１）℃から溶媒沸点付近の任意の温度で
行なえるか、好ましくは−５（１℃から室温程度である
。原料であるハウスルホニルラクタムを反応試剤に添加
してもよく、またはハロスルホニルラクタムの溶媒中に
反応試剤を添加してもよい。硫化水素もしくはメルカプ
トベンゾチアゾールと塩基の量としてはハロスルホニル
ラクタムの当量に対してそれぞれ１当量以上あればよい
。この還元反応を行なったのちに水洗処理、濃縮、ろ過
等を行なうことにより目的とするＮ−無置換のβ−ラク
タム化合物を収率よく簡単にうろことができる。
行なえるか、好ましくは−５（１℃から室温程度である
。原料であるハウスルホニルラクタムを反応試剤に添加
してもよく、またはハロスルホニルラクタムの溶媒中に
反応試剤を添加してもよい。硫化水素もしくはメルカプ
トベンゾチアゾールと塩基の量としてはハロスルホニル
ラクタムの当量に対してそれぞれ１当量以上あればよい
。この還元反応を行なったのちに水洗処理、濃縮、ろ過
等を行なうことにより目的とするＮ−無置換のβ−ラク
タム化合物を収率よく簡単にうろことができる。
［実施例コ
次に実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明するが本
発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
参考例
！ｌ−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）
エチル）−１−クロロスルホニル−４−（トリメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オン生成の確認クロロスル
ホニルイソシアナート３５μｇをトルエンｄ８に溶解し
、アルゴンカス雰囲気下、７８℃に冷却しなから３−（
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）ブチ−１−ニル
トリメチルシリルエーテル１００ｍｇを添加した。１時
間後、この反応液の一部を抜き取り、−７０℃に液体窒
素で冷却しなから１）１−ＮＭ）ｉスペクトルを測定す
ると原料である３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロ
キシ）ブチ−１−ニルトリメチルシリルーテルの１位プ
ロトン（６，５ｐｐｍ付近、ｄ）と、２位プロトン（５
，２ｐｐｍ付近、ｍ）のシグナルか消失し、６．２ｐｐ
ｍ（ｄ。
エチル）−１−クロロスルホニル−４−（トリメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オン生成の確認クロロスル
ホニルイソシアナート３５μｇをトルエンｄ８に溶解し
、アルゴンカス雰囲気下、７８℃に冷却しなから３−（
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）ブチ−１−ニル
トリメチルシリルエーテル１００ｍｇを添加した。１時
間後、この反応液の一部を抜き取り、−７０℃に液体窒
素で冷却しなから１）１−ＮＭ）ｉスペクトルを測定す
ると原料である３−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロ
キシ）ブチ−１−ニルトリメチルシリルーテルの１位プ
ロトン（６，５ｐｐｍ付近、ｄ）と、２位プロトン（５
，２ｐｐｍ付近、ｍ）のシグナルか消失し、６．２ｐｐ
ｍ（ｄ。
ラクタム４位） 、２．８ｒｙｐｍ （ｔｎ、ラクタム
３位）に新たなシグナルが生成していることより、３−
（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル
）−Ｉ−クロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２〜オンの生成を確認した。
３位）に新たなシグナルが生成していることより、３−
（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル
）−Ｉ−クロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキ
シ）アゼチジン−２〜オンの生成を確認した。
実施例１
（３Ｒ，４Ｒ＞−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（）リメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソンアナート０．３５ｍ１をト／ｌ
／ エン５ ｍｌに加えた溶液を、アルゴンガス雰囲気
下、−７０℃に冷却しなから、３− （（Ｒ）−ｔｅｒ
Ｌ−ブチルジメチルシリロキシ）ブチ−１−ニルトリメ
チルシリルエーテル１ｇを反応液の内温を一７０℃以下
に保ちながら約１０分間で滴下後、１時間撹拌を行なっ
た。
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（）リメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソンアナート０．３５ｍ１をト／ｌ
／ エン５ ｍｌに加えた溶液を、アルゴンガス雰囲気
下、−７０℃に冷却しなから、３− （（Ｒ）−ｔｅｒ
Ｌ−ブチルジメチルシリロキシ）ブチ−１−ニルトリメ
チルシリルエーテル１ｇを反応液の内温を一７０℃以下
に保ちながら約１０分間で滴下後、１時間撹拌を行なっ
た。
これとは別の反応容器に、硫化水素０．３１ｇ、トリエ
チルアミン １．１ｍｌ ）ルエン１５ｃｃの混合物
を室温下で調製し、アルゴン雰囲気下−２０℃に冷却し
ておいた。先に調製した３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル
−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン
のトルエン溶液を、この還元反応剤中へ温度が上がらな
いように注意深く移送した。
チルアミン １．１ｍｌ ）ルエン１５ｃｃの混合物
を室温下で調製し、アルゴン雰囲気下−２０℃に冷却し
ておいた。先に調製した３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル
−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン
のトルエン溶液を、この還元反応剤中へ温度が上がらな
いように注意深く移送した。
移送終了後、−２０℃で３０分撹拌し、氷水５０ｃｃ中
に注いだ。１５分間撹拌し、トルエン２５ｃｃで洗い込
みながら分液ロートに移した。
に注いだ。１５分間撹拌し、トルエン２５ｃｃで洗い込
みながら分液ロートに移した。
分液後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、トルエン層をガ
スクロマトグラフィーにより定量分析すると目的物であ
る（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−プ
チルジメチルシリロキシ）エチル） −４−（トリメチ
ルシリロキシ）アセチジン−２−オンが０６７ｇ生成し
ていることが分かった。（反応収率６３％）。
スクロマトグラフィーにより定量分析すると目的物であ
る（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−プ
チルジメチルシリロキシ）エチル） −４−（トリメチ
ルシリロキシ）アセチジン−２−オンが０６７ｇ生成し
ていることが分かった。（反応収率６３％）。
このトルエン層をロータリーエバポレーターで濃縮した
のち、ヘキサン３ｃｃを加え、−３０℃で１晩放置する
ことにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ
過、乾燥することにより純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−１−（
（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）
エチル）−４−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−
２−オン０．５ｇをえた。
のち、ヘキサン３ｃｃを加え、−３０℃で１晩放置する
ことにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ
過、乾燥することにより純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−１−（
（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）
エチル）−４−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−
２−オン０．５ｇをえた。
’Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚＳＣＤＣｇ３）δ（ｐｐｍ）
：０．０９（１３Ｈ，ｓ）、０．２０（６Ｈ，ｓ）、
０．９０（９Ｈ，Ｓ）、１．２６（３Ｈ，ｄ）、２．９
６（ＬＨ，ｄｄ） 、５．３３（ＬＨ。
：０．０９（１３Ｈ，ｓ）、０．２０（６Ｈ，ｓ）、
０．９０（９Ｈ，Ｓ）、１．２６（３Ｈ，ｄ）、２．９
６（ＬＨ，ｄｄ） 、５．３３（ＬＨ。
ｄ）、７．２３（ＬＨ）
１、ｐ、 ＋ ９５〜９６℃
［ａ ］ ２ｏ’ ： −９，５° （ｃ−１，０、
ＣＨ（Ｊ３）実施例２ （３Ｒ，４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−［ジメチル（１，
１，２−）リメチルプロピル）シリロキシ］エチル］−
４−（トリメチルシリロキシ）アセチジン−２−オンの
合成実施例１の３−（Ｒ１−ｔｅｒｔ−プチルジメチル
シリロキンブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルお
よびトリエチルアミンの代わりに、３−（（Ｒ１−ジメ
