JPS6284057A - ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造法 - Google Patents
４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造法Info
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- JPS6284057A JPS6284057A JP60223388A JP22338885A JPS6284057A JP S6284057 A JPS6284057 A JP S6284057A JP 60223388 A JP60223388 A JP 60223388A JP 22338885 A JP22338885 A JP 22338885A JP S6284057 A JPS6284057 A JP S6284057A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼ
チジン−２−オン誘導体の新規な製造法に関する。
チジン−２−オン誘導体の新規な製造法に関する。
近年、チェナマイシンが発見されて以降、種々のカルバ
ペネムが発見、合成され、そのすぐれた抗菌力、β−ラ
クタマーゼ阻害作用などから開発が進められている。ま
た、その骨格類縁体であるペネムも同等の抗九力を有し
、経口投与も可能であるなどの点から研究が行なわれて
いる。これらの活性発現のためには、その６−位に１−
ヒドロキシエチル基を有することが重要である。また、
これらの骨格を合成する重要な方法として、β−ラクタ
ム化合物の４−位と１位を閉環してカルバペネム、ペネ
ムへ誘導する方法が広く行なわれている。
ペネムが発見、合成され、そのすぐれた抗菌力、β−ラ
クタマーゼ阻害作用などから開発が進められている。ま
た、その骨格類縁体であるペネムも同等の抗九力を有し
、経口投与も可能であるなどの点から研究が行なわれて
いる。これらの活性発現のためには、その６−位に１−
ヒドロキシエチル基を有することが重要である。また、
これらの骨格を合成する重要な方法として、β−ラクタ
ム化合物の４−位と１位を閉環してカルバペネム、ペネ
ムへ誘導する方法が広く行なわれている。
そこで、８−位に１−ヒドロキシエチル又は、その水酸
基を保護したものを有し、４−位に容易に炭素、硫黄化
合物で置換される脱藩基、特にアセトキシ基を有する４
−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−
オン誘導体は、カルバペネム、ペネム合成反応の重要有
用中間体として知られているのである。
基を保護したものを有し、４−位に容易に炭素、硫黄化
合物で置換される脱藩基、特にアセトキシ基を有する４
−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−
オン誘導体は、カルバペネム、ペネム合成反応の重要有
用中間体として知られているのである。
（従来の技術と問題点）
従来、４−アセトキシ−８−ヒドロキシエチルアゼチジ
ン−２−オン誘導体の合成法としては、６−アミノペニ
シラン酸から合成する方法〔ヨシダ等、ケミカル・アン
ド・ファーマシュテイカル・ブｌｚチン（Ｏｈｅｍ、
ｐｈａｒｍ、 Ｂｕｌｌ、） 、 ２９巻。
ン−２−オン誘導体の合成法としては、６−アミノペニ
シラン酸から合成する方法〔ヨシダ等、ケミカル・アン
ド・ファーマシュテイカル・ブｌｚチン（Ｏｈｅｍ、
ｐｈａｒｍ、 Ｂｕｌｌ、） 、 ２９巻。
２８９９ページ（１９８１年）〕、スレオニンから合成
する方法〔シオザキ等、テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ） 、 ８９巻、２８９９ページ（１９８８
年〕〕、アスパラギン酸から合成する方法〔レイダー等
、テトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔ、） 、 ２３ ％ 、 ２８９３ぺ一ジ（
１９８２年）〕などが知られている。しかし、これらの
方法は、いずれもβ−ラクタム環の４位１こアセトキシ
基を導入するために酢酸水銀や四酢酸鉛などの工業的に
は好ましくない重金属化合物を使用するという欠点を有
していた。そこで本発明者は、これらの欠点を解決すべ
く鋭意研究を続ケタ結果、シリルエノールエーテル類ヲ
クロロスルホニルイソシアネートの反応によって、８−
位に水酸基の保護された１−ヒドロキシエチル基、４位
にシリルエーテルを有する新規なβ−ラクタム化合物の
製法を見い出しく昭和５９年特許願第１８９７９７号）
、さらにこのβ−ラクタム化合物の４位をアセトキシ基
に変換する簡便な方法を見い出し、本発明を完成した。
する方法〔シオザキ等、テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ） 、 ８９巻、２８９９ページ（１９８８