チル（１，１，２−トリメチルプロピル）シリロキシ）
ブチ−１−ニルトリメチルシリルエーテル１ｇおよびジ
ノルマルプロピルアミン ０．８ｇをそれぞれ用い、実
施例１と同様の操作をすることにより、目的物０．８７
ｇを含むトルエン溶液をえた（収率６０％）。えられた
トルエン溶液を、実施例１と同様に濃縮後、ｎ−ヘキサ
ンより再結晶することによって、純粋な（３Ｒ，４Ｒ）
−３−［（Ｒｌｌ−［ジメチル（１，１，２）−トリメ
チルプロピル）シリロキシ］エチル］−４−（１−リメ
チルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０．３ｇをえた
。
ＣＨ（Ｊ３）実施例２ （３Ｒ，４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−［ジメチル（１，
１，２−）リメチルプロピル）シリロキシ］エチル］−
４−（トリメチルシリロキシ）アセチジン−２−オンの
合成実施例１の３−（Ｒ１−ｔｅｒｔ−プチルジメチル
シリロキンブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルお
よびトリエチルアミンの代わりに、３−（（Ｒ１−ジメ
チル（１，１，２−トリメチルプロピル）シリロキシ）
ブチ−１−ニルトリメチルシリルエーテル１ｇおよびジ
ノルマルプロピルアミン ０．８ｇをそれぞれ用い、実
施例１と同様の操作をすることにより、目的物０．８７
ｇを含むトルエン溶液をえた（収率６０％）。えられた
トルエン溶液を、実施例１と同様に濃縮後、ｎ−ヘキサ
ンより再結晶することによって、純粋な（３Ｒ，４Ｒ）
−３−［（Ｒｌｌ−［ジメチル（１，１，２）−トリメ
チルプロピル）シリロキシ］エチル］−４−（１−リメ
チルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０．３ｇをえた
。
”Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚＳＣＤＣＩｘ）δ（ｐｐｍ）
：０．０８（ＢＨ，ｓ）、０．２０（ＯＨ，ｓ）、０
．８３（ＯＨ，ｓ）、１．２０（３Ｈ，ｄ）、１．５０
（ＩＨ，ｍ）、３．ｏ（ｔＨ，ａｄ）、４．１（ＬＨ，
＋ａ） 、５．３５（ＩＨ，ｄ）、６ 、５ （ＩＨ、
ｂｒｏａｄ） 実施例３ （３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ジメチルイソプ
ロピルシリロキシ）エチル）−４−（１−リメチルシリ
ロキン）アセチシン−２−オンの合成 実施例１の３−（Ｒ）−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシリ
ロキシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルの代わ
りに、３−（（Ｒ）−ジメチルイソプロピルシリロキシ
）ブチ−１−ニルトリメチルシリルエーテル０．９５ｇ
を用い、実施例１と同様の操作をすることにより、（３
！？、４１？） −３−（ｆＲ）−Ｌ−（ジメチルイソ
プロピルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリ
ロキシ）アゼチジン−２−オン（０，５ｇ）を含むトル
エン溶液をえた（反応収率４５％）。
：０．０８（ＢＨ，ｓ）、０．２０（ＯＨ，ｓ）、０
．８３（ＯＨ，ｓ）、１．２０（３Ｈ，ｄ）、１．５０
（ＩＨ，ｍ）、３．ｏ（ｔＨ，ａｄ）、４．１（ＬＨ，
＋ａ） 、５．３５（ＩＨ，ｄ）、６ 、５ （ＩＨ、
ｂｒｏａｄ） 実施例３ （３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ジメチルイソプ
ロピルシリロキシ）エチル）−４−（１−リメチルシリ
ロキン）アセチシン−２−オンの合成 実施例１の３−（Ｒ）−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシリ
ロキシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルの代わ
りに、３−（（Ｒ）−ジメチルイソプロピルシリロキシ
）ブチ−１−ニルトリメチルシリルエーテル０．９５ｇ
を用い、実施例１と同様の操作をすることにより、（３
！？、４１？） −３−（ｆＲ）−Ｌ−（ジメチルイソ
プロピルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリ
ロキシ）アゼチジン−２−オン（０，５ｇ）を含むトル
エン溶液をえた（反応収率４５％）。
’Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、 ＣＤ（Ｊ ３）δ（ｐｐ
ｍ）：０．０８（６Ｈ，ｓ）、０．２１（９１（、ｓ）
、１ 、２９ （３Ｈ，ｄ）、１．７５（ＩＨ，ｍ）、
１．９８（６Ｈ，ｄ）、３．０５（ＬＨ。
ｍ）：０．０８（６Ｈ，ｓ）、０．２１（９１（、ｓ）
、１ 、２９ （３Ｈ，ｄ）、１．７５（ＩＨ，ｍ）、
１．９８（６Ｈ，ｄ）、３．０５（ＬＨ。
ｄｄ） 、４．２（１（ＬＨ，ｍ）、５．３５（ＩＩ（
、ｄ）、６．９（ＬＨ，ｂｒｏａｄ） 実施例４ （３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルシメチルンリロキシノエチル）−４−（トリメチルシ
リロキン）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１のトリエチルアミンの代わりに、ンノルマルプ
ロピルアミン０．８ｇを用い、実施例１と同様の操作を
することにより、目的物０．６７ｇを含むトルエン溶液
をえた（収率６３％）。えられたトルエン溶液を、実施
例１と同様に濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶すること
によって、純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−３−（ｆＲ）−１−
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４
−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０．
５ｇをえた。
、ｄ）、６．９（ＬＨ，ｂｒｏａｄ） 実施例４ （３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルシメチルンリロキシノエチル）−４−（トリメチルシ
リロキン）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１のトリエチルアミンの代わりに、ンノルマルプ
ロピルアミン０．８ｇを用い、実施例１と同様の操作を
することにより、目的物０．６７ｇを含むトルエン溶液
をえた（収率６３％）。えられたトルエン溶液を、実施
例１と同様に濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶すること
によって、純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−３−（ｆＲ）−１−
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４
−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０．
５ｇをえた。
実施例５
（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（１−リメチル
シリロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１のトリエチルアミンの代わりに、シクロヘキシ
ルアミン０，７ｇを用い、実施例１と同様の操作をする
ことにより、目的物０．６０ｇを含むトルエン溶液をえ
た（収率５６％）。えられたトルエン溶液を、実施例１
と同様に濃縮後、ｎ−へキサンより再結晶することによ
って、純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−３−（ｆＲ）−１−（ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４−Ｄ
リメチルシリロキシ）アセチジン−２−オン０．４５ｇ
をえた。
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（１−リメチル
シリロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１のトリエチルアミンの代わりに、シクロヘキシ
ルアミン０，７ｇを用い、実施例１と同様の操作をする
ことにより、目的物０．６０ｇを含むトルエン溶液をえ
た（収率５６％）。えられたトルエン溶液を、実施例１
と同様に濃縮後、ｎ−へキサンより再結晶することによ
って、純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−３−（ｆＲ）−１−（ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４−Ｄ
リメチルシリロキシ）アセチジン−２−オン０．４５ｇ
をえた。
実施例６
（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（）リメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１のトリエチルアミンの代わりに、トリブチルア
ミン１．５０ｇを用い、実施例１と同様の操作をするこ
とにより、目的物０．８７ｇを含むトルエン溶液をえた
（収率６３％）。えられたトルエン溶液を、実施例１と
同様に濃縮後、ｎ−へキサンより再結晶することによっ
て、純粋な（３Ｒ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（）
リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０，５ｇを
えた。
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（）リメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１のトリエチルアミンの代わりに、トリブチルア
ミン１．５０ｇを用い、実施例１と同様の操作をするこ
とにより、目的物０．８７ｇを含むトルエン溶液をえた
（収率６３％）。えられたトルエン溶液を、実施例１と
同様に濃縮後、ｎ−へキサンより再結晶することによっ
て、純粋な（３Ｒ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（）
リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０，５ｇを
えた。
実施例７
（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチオ
）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソシアナート０．３５ｍ１をトルエ
ン５ ｍｌに加えた溶液を、アルゴンガス雰囲気下、１
５℃に冷却しながら、（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ−１−フェニルチオ−１−ブテン
１ｇを反応液の内温を１５℃以下に保ちながら約１０分
間で滴下後、１時間撹拌を行なった。
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチオ
）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソシアナート０．３５ｍ１をトルエ
ン５ ｍｌに加えた溶液を、アルゴンガス雰囲気下、１
５℃に冷却しながら、（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ−１−フェニルチオ−１−ブテン
１ｇを反応液の内温を１５℃以下に保ちながら約１０分
間で滴下後、１時間撹拌を行なった。
これとは別の反応容器に、硫化水素０．５２ｇ、トリエ
チルアミン １．２ｍｌ、 ）ルエン２５ｃｃの混合
物を室温下で調製し、アルゴン雰囲気下−２０℃に冷却
していた。先に調製した３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル
−４−（フェニルチオ）アゼチジン−２−オンのトルエ
ン溶液を、この還元反応剤中へ温度が上がらないように
注意深く移送した。
チルアミン １．２ｍｌ、 ）ルエン２５ｃｃの混合
物を室温下で調製し、アルゴン雰囲気下−２０℃に冷却
していた。先に調製した３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル
−４−（フェニルチオ）アゼチジン−２−オンのトルエ
ン溶液を、この還元反応剤中へ温度が上がらないように
注意深く移送した。
移送終了後、−２０℃で３０分間撹拌し、氷水５０ＣＣ
中に注いだ。１５分間撹拌し、トルエン２５ｃｃで洗い
込みながら分液ロートに移した。
中に注いだ。１５分間撹拌し、トルエン２５ｃｃで洗い
込みながら分液ロートに移した。
分液後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、トルエン層を液
体クロマトクラフィーにより定量分析すると目的物であ
る（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチ
オ）アゼチジン−２−オンが０．４６ｇ生成しているこ
とか分かった（反応収率４０％）。
体クロマトクラフィーにより定量分析すると目的物であ
る（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチ
オ）アゼチジン−２−オンが０．４６ｇ生成しているこ
とか分かった（反応収率４０％）。
このトルエン層をロータリーエバポレーターで濃縮した
後、ヘキサン３ｃｃを加え、−３０℃で１晩放置するこ
とにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ過
、乾燥することにより純粋な（３Ｓ、４Ｒ）−３−（ｆ
Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−４−（フェニルチオ）アゼチジン−２−オン０
．３８ｇをえた。
後、ヘキサン３ｃｃを加え、−３０℃で１晩放置するこ
とにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ過
、乾燥することにより純粋な（３Ｓ、４Ｒ）−３−（ｆ
Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−４−（フェニルチオ）アゼチジン−２−オン０
．３８ｇをえた。
ｌＨ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、 ＣＤ（Ｊ ３）δ（ｐｐ
ｍ）：０．０５（６Ｈ，ｓ）、０．８７（９Ｈ，ｓ）、
１．１８（３Ｈ，ｄ）、３．０１ （ＩＨ，ｄｄ）、４
．２１ （ＩＨ，ｄ）、５．０２（ＩＨ）、６．７５（
ＬＨ）、７．３５（５Ｈ，ｍ）１１．１）、：１２Ｂ〜
１２７℃ ［ｆｆ１％。：＋７７．５° （ｃ−０，ＬＬ 、ＣＨ
Ｃｌ３）実施例８ （３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル） −４−（４−クロロ
フェニルチオ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例７の（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わりに
、（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−１−（４−クロロフェニルチオ）−１−ブテン１．
１２ｇを用い、実施例７と同様の操作をすることにより
、（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル） −４−（４−クロ
ロフェニルチオ）アゼチジン−２−オン（０，５ｓｒ
）を含むトルエン溶液をえた（反応収率４０％）。
ｍ）：０．０５（６Ｈ，ｓ）、０．８７（９Ｈ，ｓ）、
１．１８（３Ｈ，ｄ）、３．０１ （ＩＨ，ｄｄ）、４
．２１ （ＩＨ，ｄ）、５．０２（ＩＨ）、６．７５（
ＬＨ）、７．３５（５Ｈ，ｍ）１１．１）、：１２Ｂ〜
１２７℃ ［ｆｆ１％。：＋７７．５° （ｃ−０，ＬＬ 、ＣＨ
Ｃｌ３）実施例８ （３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル） −４−（４−クロロ
フェニルチオ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例７の（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わりに
、（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ−１−（４−クロロフェニルチオ）−１−ブテン１．
１２ｇを用い、実施例７と同様の操作をすることにより
、（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル） −４−（４−クロ
ロフェニルチオ）アゼチジン−２−オン（０，５ｓｒ
）を含むトルエン溶液をえた（反応収率４０％）。
えられたトルエン溶液を、実施例７と同様に濃縮後、ｎ
−へキサンより再結晶することによって、純粋な（３Ｓ
、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリロキシ）エチル） −４−（４−クロロフェニ
ルチオ）アゼチジン−２−オン０．４ｇをえた。
−へキサンより再結晶することによって、純粋な（３Ｓ
、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリロキシ）エチル） −４−（４−クロロフェニ
ルチオ）アゼチジン−２−オン０．４ｇをえた。
実施例９
（３Ｓ、４Ｒ）−３−（［Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシ
フェニルチオ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例７の（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わりに
、（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ１−（４−メトキシフェニルチオ）−１−ブテン１．
ｌＯｇを用い、実施例７と同様の操作をすることにより
、（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキ
シフェニルチオ）アゼチジン−２−オン（０，５ｇ）を
含むトルエン溶液をえた（反応収率４０％）。
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシ
フェニルチオ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例７の（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わりに
、（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ１−（４−メトキシフェニルチオ）−１−ブテン１．
ｌＯｇを用い、実施例７と同様の操作をすることにより
、（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキ
シフェニルチオ）アゼチジン−２−オン（０，５ｇ）を
含むトルエン溶液をえた（反応収率４０％）。
えられたトルエン溶液を、実施例７と同様に濃縮後、ｎ