年〕〕、アスパラギン酸から合成する方法〔レイダー等
、テトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔ、） 、 ２３ ％ 、 ２８９３ぺ一ジ（
１９８２年）〕などが知られている。しかし、これらの
方法は、いずれもβ−ラクタム環の４位１こアセトキシ
基を導入するために酢酸水銀や四酢酸鉛などの工業的に
は好ましくない重金属化合物を使用するという欠点を有
していた。そこで本発明者は、これらの欠点を解決すべ
く鋭意研究を続ケタ結果、シリルエノールエーテル類ヲ
クロロスルホニルイソシアネートの反応によって、８−
位に水酸基の保護された１−ヒドロキシエチル基、４位
にシリルエーテルを有する新規なβ−ラクタム化合物の
製法を見い出しく昭和５９年特許願第１８９７９７号）
、さらにこのβ−ラクタム化合物の４位をアセトキシ基
に変換する簡便な方法を見い出し、本発明を完成した。
以下に、その詳細を説明する。
（問題点を解決するための手段および作用効果）（式中
、Ｒ１は水酸基の保護基、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はｃｌ−ｃ
４の低級アルキル基、フェニル基またはアラルキル基、
Ｒ５はＮの保護基を示す）で表わされるβ−ラクタム化
合物に硝酸アセチルを作用させ、次いで、必要に応じて
、Ｎの保護基を脱離させることを特徴とする、一般式（
ｎ）（ｉ）Ｒ１ （式中、Ｒ１は前記に同じ、Ｒ６は水素又はＮの保護基
を示す） で表わされる４−アセトキシ−８−ヒドロキシエチルア
ゼチジン−２−オン誘導体の製造法に関する。
、Ｒ１は水酸基の保護基、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はｃｌ−ｃ
４の低級アルキル基、フェニル基またはアラルキル基、
Ｒ５はＮの保護基を示す）で表わされるβ−ラクタム化
合物に硝酸アセチルを作用させ、次いで、必要に応じて
、Ｎの保護基を脱離させることを特徴とする、一般式（
ｎ）（ｉ）Ｒ１ （式中、Ｒ１は前記に同じ、Ｒ６は水素又はＮの保護基
を示す） で表わされる４−アセトキシ−８−ヒドロキシエチルア
ゼチジン−２−オン誘導体の製造法に関する。
一般式（Ｉ）で表わされるβ−ラクタム化合物は、本発
明者等が既に出願した（昭和５９年特許願第１８９７９
７号）下記の反応式に示すような簡便な方法で合成でき
るβ−ラクタム化合物（Ｉ’）（Ｒ１゜Ｒ１！、Ｒ１，
Ｒ４は前記に同じ）に、Ｎの保護基Ｒ５を導入すること
により得られる。
明者等が既に出願した（昭和５９年特許願第１８９７９
７号）下記の反応式に示すような簡便な方法で合成でき
るβ−ラクタム化合物（Ｉ’）（Ｒ１゜Ｒ１！、Ｒ１，
Ｒ４は前記に同じ）に、Ｎの保護基Ｒ５を導入すること
により得られる。
（１′）
これは、次に硝酸アセチルを作用する際に、Ｎを保護し
ておいた方が一般的に収率が高いために行なう操作であ
る。この時、保護基の導入試剤としては、Ｈ，Ｒ５−ｘ
（ｘはハロゲン）を用いることができる。Ｒ６・−Ｘと
しては、トリメチルシリルクロリド、ｔ−ブチルジメチ
ルシリルクロリド、イソプロピルジメチルシリルクロリ
ド、インブチルジメチルシリルクロリド、トリイソプロ
ピルシリルクロなどのオキザリルクロ′リドなど、一般
的にβ−ラクタムのＮの保護試薬として用いられるもの
が使用できるが、好ましくはトリメチルシリルクロリド
、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリドがよい。
ておいた方が一般的に収率が高いために行なう操作であ
る。この時、保護基の導入試剤としては、Ｈ，Ｒ５−ｘ
（ｘはハロゲン）を用いることができる。Ｒ６・−Ｘと
しては、トリメチルシリルクロリド、ｔ−ブチルジメチ
ルシリルクロリド、イソプロピルジメチルシリルクロリ
ド、インブチルジメチルシリルクロリド、トリイソプロ
ピルシリルクロなどのオキザリルクロ′リドなど、一般
的にβ−ラクタムのＮの保護試薬として用いられるもの
が使用できるが、好ましくはトリメチルシリルクロリド
、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリドがよい。
反応としては、化合物（Ｒ５と１５−Ｘをトリエチルア
ミン、イミダゾールなどの塩基の存在下に、ＤＭＦ 、
ジクロロメタン、ＴＨＦなどの不活性な有機溶媒中で混
合し、室温〜溶媒の沸点で数時間〜１日程度の処理で終
了する。溶媒を留去、抽出。
ミン、イミダゾールなどの塩基の存在下に、ＤＭＦ 、
ジクロロメタン、ＴＨＦなどの不活性な有機溶媒中で混
合し、室温〜溶媒の沸点で数時間〜１日程度の処理で終
了する。溶媒を留去、抽出。
水洗など通常の操作で、目的のβ−ラクタム化合物（Ｉ
）が得られる。
）が得られる。
水酸基の保護基Ｒ１としては、一般式（ＩＩＩ）ｊ−
−ｓ ｉ−Ｒ９（Ｉｎ）
（式中、Ｈ７、ＩＬ８ 、 Ｒ９はＣ１〜Ｃ４の低級ア