−へキサンより再結晶することによって、純粋な（３Ｓ
、４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニ
ルチオ）アゼチジン−２−オン０．４ｇをえた。
−へキサンより再結晶することによって、純粋な（３Ｓ
、４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェニ
ルチオ）アゼチジン−２−オン０．４ｇをえた。
実施例１０
（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソシアナート１．１４ｇとトルエン
ｌｏｍｌよりなる溶液を窒素ガス雰囲気下７０℃に冷却
した。この溶液に３− （（Ｒ１−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリロキシ）ブチ−１−ニルトリメチルシリルエ
ーテル２．１８ｇを反応液の内温を７０℃以下に保ちな
がら約５分間で滴下し、１時間撹拌を行なった。
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソシアナート１．１４ｇとトルエン
ｌｏｍｌよりなる溶液を窒素ガス雰囲気下７０℃に冷却
した。この溶液に３− （（Ｒ１−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリロキシ）ブチ−１−ニルトリメチルシリルエ
ーテル２．１８ｇを反応液の内温を７０℃以下に保ちな
がら約５分間で滴下し、１時間撹拌を行なった。
これとは別の反応容器に硫化水素２．２７ｇ、 ２９％
アンモニア水４．２８ｇの溶液を調製し、５℃に冷却し
た。この溶液に先に調製した３−（１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホ
ニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−
オンのトルエン溶液を温度が上がらないように注意深く
加えた。
アンモニア水４．２８ｇの溶液を調製し、５℃に冷却し
た。この溶液に先に調製した３−（１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−１−クロロスルホ
ニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−
オンのトルエン溶液を温度が上がらないように注意深く
加えた。
添加終了後、１０℃で１０分間撹拌し、トルエン１０ｍ
１で洗い込みながら分液ロートに移した。
１で洗い込みながら分液ロートに移した。
分液後、トルエン層をガスクロマトグラフィーにより定
量分析すると目的物である（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ
）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチ
ル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−
オンが９．Ｊ１５ｇ生成していることがわかった（反応
収率４６％）。
量分析すると目的物である（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ
）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチ
ル）−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−
オンが９．Ｊ１５ｇ生成していることがわかった（反応
収率４６％）。
このトルエン層をロータリーエフ１ボレーターで濃縮し
たのち、ヘキサン４４ｍ１を加え、−３０℃で１晩放置
して析出した結晶をグラスフィルターでろ過、真空乾燥
することにより純粋な（３Ｒ１４Ｒ）−３−（［Ｒ）−
１−（ｔｅｒｔ−プチルジメチ）Ｌｔ シ’Ｊ 口キシ
）エチル）−４−（）リメチルシリロキシ）アセチジン
−２−オン８．８６ｇをえた。
たのち、ヘキサン４４ｍ１を加え、−３０℃で１晩放置
して析出した結晶をグラスフィルターでろ過、真空乾燥
することにより純粋な（３Ｒ１４Ｒ）−３−（［Ｒ）−
１−（ｔｅｒｔ−プチルジメチ）Ｌｔ シ’Ｊ 口キシ
）エチル）−４−（）リメチルシリロキシ）アセチジン
−２−オン８．８６ｇをえた。
実施例１１
（３Ｒ，４Ｒ＞−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリエチルア
ミン・キシ）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソシアナート１．１２ｇとトルエン
１０ｍ１よりなる溶液を窒素ガス雰囲気下−７０℃に冷
却した。この溶液に３− （（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシ）ブチ−１−ニルトリメチルシリル
エーテル１．８２ｇを反応液の内温を一７０℃以下に保
ちながら約５分間で滴下し、１時間撹拌を行なった。
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリエチルア
ミン・キシ）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソシアナート１．１２ｇとトルエン
１０ｍ１よりなる溶液を窒素ガス雰囲気下−７０℃に冷
却した。この溶液に３− （（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシ）ブチ−１−ニルトリメチルシリル
エーテル１．８２ｇを反応液の内温を一７０℃以下に保
ちながら約５分間で滴下し、１時間撹拌を行なった。
これとは別の反応容器に硫化水素２．１２ｇ、トリエチ
ルアミン７．３７ｇ 、水２０ｍ１の溶液を調製し５℃
に冷却した。この溶液に先に調製した３−（ｌ−（Ｌｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）ｌ−クロロ
スルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン
−２−オンのトルエン溶液を温度が上がらないように注
意深く加えた。
ルアミン７．３７ｇ 、水２０ｍ１の溶液を調製し５℃
に冷却した。この溶液に先に調製した３−（ｌ−（Ｌｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）ｌ−クロロ
スルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン
−２−オンのトルエン溶液を温度が上がらないように注
意深く加えた。
添加終了後、１０℃で１０分間撹拌し、トルエン１０ｍ
１で洗い込みながら分液ロートに移した。
１で洗い込みながら分液ロートに移した。
分液後、トルエン層をガスクロマトグラフィーにより定
量分析すると目的物である（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ
１−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチ
ル）−４−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−
オンが０．６３ｇ生成していることがわかった（反応収
率３０，１％）。
量分析すると目的物である（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ
１−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチ
ル）−４−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−
オンが０．６３ｇ生成していることがわかった（反応収
率３０，１％）。
このトルエン層をロータリーエバポレーターで濃縮した
のち、ヘキサン４４ｍ１を加え、−３０℃で１晩放置し
て析出した結晶をグラスフィルタでろ過、真空乾燥する
ことにより純粋な（３Ｒ１４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４
−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０．
５６ｇをえた。
のち、ヘキサン４４ｍ１を加え、−３０℃で１晩放置し
て析出した結晶をグラスフィルタでろ過、真空乾燥する
ことにより純粋な（３Ｒ１４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４
−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０．
５６ｇをえた。
実施例１２
（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（）リメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソシアナー） ５．６２ｇとトルエ
ン５０ｍ１よりなる溶液を窒素ガス雰囲気下−７０℃に
冷却した。この溶液に３− （［Ｒ１−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）ブチ−１−ニルトリメチルシリ
ルエーテル９．２０ｇを反応液の内温を一７０℃以下に
保ちながら約１０分間で滴下し、１時間撹拌を行なった
。
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（）リメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソシアナー） ５．６２ｇとトルエ
ン５０ｍ１よりなる溶液を窒素ガス雰囲気下−７０℃に
冷却した。この溶液に３− （［Ｒ１−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）ブチ−１−ニルトリメチルシリ
ルエーテル９．２０ｇを反応液の内温を一７０℃以下に
保ちながら約１０分間で滴下し、１時間撹拌を行なった
。
これとは別の反応容器に硫化水素２．９８ｇ、ジエチル
アミン７．９９ｇ 、水５ ｍｌの溶液を調製し５℃に
冷却した。この溶液に先に調製した３−（１−（ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル） −１−クロ
ロスルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジ
ン−２−オンのトルエン溶液を温度が上がらないように
注意深く加えた。
アミン７．９９ｇ 、水５ ｍｌの溶液を調製し５℃に
冷却した。この溶液に先に調製した３−（１−（ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル） −１−クロ
ロスルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）アゼチジ
ン−２−オンのトルエン溶液を温度が上がらないように
注意深く加えた。
添加終了後、１０℃で１０分間撹拌し、トルエン１０ｍ
１で洗い込みながら分液ロートに移した。
１で洗い込みながら分液ロートに移した。
分液後、トルエン層をガスクロマトグラフィーにより定
量分析すると目的物である（３Ｒ，４Ｒ）−３（［Ｒ］
−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル
）−４−（トリメチルシリロキシ）アセチシン−２−オ
ンが６．５３ｇ生成していることかわかった（反応収率
６１．４％）。
量分析すると目的物である（３Ｒ，４Ｒ）−３（［Ｒ］
−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル
）−４−（トリメチルシリロキシ）アセチシン−２−オ
ンが６．５３ｇ生成していることかわかった（反応収率
６１．４％）。
実施例１３
（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（）リメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソシアナート０．３５ｍ１を、トル
エン５ｍｌに加えた溶液をアルゴンガス雰囲気下、−７
０℃に冷却しなから３− （（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシ）ブチー■−ニルトリメチルシリル
エーテル１ｇを反応液の内温を一７０℃以下に保ちなが
ら約１０分間で滴下後、１時間撹拌を行なった。
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（）リメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソシアナート０．３５ｍ１を、トル
エン５ｍｌに加えた溶液をアルゴンガス雰囲気下、−７
０℃に冷却しなから３− （（Ｒ）−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシ）ブチー■−ニルトリメチルシリル
エーテル１ｇを反応液の内温を一７０℃以下に保ちなが
ら約１０分間で滴下後、１時間撹拌を行なった。
これとは別の反応容器に、２−メルカプトベンゾチアゾ
ール１．３４ｇ、 トリエチルアミン １ 、１ ｍ
ｌおよびトルエン２．５ｃｃの混合物を室温下で調製し
、アルゴン雰囲気下−２０℃に冷却しておいた。
ール１．３４ｇ、 トリエチルアミン １ 、１ ｍ
ｌおよびトルエン２．５ｃｃの混合物を室温下で調製し
、アルゴン雰囲気下−２０℃に冷却しておいた。
先に調製した３−（１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−（ト
リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンのトルエン
溶液をこの還元反応剤中へ温度が上らないように注意深
く移送した。
リロキシ）エチル）−１−クロロスルホニル−４−（ト
リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンのトルエン
溶液をこの還元反応剤中へ温度が上らないように注意深
く移送した。
移送終了後、−２０℃で３０分間撹拌し、氷水５０ｃｃ
中に注いた。析出した沈澱物をろ過により除去し、トル
エン５０ｃｃで洗い込みながら分液ロートに移した。
中に注いた。析出した沈澱物をろ過により除去し、トル
エン５０ｃｃで洗い込みながら分液ロートに移した。
分液後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、トルエン層をガ
スクロマトグラフィーにより定量分析すると目的物であ
る（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−プ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチル
シリロキシ）アセチジン−２−オンが０．６７ｇ生成し
ていることがわかった（反応収率６０％）。
スクロマトグラフィーにより定量分析すると目的物であ
る（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−プ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチル
シリロキシ）アセチジン−２−オンが０．６７ｇ生成し
ていることがわかった（反応収率６０％）。
このトルエン層をロータリーエバポレータで濃縮したの
ち、ヘキサン３ｃｃを加え、−３０℃で１晩放置するこ
とにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ過
、乾燥することにより純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−３−（［
Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−４−（１−リメチルシリロキシ）アゼチジン−
２−オン０．３ｇをえた。
ち、ヘキサン３ｃｃを加え、−３０℃で１晩放置するこ
とにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ過
、乾燥することにより純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−３−（［
Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エ
チル）−４−（１−リメチルシリロキシ）アゼチジン−
２−オン０．３ｇをえた。
ＩＨ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、 ＣＤ（Ｊ り ６ （ｐ
ｐｍ） ：０．０９（６Ｈ，ｓ）、０．２０（ＯＨ，ｓ
）、０．９０（９Ｈ，ｓ）、１．２６（３Ｈ，ｄ）、２
．９６（ｌＨ，ｄｄ） 、５．３３（ＩＨ。
ｐｍ） ：０．０９（６Ｈ，ｓ）、０．２０（ＯＨ，ｓ
）、０．９０（９Ｈ，ｓ）、１．２６（３Ｈ，ｄ）、２
．９６（ｌＨ，ｄｄ） 、５．３３（ＩＨ。
ｄ）、７．２３（ＩＨ）
ａ＋、ｐ、 ： ９５〜９６℃
［α コ ２Ｄ５ ： −９，５° （ｅ−１，０
、ＣＩ（Ｊ３）実施例１４ （３Ｒ，４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−［ジメチル（１，
１，２−トリメチルプロピル）シリロキシ］エチル］−
４−Ｄリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンの合
成実施例１３の３−（Ｒ１−ｔｅｒｔ−プチルジメチル
シリロキシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルお
よびトリエチルアミンの代わりに、！３−（（Ｒ１−ジ
メチル（１，１，２−トリメチルプロピル）シリロキシ
）ブチ−１−ニルトリメチルシリルエーテル１ｇおよび
ジノルマルプロピルアミン０．８ｇをそれぞれ用い、実
施例１３と同様の操作をすることにより、目的物０．６
７ｇを含むトルエン溶液をえた（収率６０％）。えられ
たトルエン溶液を、実施例１３と同様に濃縮後、ｎ−へ
キサンより再結晶することによって、純粋な（３Ｒ，４
Ｒ）−３−［（Ｒ）−１［ジメチル（１，１，２）−１
−リメチルブロピル）シリロキシ］エチル］−４−（１
−リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０．３ｇ
をえた。
、ＣＩ（Ｊ３）実施例１４ （３Ｒ，４Ｒ）−３−［（Ｒ）−１−［ジメチル（１，
１，２−トリメチルプロピル）シリロキシ］エチル］−
４−Ｄリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オンの合
成実施例１３の３−（Ｒ１−ｔｅｒｔ−プチルジメチル
シリロキシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルお
よびトリエチルアミンの代わりに、！３−（（Ｒ１−ジ
メチル（１，１，２−トリメチルプロピル）シリロキシ
）ブチ−１−ニルトリメチルシリルエーテル１ｇおよび
ジノルマルプロピルアミン０．８ｇをそれぞれ用い、実
施例１３と同様の操作をすることにより、目的物０．６
７ｇを含むトルエン溶液をえた（収率６０％）。えられ
たトルエン溶液を、実施例１３と同様に濃縮後、ｎ−へ
キサンより再結晶することによって、純粋な（３Ｒ，４
Ｒ）−３−［（Ｒ）−１［ジメチル（１，１，２）−１
−リメチルブロピル）シリロキシ］エチル］−４−（１
−リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０．３ｇ
をえた。
’Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、 ＣＤＣｌ５）δ（ｐｐｓ