ルキル基を示す）で表わされるトリアルキルシリル基、
例えばｔ−ブチルジメチルシリル基、インプロピルジメ
チルシリル基、トリイソプロピルシリＶ基、インブチル
ジメチルシリル基などや、その他ｔ−ブチル基、ベンジ
ル基、トリクロロエトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシ
カルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル基などが挙げられるが、好
ましくは反応中に、より安定で、酸処理などで選択的に
脱保護されるし一ブチルジメチルシリル基やイソプロピ
ルジメチルシリル基がよい。
ルキル基を示す）で表わされるトリアルキルシリル基、
例えばｔ−ブチルジメチルシリル基、インプロピルジメ
チルシリル基、トリイソプロピルシリＶ基、インブチル
ジメチルシリル基などや、その他ｔ−ブチル基、ベンジ
ル基、トリクロロエトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシ
カルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル基などが挙げられるが、好
ましくは反応中に、より安定で、酸処理などで選択的に
脱保護されるし一ブチルジメチルシリル基やイソプロピ
ルジメチルシリル基がよい。
さらに、β−ラクタム化合物の４位のシリルエーテルの
置換基Ｒ２＊ ＩＬ８＋ Ｒ’ は、メチル、エチル、
インプロピル、イソブチル、ｔ−ブチＭなどのｃｌ −
ｃ４ の低級γルキル基、フェニル基、又はベンジル
、ｐ−ニトロベンジル基などのアラルキル基から、同−
又は異なった基を選択できるが、好ましくはＲ２＝ Ｒ
８＝ Ｒ４＝メチルがよい。
置換基Ｒ２＊ ＩＬ８＋ Ｒ’ は、メチル、エチル、
インプロピル、イソブチル、ｔ−ブチＭなどのｃｌ −
ｃ４ の低級γルキル基、フェニル基、又はベンジル
、ｐ−ニトロベンジル基などのアラルキル基から、同−
又は異なった基を選択できるが、好ましくはＲ２＝ Ｒ
８＝ Ｒ４＝メチルがよい。
上記のように調製した一般式（Ｉ）
（式中、Ｂｌ 、 Ｒ２、Ｒ８，Ｒ４及び凡５は前記に
同じ）で表わされる化合物に硝酸アセチルを作用させる
ことにより、４位のシリルエーテルをアセトキシ基に変
換することができ、次いで、必要に応じて、Ｎの保護基
を脱離させることによυ、一般式（ＩＩ） （式中、Ｒ１は前記に同じ、Ｒ６は水素又はＮの保護基
を示す）で表わされる化合物が得られる。硝酸アセチル
は、公知の方法に従い、無水酢酸の中へ発煙硝酸又は濃
硝酸を冷却下、好ましくは１５℃以下で、ゆっくり滴下
することによシ得られる。
同じ）で表わされる化合物に硝酸アセチルを作用させる
ことにより、４位のシリルエーテルをアセトキシ基に変
換することができ、次いで、必要に応じて、Ｎの保護基
を脱離させることによυ、一般式（ＩＩ） （式中、Ｒ１は前記に同じ、Ｒ６は水素又はＮの保護基
を示す）で表わされる化合物が得られる。硝酸アセチル
は、公知の方法に従い、無水酢酸の中へ発煙硝酸又は濃
硝酸を冷却下、好ましくは１５℃以下で、ゆっくり滴下
することによシ得られる。
この際、ハロゲン系炭化水素のような不活性な溶媒で希
釈して行なうことができる。なお、反応の触媒として硝
酸を滴下する前に、濃硫酸を入れておくのが望ましい。
釈して行なうことができる。なお、反応の触媒として硝
酸を滴下する前に、濃硫酸を入れておくのが望ましい。
このようにして得られた硝酸アセチルの溶液と化合物（
Ｉ）を反応させる外管こは、反応温度は一り０℃〜室温
、好ましくは一４０℃〜０℃で行ない、化合物（Ｉ）に
対して硝酸アセチルを１倍〜２０倍モル、無水酢酸は１
〜１００倍モル、濃硫酸は０．０１〜ｌＯ倍モル使用す
ればよい。溶媒はハロゲン系炭化水素などの不活性なも
のを用いることができるが、通常は硝酸アセチルを調製
したのと同様のものを用いればよい。反応操作としては
、冷却した硝酸アセチルの溶液に、化合物（Ｉ）の溶液
をゆつくシ滴下し、化合物（Ｉ）が消失した時点で、反
応液を通常の有機溶媒と水で処理すればよい。この際、
反応液のＩ）Ｈが強酸性にならないようにアルカリ性水
や緩衝液を用い、低温で処理するのが望ましい。その後
、溶媒を留去すると、４位にアセトキシ基を有するβ−
ラクタム化合物が得られるが、Ｎの保護基Ｒ５の種類、
反応、処理条件によっては、Ｒ５が脱離する場合、ある
いはＲ６がついた化合物とＲ５が脱離した化合物の混合
物が得られる場合、またはＲ６がついたままの化合物が
得られる場合がある。これらに、もしＮの保護基を脱離
させる必要がある場合は、常法によシ脱離操作を行なう
ことによシ、一般式（式中ｓ Ｒ’ ｓ Ｒ’は前記に
同じ）で表される化合物が得られる。あるいは、また、
これらをカルバペネム、ペネム化合物へと誘導する際に
、必要に応じて、脱保護操作を行ない、任意の保護基を
導入することも公知の方法によシ可能である。