＋） ：０．０８（６Ｈ，ｓ）、０．２０（６Ｈ，ｓ）
、０．８３（６Ｈ，ｓ）、１．２０（３Ｈ，ｄ）、１．
５０（ＬＨ，ｍ）、３．０（ＬＨ，ｄｄ）、４．１（Ｌ
Ｈ，ｍ） 、５．３５（ＬＨ，ｄ）、６．５（ＩＨ。
＋） ：０．０８（６Ｈ，ｓ）、０．２０（６Ｈ，ｓ）
、０．８３（６Ｈ，ｓ）、１．２０（３Ｈ，ｄ）、１．
５０（ＬＨ，ｍ）、３．０（ＬＨ，ｄｄ）、４．１（Ｌ
Ｈ，ｍ） 、５．３５（ＬＨ，ｄ）、６．５（ＩＨ。
ｂｒｏａｄ）
実施例１５
（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ジメチルイソプ
ロピルシリロキシ）エチル）−４−（）リメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１３の３−（Ｒ１−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシ
リロキシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルの代
わりに、３−（［Ｒ）−ジメチルイソプロピルシリロキ
シ）ブチ−１−ニルトリメチルシリルエーテル０．９５
ｇを用い、実施例１３と同様の操作をすることにより、
（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ジメチルイソプ
ロピルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オン（０，５ｇ）を含むトルエ
ン溶液をえた（反応収率４５％）。
ロピルシリロキシ）エチル）−４−（）リメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１３の３−（Ｒ１−ｔｅｒｔ−プチルジメチルシ
リロキシブテ−１−ニルトリメチルシリルエーテルの代
わりに、３−（［Ｒ）−ジメチルイソプロピルシリロキ
シ）ブチ−１−ニルトリメチルシリルエーテル０．９５
ｇを用い、実施例１３と同様の操作をすることにより、
（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ジメチルイソプ
ロピルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシリロ
キシ）アゼチジン−２−オン（０，５ｇ）を含むトルエ
ン溶液をえた（反応収率４５％）。
’Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚＳＣＤＣ１３）δ（ｐｐｍ）
：０．０８（ＢＨ，ｓ）、０．２１（９Ｈ，ｓ）、１
．２９（３Ｈ，ｄ）、１゜７５（ＩＨ，Ｉ）、１．９８
（ＯＨ，ｄ） 、３．０５（ＩＨ。
：０．０８（ＢＨ，ｓ）、０．２１（９Ｈ，ｓ）、１
．２９（３Ｈ，ｄ）、１゜７５（ＩＨ，Ｉ）、１．９８
（ＯＨ，ｄ） 、３．０５（ＩＨ。
ｄｄ） 、４．２０（ＬＨ，ｓ）、５．３５ （ｌＨ，
ｄ）、６．９（ＩＨ，ｂｒｏａｄ） 実施例１６ （３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（）リメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１３のトリエチルアミンの代わりに、ジノルマル
プロピルアミン０．８ｇを用い、実施例１３と同様の操
作をすることにより、目的物０，６７ｇを含むトルエン
溶液をえた（収率６８％）。えられたトルエン溶液を、
実施例１８と同様に濃縮後、ｎ−へキサンより再結晶す
ることによって、純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−３−（［Ｒ）
−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル
）−４−０リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン
０．５ｇをえた。
ｄ）、６．９（ＩＨ，ｂｒｏａｄ） 実施例１６ （３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（）リメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１３のトリエチルアミンの代わりに、ジノルマル
プロピルアミン０．８ｇを用い、実施例１３と同様の操
作をすることにより、目的物０，６７ｇを含むトルエン
溶液をえた（収率６８％）。えられたトルエン溶液を、
実施例１８と同様に濃縮後、ｎ−へキサンより再結晶す
ることによって、純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−３−（［Ｒ）
−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル
）−４−０リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン
０．５ｇをえた。
実施例１７
（３Ｒ，４Ｒ）−３−（ｆＲ）−１−（ｔｅｒｔ−プチ
ルジメチルシＩＪロキシ）エチル）−４−（）リメチル
シリロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例Ｉ３のトリエチルアミンの代わりに、シクロヘキ
シルアミン０．７ｇを用い、実施例１３と同様の操作を
することにより、目的物ｏ、ｅｏｇを含むトルエン溶液
をえた（収率５６％）。えられたトルエン溶液を、実施
例１３と同様に濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶するこ
とによって、純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−
４−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０
．４５ｇをえた。
ルジメチルシＩＪロキシ）エチル）−４−（）リメチル
シリロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例Ｉ３のトリエチルアミンの代わりに、シクロヘキ
シルアミン０．７ｇを用い、実施例１３と同様の操作を
することにより、目的物ｏ、ｅｏｇを含むトルエン溶液
をえた（収率５６％）。えられたトルエン溶液を、実施
例１３と同様に濃縮後、ｎ−ヘキサンより再結晶するこ
とによって、純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−
４−（）リメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０
．４５ｇをえた。
実施例１８
（：（Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチル
シリロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１３のトリエチルアミンの代わりに、トリブチル
アミン１．５０ｇを用い、実施例１３古同様の操作をす
ることにより、目的物０．６７ｇを含むトルエン溶液を
えた（収率６３％）。えられたトルエン溶液を、実施例
１３と同様に濃縮後、ｎ−へキサンより再結晶すること
によって、純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４
−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０．
５ｇをえた。
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチル
シリロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１３のトリエチルアミンの代わりに、トリブチル
アミン１．５０ｇを用い、実施例１３古同様の操作をす
ることにより、目的物０．６７ｇを含むトルエン溶液を
えた（収率６３％）。えられたトルエン溶液を、実施例
１３と同様に濃縮後、ｎ−へキサンより再結晶すること
によって、純粋な（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４
−（トリメチルシリロキシ）アゼチジン−２−オン０．
５ｇをえた。
実施例ｌ９
（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチオ
）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソシアナート０．３５ｍ１を、トル
エン５ ｍｌに加えた溶液をアルゴンガス雰囲気下、１
５℃に冷却しながら（３Ｒ）−３−１ｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ−１−フェニルチオ−１−ブテン１
ｇを反応液の内温を１５℃以下に保ちながら約１０分間
で滴下後、１時間撹拌を行なった。
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（フェニルチオ
）アゼチジン−２−オンの合成 りロロスルホニルイソシアナート０．３５ｍ１を、トル
エン５ ｍｌに加えた溶液をアルゴンガス雰囲気下、１
５℃に冷却しながら（３Ｒ）−３−１ｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ−１−フェニルチオ−１−ブテン１
ｇを反応液の内温を１５℃以下に保ちながら約１０分間
で滴下後、１時間撹拌を行なった。
これとは別の反応容器に、２−メルカプトベンゾチアゾ
ール１．４６ｇ、 ）リエチルアミン １．’２ｍｌ
トルエン２５ｃｃの混合物を室温下で調製し、アルゴン
雰囲気下−２０℃に冷却しておいた。先に調製した３−
＜１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル
）−１−クロロスルホニル−４−（フェニルチオ）アゼ
チジン−２−オンのトルエン溶液を、この還元反応剤中
へ温度が上がらないように注意深く移送した。