Ｉ）を反応させる外管こは、反応温度は一り０℃〜室温
、好ましくは一４０℃〜０℃で行ない、化合物（Ｉ）に
対して硝酸アセチルを１倍〜２０倍モル、無水酢酸は１
〜１００倍モル、濃硫酸は０．０１〜ｌＯ倍モル使用す
ればよい。溶媒はハロゲン系炭化水素などの不活性なも
のを用いることができるが、通常は硝酸アセチルを調製
したのと同様のものを用いればよい。反応操作としては
、冷却した硝酸アセチルの溶液に、化合物（Ｉ）の溶液
をゆつくシ滴下し、化合物（Ｉ）が消失した時点で、反
応液を通常の有機溶媒と水で処理すればよい。この際、
反応液のＩ）Ｈが強酸性にならないようにアルカリ性水
や緩衝液を用い、低温で処理するのが望ましい。その後
、溶媒を留去すると、４位にアセトキシ基を有するβ−
ラクタム化合物が得られるが、Ｎの保護基Ｒ５の種類、
反応、処理条件によっては、Ｒ５が脱離する場合、ある
いはＲ６がついた化合物とＲ５が脱離した化合物の混合
物が得られる場合、またはＲ６がついたままの化合物が
得られる場合がある。これらに、もしＮの保護基を脱離
させる必要がある場合は、常法によシ脱離操作を行なう
ことによシ、一般式（式中ｓ Ｒ’ ｓ Ｒ’は前記に
同じ）で表される化合物が得られる。あるいは、また、
これらをカルバペネム、ペネム化合物へと誘導する際に
、必要に応じて、脱保護操作を行ない、任意の保護基を
導入することも公知の方法によシ可能である。
Ｎの保護基の脱離については、３−位のヒドロキシエチ
ル基の保護基几１を脱離することなく、Ｎの保護基だけ
を脱離させるほうが望ましいことが多い。この場合には
、具体的に、Ｎの保護基がトリアルキルシリル基、例え
ばｔ−ブチルジメチルシリＶ基の際にはテトラブチルア
ンモニウムクロリドやテトラブチルアンモニウムクロリ
ドやテトラメチルアンモニウムクロリドとフッ化カリウ
ムの組み合せ試薬をＴＨＦやジクロロメタン等を溶媒と
し、酢酸存在下で反応させればよいし、さらに不安定な
トリメチルシリル基の場合には、餘媒量のｐ−）ルエン
スルホン酸ピリジニウムをＴＨＦ−水溶媒中で作用させ
るなどの公知の方法を用いればよい。
ル基の保護基几１を脱離することなく、Ｎの保護基だけ
を脱離させるほうが望ましいことが多い。この場合には
、具体的に、Ｎの保護基がトリアルキルシリル基、例え
ばｔ−ブチルジメチルシリＶ基の際にはテトラブチルア
ンモニウムクロリドやテトラブチルアンモニウムクロリ
ドやテトラメチルアンモニウムクロリドとフッ化カリウ
ムの組み合せ試薬をＴＨＦやジクロロメタン等を溶媒と
し、酢酸存在下で反応させればよいし、さらに不安定な
トリメチルシリル基の場合には、餘媒量のｐ−）ルエン
スルホン酸ピリジニウムをＴＨＦ−水溶媒中で作用させ
るなどの公知の方法を用いればよい。
このようにして得られた化合物（ＩＩ）は、ｎ−へキサ
ンや石油エーテルなどからの結晶化や、シリカゲルクロ
マトグラフィーによ〕精製することができる。
ンや石油エーテルなどからの結晶化や、シリカゲルクロ
マトグラフィーによ〕精製することができる。
（実施例）
次に実施例をあげて本発明を更に詳細に説明するが、本
発明は、これらの実施例のみで限定されるものではない
。
発明は、これらの実施例のみで限定されるものではない
。
実施例１
（８１，４Ｂ）−４−アセトキシ−８−Ｃ（Ｒ）−ｌ
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−アゼ
チジン−２−オンの合成 （８ｍ、４ｍ）−ａ−Ｃ（ｎ）−１−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシエチル〕−４−トリメチルシリロキ
シアゼチジン−２−オン ｉ、ｏｏ、ｐをＤＭＦ１０ｍ
ｌ！に溶解し、これにトリエチルアミン１．０５ＪＩと
トリメチルシリルクロリド０．８２．ｐを加え、室温で
６時間撹拌後１．ヘキサン６０ｍｊで希釈し、水冷しな
がら６％ＮａＨＯＯｓ水６０ｍ１！を水元０゜水層を分
離後、有機層を１０％クエン酸−６％１ａＨｃＯ８混合
液（１）Ｈ４）６０ｍｌ！。
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−アゼ
チジン−２−オンの合成 （８ｍ、４ｍ）−ａ−Ｃ（ｎ）−１−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリロキシエチル〕−４−トリメチルシリロキ
シアゼチジン−２−オン ｉ、ｏｏ、ｐをＤＭＦ１０ｍ
ｌ！に溶解し、これにトリエチルアミン１．０５ＪＩと
トリメチルシリルクロリド０．８２．ｐを加え、室温で
６時間撹拌後１．ヘキサン６０ｍｊで希釈し、水冷しな
がら６％ＮａＨＯＯｓ水６０ｍ１！を水元０゜水層を分
離後、有機層を１０％クエン酸−６％１ａＨｃＯ８混合
液（１）Ｈ４）６０ｍｌ！。
飽和食塩水６０ｍ１！Ｘ２で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を留去することによシ淡黄色の液体
として、（８Ｒ、４Ｂ ） −８−Ｃ（Ｒ） −１−ｔ
ｅｒｔ −ブチルジメチルシリロキシエチル〕−４−ト
リメチルシリロキシ−１−トリメチルシリルアゼチジン
−２−オンを１．０５！ｉ得た。
ウムで乾燥後、溶媒を留去することによシ淡黄色の液体
として、（８Ｒ、４Ｂ ） −８−Ｃ（Ｒ） −１−ｔ
ｅｒｔ −ブチルジメチルシリロキシエチル〕−４−ト
リメチルシリロキシ−１−トリメチルシリルアゼチジン
−２−オンを１．０５！ｉ得た。
無水酢酸５．８９．ｐを１，２−ジクｏｏｚタフ５ｒｎ
ｌ！に溶解し、これを水冷した中へ、濃硫酸０． ｌ
ｍＩ！を加え、さらに液温を１０〜１５℃に保ちながら
発煙硝酸（比重１．５２ ） ０．８ｍｌ！を滴下した
。滴下終了後、１時間、０〜１０’Ｃに保った後、これ
を−４０℃に冷却（ドライアイス−アセトン浴）した。
ｌ！に溶解し、これを水冷した中へ、濃硫酸０． ｌ
ｍＩ！を加え、さらに液温を１０〜１５℃に保ちながら
発煙硝酸（比重１．５２ ） ０．８ｍｌ！を滴下した
。滴下終了後、１時間、０〜１０’Ｃに保った後、これ
を−４０℃に冷却（ドライアイス−アセトン浴）した。
これに、（８Ｒ，４Ｒ）−８−（（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−４−トリメチル
シリロキシ−１−トリメチルシリルアゼチジン−２−オ
ン １．０５，９を１．２−ジクロロエタン２１ｍ／に
溶解した液を、１時間かけて滴下した。そのまま、−４
０’Ｃで８時間反応させた後、反応液を、ヘキサン８５
０ｍ／、酢酸エチル１５０ｍ１！、ｐＨ７のリン酸＃衝
液（０，５Ｍ）５００ｍｌ！の混合液中へ、一度に注ぎ
込んだ。水層を分液した後、有機層を、５％ＮａＨＯＯ
ｇ水５００ｍ１！、１０％クエン酸−５％ＮａＨＯＯａ
混合液（ｐＨ４）５００ｍ７．飽和食塩水２００ｍ１！
で順次洗浄し、鉢水硫酔マグネシウムで乾燥後、溶媒を
留去して淡黄色の油状物０．６２．９を得た。これは（
８几、４几）−４−アセトキシ−８−ＣＣＴＬ） −１
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチ／Ｉ／］−
１−トリメチルシリルアゼチジン−２−オン（！： （
３Ｂ。
−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−４−トリメチル
シリロキシ−１−トリメチルシリルアゼチジン−２−オ
ン １．０５，９を１．２−ジクロロエタン２１ｍ／に
溶解した液を、１時間かけて滴下した。そのまま、−４
０’Ｃで８時間反応させた後、反応液を、ヘキサン８５
０ｍ／、酢酸エチル１５０ｍ１！、ｐＨ７のリン酸＃衝
液（０，５Ｍ）５００ｍｌ！の混合液中へ、一度に注ぎ
込んだ。水層を分液した後、有機層を、５％ＮａＨＯＯ
ｇ水５００ｍ１！、１０％クエン酸−５％ＮａＨＯＯａ
混合液（ｐＨ４）５００ｍ７．飽和食塩水２００ｍ１！
で順次洗浄し、鉢水硫酔マグネシウムで乾燥後、溶媒を
留去して淡黄色の油状物０．６２．９を得た。これは（
８几、４几）−４−アセトキシ−８−ＣＣＴＬ） −１
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチ／Ｉ／］−
１−トリメチルシリルアゼチジン−２−オン（！： （
３Ｂ。
４Ｂ）−４−アセトキシ−ａ −Ｃ（Ｒ）−ｔ −ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−アゼチジン
−２−オンの混合物（モル比１：２）であったノテ、Ｔ
ＨＦ８０ｍｌ！と水１５ｍ１！の混合液に溶かし、ｐ−
）ルエンスルホン酸ピリジニウム８Ｇｍｙを加え、８０
分間撹拌した。反応液にヘキサｙｓｓｏｍＩ！と酢酸エ
チ＃１５ＱｍＩ！を加え、水５００ ｍｌ！、５％Ｎａ
ＨＣＯ３５００ｍｊ’ 飽和食塩水２００ ｍ／で順
に洗浄後、有機層を留去すると、淡黄色の固体として（
８Ｂ、４Ｒ）−４−アセトキシ−８−Ｃ（Ｒ）−１−ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−アゼチジ
ン−２−オンが０．８８．９得られた。これをｎ−へキ
サンよシの再結晶をすることによシ目的のβ−ラクタム
（８Ｒ９４１Ｌ）−４−アセトキシ−８−［（Ｒ）−
ｉ −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−
アゼチジン−２−オンを０．２７．９ｍ色針状晶として
得た。
ｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−アゼチジン
−２−オンの混合物（モル比１：２）であったノテ、Ｔ
ＨＦ８０ｍｌ！と水１５ｍ１！の混合液に溶かし、ｐ−
）ルエンスルホン酸ピリジニウム８Ｇｍｙを加え、８０
分間撹拌した。反応液にヘキサｙｓｓｏｍＩ！と酢酸エ
チ＃１５ＱｍＩ！を加え、水５００ ｍｌ！、５％Ｎａ
ＨＣＯ３５００ｍｊ’ 飽和食塩水２００ ｍ／で順