ール１．４６ｇ、 ）リエチルアミン １．’２ｍｌ
トルエン２５ｃｃの混合物を室温下で調製し、アルゴン
雰囲気下−２０℃に冷却しておいた。先に調製した３−
＜１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル
）−１−クロロスルホニル−４−（フェニルチオ）アゼ
チジン−２−オンのトルエン溶液を、この還元反応剤中
へ温度が上がらないように注意深く移送した。
移送終了後、−２０℃で３０分間撹拌し、氷水ｓ。
ＣＣ中に注いだ。析出した沈澱物をろ過により除去し、
トルエン５０ｃｃで洗い込みながら分液ロートに移した
。
トルエン５０ｃｃで洗い込みながら分液ロートに移した
。
分液後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、トルエン層を液
体クロマトグラフィーにより定量分析すると目的物であ
る（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル） −４−（フェニル
チオ）アゼチジン−２−オンが０．４６ｇ生成している
ことがわかった（反応収率４ｏ％）。
体クロマトグラフィーにより定量分析すると目的物であ
る（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル） −４−（フェニル
チオ）アゼチジン−２−オンが０．４６ｇ生成している
ことがわかった（反応収率４ｏ％）。
このトルエン層をロータリーエバポレーターて濃縮した
のち、ヘキサン３ｃｃを加え、−３０℃で１晩放置する
ことにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ
過、乾燥することにより純粋な（３Ｓ、４Ｒ）−３−（
（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）
エチル）−４−（フェニルチオ）アゼチジン−２−オン
０．３１１ｇをえた。
のち、ヘキサン３ｃｃを加え、−３０℃で１晩放置する
ことにより析出した結晶をグラスフィルターで手早くろ
過、乾燥することにより純粋な（３Ｓ、４Ｒ）−３−（
（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）
エチル）−４−（フェニルチオ）アゼチジン−２−オン
０．３１１ｇをえた。
ｌ）ｌ−ＮＭＲ（９０Ｍ肚、ＣＤＣｌ５）δ（ｐｐｍ）
：０．０５（ＯＨ，Ｓ）、０．８７（９Ｈ，ｓ）、１
．１８（３１１，ｄ）、３．０１（ＬＨ，ｄｄ） 、４
．２１（ＬＨ，ｄ）、５．０２（ＩＨ）、６．７５（Ｉ
Ｈ）、７．３５（５Ｈ，ｍ）ｓ、ｐ、： １２Ｓ
〜 １２７℃［α コ ２Ｄ。 ： ＋７７．５
＠ （ｃ＝０．１１ 、 ＣＨＣ＃ ３）実
施例２０ （３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（４−クロロフ
ェニルチオ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例Ｉ９の（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わり
に、（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ−１−（４−クロロフェニルチオ）−１−ブテン１
．１２゜を用い、実施例１９と同様の操作をすることに
より、（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（４−ク
ロロフェニルチオ）アゼチジン−２−オン（０，５ｇ）
を含むトルエン溶液をえた。（反応収率４０％）。
：０．０５（ＯＨ，Ｓ）、０．８７（９Ｈ，ｓ）、１
．１８（３１１，ｄ）、３．０１（ＬＨ，ｄｄ） 、４
．２１（ＬＨ，ｄ）、５．０２（ＩＨ）、６．７５（Ｉ
Ｈ）、７．３５（５Ｈ，ｍ）ｓ、ｐ、： １２Ｓ
〜 １２７℃［α コ ２Ｄ。 ： ＋７７．５
＠ （ｃ＝０．１１ 、 ＣＨＣ＃ ３）実
施例２０ （３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（４−クロロフ
ェニルチオ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例Ｉ９の（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わり
に、（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ−１−（４−クロロフェニルチオ）−１−ブテン１
．１２゜を用い、実施例１９と同様の操作をすることに
より、（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（４−ク
ロロフェニルチオ）アゼチジン−２−オン（０，５ｇ）
を含むトルエン溶液をえた。（反応収率４０％）。
えられたトルエン溶液を、実施例１９と同様に濃縮後、
ｎ−へキサンより再結晶することによって、純粋な（３
Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（４−クロロフェニ
ルチオ）アゼチジン−２−オン０．４ｇをえた。
ｎ−へキサンより再結晶することによって、純粋な（３
Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（４−クロロフェニ
ルチオ）アゼチジン−２−オン０．４ｇをえた。
実施例２１
（３Ｓ、４Ｒ）−３−（［Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシ
フェニルチオ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１９の（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わり
に、（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ１−（４−メトキシフェニルチオ）−１−ブテン１
．ｌ。
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシ
フェニルチオ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１９の（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ−１−フェニルチオ−１−ブテンの代わり
に、（３Ｒ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ１−（４−メトキシフェニルチオ）−１−ブテン１
．ｌ。
ｇを用い、実施例１９と同様の操作をすることにより、
（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−プチ
ルジメチルンリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシ
フェニルチオ）アセチジン−２−オン（０，５ｇ）を含
むトルエン溶液をえた（反応収率４０％）。
（３Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ−プチ
ルジメチルンリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシ
フェニルチオ）アセチジン−２−オン（０，５ｇ）を含
むトルエン溶液をえた（反応収率４０％）。
えられたトルエン溶液を、実施例１９と同様に濃縮後、
ｎ−へキサンより再結晶することによって、純粋な（３
Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｉ−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェ
ニルチオ）アゼチジン−２−オン０．４ ｇをえた。
ｎ−へキサンより再結晶することによって、純粋な（３
Ｓ、４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｉ−ブチルジ
メチルシリロキシ）エチル）−４−（４−メトキシフェ
ニルチオ）アゼチジン−２−オン０．４ ｇをえた。
実施例２２
（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１３と同様にして、調製した３−（（Ｒ１−（１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−
１−クロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）
アゼチジン−２−オンのトルエン溶液を、２−メルカプ
トベンゾチアゾール１．３４ｇ、 トリエチルアミン
水２．５ｃｃより調製し、氷冷したこの還元剤水溶液中
によく撹拌しながら移送した。１０分間撹拌したのち、
実施例１３と同様の後処理を行ない、えられたトルエン
層をガスクロマトグラフィーにより定量分析すると目的
物である（３Ｒ４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメ
チルシリロキシ）アゼチジン−２−オンか０５２ｇ生成
していることかわかった（反応収率４５％）。
ルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチルシ
リロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１３と同様にして、調製した３−（（Ｒ１−（１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−
１−クロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）
アゼチジン−２−オンのトルエン溶液を、２−メルカプ
トベンゾチアゾール１．３４ｇ、 トリエチルアミン