に洗浄後、有機層を留去すると、淡黄色の固体として（
８Ｂ、４Ｒ）−４−アセトキシ−８−Ｃ（Ｒ）−１−ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−アゼチジ
ン−２−オンが０．８８．９得られた。これをｎ−へキ
サンよシの再結晶をすることによシ目的のβ−ラクタム
（８Ｒ９４１Ｌ）−４−アセトキシ−８−［（Ｒ）−
ｉ −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−
アゼチジン−２−オンを０．２７．９ｍ色針状晶として
得た。
〔α） ＝＋５０°（Ｃ＝ ０．５ 、 ＯＨ（３１
ｇ） 。
ｇ） 。
ｍ￥）、１０７〜１０８℃
ＩＨ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＣＤＣ１ｇ）、δ（ｐｐｍ
）：０．０８（６Ｈ，８）、０．８４（９Ｈ，８）。
）：０．０８（６Ｈ，８）、０．８４（９Ｈ，８）。
１．２０（８Ｈ，ｄ）、２．０１（８Ｈ，ｓ）。
８．０４（ＩＨ，ｄａ）、４．１２（ＩＥｌ、ｍ）。
５．７６（ＩＨ，ｄ）、６．７８（ＮＥＩ）実施例２
（８Ｒ，４Ｂ）−４−アセトキシ−８−（（Ｒ）−１−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−アゼチ
ジン−２−オンの合成 無水酢酸６．８９ＪＩを１，２−ジクｏｏｚタフ５ｒｒ
ＩＪ！に溶解し、これを水冷した中へ、濃硫酸ｏ−ｉ
ｍＩ！を加え、ざらに液温を１０〜１５℃に保ちながら
発煙硝酸（比重１．５２ ） ０．８ ｍｌを滴下した
。滴下終了後、８０分間そのまま撹拌を続け、ついで反
応液を水冷した。この中に、実施例１と同様にして合成
した（８Ｂ、４Ｂ）−８−［（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシエチル〕−４−トリメチルシリ
ロキシ−１−トリメチルシリルアゼチジン−２−オン０
．９８．Ｆを１．２−ジクロロエタン２１ｍＪに溶解し
た液を約１時間かけて滴下した。３時間撹拌を続けた後
、反応液を、ヘキサン８５０ ｍＡ’ ｓ酢酸エチ／に
１５０ｍ１！、ｐＥＩ ７のリン酸緩衝液（０，５Ｍ
）５００ｍＪの混合液中へ、一度に注ぎ入れた。水石を
分離した後、有機層を５％ＮａＨＣＯ３水５００ｍＪ、
１０％クエン酸−５％ＮａＨＣＯｓ混合液（ｐＨ４）５
００ｍＪ。
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−アゼチ
ジン−２−オンの合成 無水酢酸６．８９ＪＩを１，２−ジクｏｏｚタフ５ｒｒ
ＩＪ！に溶解し、これを水冷した中へ、濃硫酸ｏ−ｉ
ｍＩ！を加え、ざらに液温を１０〜１５℃に保ちながら
発煙硝酸（比重１．５２ ） ０．８ ｍｌを滴下した
。滴下終了後、８０分間そのまま撹拌を続け、ついで反
応液を水冷した。この中に、実施例１と同様にして合成
した（８Ｂ、４Ｂ）−８−［（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリロキシエチル〕−４−トリメチルシリ
ロキシ−１−トリメチルシリルアゼチジン−２−オン０
．９８．Ｆを１．２−ジクロロエタン２１ｍＪに溶解し
た液を約１時間かけて滴下した。３時間撹拌を続けた後
、反応液を、ヘキサン８５０ ｍＡ’ ｓ酢酸エチ／に
１５０ｍ１！、ｐＥＩ ７のリン酸緩衝液（０，５Ｍ
）５００ｍＪの混合液中へ、一度に注ぎ入れた。水石を
分離した後、有機層を５％ＮａＨＣＯ３水５００ｍＪ、
１０％クエン酸−５％ＮａＨＣＯｓ混合液（ｐＨ４）５
００ｍＪ。
飽和食塩水２００ ｍｌで順に洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去して淡黄色の油状物０．８
８！ｉを得た。これをｎ−ヘキサンよシ結晶化を行なっ
て、目的のβ−ラクタム０．１８．９を無色針状晶とし
て得た。各々の性状は実施例１に示した値と同一であっ
た。
シウムで乾燥後、溶媒を留去して淡黄色の油状物０．８
８！ｉを得た。これをｎ−ヘキサンよシ結晶化を行なっ
て、目的のβ−ラクタム０．１８．９を無色針状晶とし
て得た。各々の性状は実施例１に示した値と同一であっ
た。
実施例８
（８Ｒ，４Ｂ）−４−アセトキシ−８−［： （Ｒ）−
１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−ア
ゼチジン−２−オンの合成 （８Ｒ，４Ｒ）−８−Ｃ（ＩＬ）−１−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシエチル）−４−）リメチルシリロ
キシアゼチジン−２−オン １．００，９’Ｑジクロロ
メタンｔｏｍｚに溶解し、これにトリエチルアミン０．
８９．ｌｉ’とｊｅｒ ｔ−ブチルジメチルシリルクロ
リド０．６１．ｐを加え、呈温下で６時間撹拌した。反
応後、この溶液に５％ＮａＨＯＯ３水溶液を加え、水層
を分Ｍ後、有機層をＩ）Ｈ８の希塩酸、飽和食塩水で順
次洗浄した。熱水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留
去して茶色の液体を得た。これをシリカゲルクロマトグ
ラフィー（ヘキサン：エーテル＝１００：８）で精製し
て、（８Ｒ９４Ｒ）−８−Ｃ（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジ１−ｙ−ルシリロキシエチル）−４−）リメチル
シリロキシ−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアゼ
チジン−２−オン ０．８０Ｉｉを無色液体として得た
。
１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル〕−ア
ゼチジン−２−オンの合成 （８Ｒ，４Ｒ）−８−Ｃ（ＩＬ）−１−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリロキシエチル）−４−）リメチルシリロ
キシアゼチジン−２−オン １．００，９’Ｑジクロロ
メタンｔｏｍｚに溶解し、これにトリエチルアミン０．
８９．ｌｉ’とｊｅｒ ｔ−ブチルジメチルシリルクロ
リド０．６１．ｐを加え、呈温下で６時間撹拌した。反
応後、この溶液に５％ＮａＨＯＯ３水溶液を加え、水層
を分Ｍ後、有機層をＩ）Ｈ８の希塩酸、飽和食塩水で順
次洗浄した。熱水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留
去して茶色の液体を得た。これをシリカゲルクロマトグ
ラフィー（ヘキサン：エーテル＝１００：８）で精製し
て、（８Ｒ９４Ｒ）−８−Ｃ（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジ１−ｙ−ルシリロキシエチル）−４−）リメチル
シリロキシ−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアゼ
チジン−２−オン ０．８０Ｉｉを無色液体として得た
。
無水酢酸２．７０．９を１．２−ジクロロエタン２．５
ｍｌに溶解し、これを水冷した中に、０．０５ ｎｌｚ
の濃硫酸を加え、さらに液温を１０〜１５℃に保ちなか
ら発煙硝酸（比重１．５２ ） ０．４ｍｒをゆつくシ
と滴下した。その後、８０分間、０〜１０℃に保ち、こ
れを−４０℃に冷却し、これに、（８Ｒ，４Ｒ）−８−
［（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエ
チル）−４−トリメチルシリロキシ−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルアゼチジン−２−オン ０．６１．
Ｆを１．２−ジクロロエタン１１ｍ１！に溶かしたもの
を１時間かけて滴下した。１時間、−４０℃に保ち、さ
らに−８０℃で２時間反応させた後、反応液を、ヘキサ
ン２１０ｍＪ、 酢酸エチＡ／ ９ Ｑ ｍｊ’、ｐ
Ｅ［７（７）リン酸緩衝液（０，５Ｍ）８００ｍ／の混
合液中へ、一度に注いだ。水層を除いた後、有機層を５
％ＮａＨＣＯＢ水、１０％クエン酸−６％ＮａＨＯＯＢ
混合液（ｐＨ４）、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して淡黄色の油状
物０．８２ｆｌを得た。これをシリカゲルクロマトグラ
フィー（ヘキサン：エーテｙ＝１０：１）で精製して、
（８Ｒ，４Ｂ）−４−アセトキシ−８−［： （Ｒ）
−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル）
−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアゼチジン−２
−オン ０．２２ｇを無色油状物として得た。これをＴ
Ｉ（Ｆ２０ｍｌ！に溶解し、テトラ−ｎ−プチルアンモ
ニウムフルオリドｏ、ｉｓ、ｇ。
ｍｌに溶解し、これを水冷した中に、０．０５ ｎｌｚ
の濃硫酸を加え、さらに液温を１０〜１５℃に保ちなか
ら発煙硝酸（比重１．５２ ） ０．４ｍｒをゆつくシ
と滴下した。その後、８０分間、０〜１０℃に保ち、こ
れを−４０℃に冷却し、これに、（８Ｒ，４Ｒ）−８−
［（Ｒ）−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエ
チル）−４−トリメチルシリロキシ−１−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルアゼチジン−２−オン ０．６１．
Ｆを１．２−ジクロロエタン１１ｍ１！に溶かしたもの
を１時間かけて滴下した。１時間、−４０℃に保ち、さ
らに−８０℃で２時間反応させた後、反応液を、ヘキサ
ン２１０ｍＪ、 酢酸エチＡ／ ９ Ｑ ｍｊ’、ｐ
Ｅ［７（７）リン酸緩衝液（０，５Ｍ）８００ｍ／の混
合液中へ、一度に注いだ。水層を除いた後、有機層を５