水２．５ｃｃより調製し、氷冷したこの還元剤水溶液中
によく撹拌しながら移送した。１０分間撹拌したのち、
実施例１３と同様の後処理を行ない、えられたトルエン
層をガスクロマトグラフィーにより定量分析すると目的
物である（３Ｒ４Ｒ）−３−（（Ｒ１−１−（ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメ
チルシリロキシ）アゼチジン−２−オンか０５２ｇ生成
していることかわかった（反応収率４５％）。
実施例２３
（３Ｒ，４Ｒ）−３−（（Ｒ１−（１−（ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチル
シリロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１３と同様にして、調製した３−（（Ｒ１−（１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−
１＝クロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）
アゼチジン−２−オンのトルエン溶液を、２−メルカプ
トベンゾチアゾール１．３４ｇ、 ２９％アンモニア水
４２８ｇの溶液を調製し、氷冷したこの還元剤水溶液中
によく撹拌しながら移送した。１０分間撹拌したのち、
実施例１３と同様の後処理を行ない、えられたトルエン
層をガスクロマトグラフィーにより定量分析すると目的
物である（３Ｒ２４Ｒ）−３−（ｆＲ）−１−（ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル−４−（トリメ
チルシリロキシ）アゼチジン−２−オンが０．５２ｇ生
成していることがわかった（反応収率４５％）。
チルジメチルシリロキシ）エチル）−４−（トリメチル
シリロキシ）アゼチジン−２−オンの合成 実施例１３と同様にして、調製した３−（（Ｒ１−（１
−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル）−
１＝クロロスルホニル−４−（トリメチルシリロキシ）
アゼチジン−２−オンのトルエン溶液を、２−メルカプ
トベンゾチアゾール１．３４ｇ、 ２９％アンモニア水
４２８ｇの溶液を調製し、氷冷したこの還元剤水溶液中
によく撹拌しながら移送した。１０分間撹拌したのち、
実施例１３と同様の後処理を行ない、えられたトルエン
層をガスクロマトグラフィーにより定量分析すると目的
物である（３Ｒ２４Ｒ）−３−（ｆＲ）−１−（ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリロキシ）エチル−４−（トリメ
チルシリロキシ）アゼチジン−２−オンが０．５２ｇ生
成していることがわかった（反応収率４５％）。
［発明の効果］
Ｎ−ハロスルホニル−β−ラクタムのハロスルホニル基
を脱離させる反応において、従来技術より収率よく、か
つ副生物の処理および除去に困難を伴わないＮ−無保護
のβ−ラクタム化合物の製造法を特徴する
を脱離させる反応において、従来技術より収率よく、か
つ副生物の処理および除去に困難を伴わないＮ−無保護
のβ−ラクタム化合物の製造法を特徴する
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基を示し、Ａは酸素原子
またはイオウ原子であり、Ａが酸素原子のばあい、Ｒ＾
２は▲数式、化学式、表等があります▼（Ｒ＾３、Ｒ＾
４およびＲ＾５は炭素数１〜６の低級アルキル基、フェ
ニル基またはアラルキル基を示す）を示し、Ａがイオウ
原子のばあい、Ｒ＾２はトリフェニルメチル基、ｔ−ブ
チル基、フェニル基、低級アルキルフェニル基、低級ア
ルコキシフェニル基またはハロゲン置換フェニル基を示
し、Ｘはハロゲンを示す）で表わされるＮ−ハロスルホ
ニル−β−ラクタム化合物を有機溶媒または水溶媒中に
おいて、硫化水素もしくはメルカプトベンゾチアゾール
と塩基により還元することを特徴とする一般式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＾１、ＡおよびＲ＾２は前記と同じ）で表わ
されるβ−ラクタム化合物の製造法。 ２ 硫化水素と塩基により還元する請求項１記載の製造
法。 ３ メルカプトベンゾチアゾールと塩基により還元する
請求項１記載の製造法。 ４ Ｒ＾１が ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＾６、Ｒ＾７およびＲ＾８は炭素数１〜６の
低級アルキル基、フェニル基またはアラルキル基を表わ
す）である請求項１、２または３記載の製造法。 ５ 塩基が一級アミン、二級アミン、三級アミンまたは
アンモニアである請求項１、２または３記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2233776A JP2604897B2 (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | β―ラクタム化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2233776A JP2604897B2 (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | β―ラクタム化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04112867A true JPH04112867A (ja) | 1992-04-14 |
| JP2604897B2 JP2604897B2 (ja) | 1997-04-30 |
Family
ID=16960394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2233776A Expired - Fee Related JP2604897B2 (ja) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | β―ラクタム化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2604897B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008108145A1 (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-12 | Kaneka Corporation | β－ラクタム化合物の製造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6118791A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-27 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 |
| JPS6284057A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-17 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造法 |
| JPS62195359A (ja) * | 1986-02-22 | 1987-08-28 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造方法 |
| JPS6467A (en) * | 1987-02-20 | 1989-01-05 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Production of 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetidin-2-one derivative |
-
1990
- 1990-09-03 JP JP2233776A patent/JP2604897B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6118791A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-27 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 新規β−ラクタム化合物及びその製造法 |
| JPS6284057A (ja) * | 1985-10-07 | 1987-04-17 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造法 |
| JPS62195359A (ja) * | 1986-02-22 | 1987-08-28 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造方法 |
| JPS6467A (en) * | 1987-02-20 | 1989-01-05 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Production of 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetidin-2-one derivative |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008108145A1 (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-12 | Kaneka Corporation | β－ラクタム化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2604897B2 (ja) | 1997-04-30 |
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