％ＮａＨＣＯＢ水、１０％クエン酸−６％ＮａＨＯＯＢ
混合液（ｐＨ４）、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して淡黄色の油状
物０．８２ｆｌを得た。これをシリカゲルクロマトグラ
フィー（ヘキサン：エーテｙ＝１０：１）で精製して、
（８Ｒ，４Ｂ）−４−アセトキシ−８−［： （Ｒ）
−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリロキシエチル）
−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアゼチジン−２
−オン ０．２２ｇを無色油状物として得た。これをＴ
Ｉ（Ｆ２０ｍｌ！に溶解し、テトラ−ｎ−プチルアンモ
ニウムフルオリドｏ、ｉｓ、ｇ。
酢酸０．０７ 、ｐを加え、室温で１時間撹拌した。溶
媒を留去し、酢酸エチル５０ｍＪ、！５％ＮａＨＣＯａ
水５ Ｑ ｒｌｌＩ！を加え、水層を分液した後、有機
層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を留去して、ｎ−へキサンよシ再結晶して目
的のβ−ラクタム０．１８．９を無色針状晶として得た
。各々の性状は実施例１に示した値と同一であった。
媒を留去し、酢酸エチル５０ｍＪ、！５％ＮａＨＣＯａ
水５ Ｑ ｒｌｌＩ！を加え、水層を分液した後、有機
層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を留去して、ｎ−へキサンよシ再結晶して目
的のβ−ラクタム０．１８．９を無色針状晶として得た
。各々の性状は実施例１に示した値と同一であった。
実施例４
（８Ｒ，４几）−４−アセトキシ−ｓ −Ｃ（Ｒ）−１
−インプロピルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジン
−２−オンの合成 ８− ［（Ｒ） −１−イソプロピルジメチルシリロキ
シエチル］−４−）リメチルシリロキシアゼチジン−２
−オン １．５０ｍ（８Ｒ，４Ｂ）体：（８８，４８）
体＝５：１：ｌをジクロロエタン１５ｍＩ！に溶かし、
トリエチルアミン０．６５Ｆとｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリルクロリド１．０Ｇ、ｐを加え、室温で１４時間
撹拌した。ジクロロメタン５９ｍ１！で希釈した後、５
％ＮａＨＣ！ＯＢ５０ｍｌ！、ｐＨ４の希塩酸、飽和食
塩水で順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
−インプロピルジメチルシリロキシエチル〕アゼチジン
−２−オンの合成 ８− ［（Ｒ） −１−イソプロピルジメチルシリロキ
シエチル］−４−）リメチルシリロキシアゼチジン−２
−オン １．５０ｍ（８Ｒ，４Ｂ）体：（８８，４８）
体＝５：１：ｌをジクロロエタン１５ｍＩ！に溶かし、
トリエチルアミン０．６５Ｆとｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリルクロリド１．０Ｇ、ｐを加え、室温で１４時間
撹拌した。ジクロロメタン５９ｍ１！で希釈した後、５
％ＮａＨＣ！ＯＢ５０ｍｌ！、ｐＨ４の希塩酸、飽和食
塩水で順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を留去して、８−（（Ｒ）−１−インプロピルジメ
チルシリロキシエチル）−４−）リメチルシリロキシ−
１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアゼチジン−２−
オン １．５６．９を黄色油状物として得た。
チルシリロキシエチル）−４−）リメチルシリロキシ−
１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアゼチジン−２−
オン １．５６．９を黄色油状物として得た。
無水酢酸５．８Ｓｌを１．２−ジクａｏｚタフ５ｍｌ！
と混合し、これに濃硫酸０．２ ｍ／を加えた後、冷却
し内温を１０〜１６℃とした。その温度を保ちながら発
煙硝！！（比重１．５２ ） ０−８ｍ１！を約１．５
時間かけて滴下した後、そのまま２時間撹拌を続けた。
と混合し、これに濃硫酸０．２ ｍ／を加えた後、冷却
し内温を１０〜１６℃とした。その温度を保ちながら発
煙硝！！（比重１．５２ ） ０−８ｍ１！を約１．５
時間かけて滴下した後、そのまま２時間撹拌を続けた。
これを−８０℃に冷却し、８− Ｃ（Ｒ） −１−イソ
プロピルジメチルシリロキシエチル〕−４−トリメチル
シリロキシ−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアゼ
チジン−２−オン １．５６１１．２−ジクロロエタン
８０ｍ／に溶かした液を約１．５時間かけて滴下した後
、約８時間撹拌を続けた。反応液を、ヘキサン８５０ｍ
１！、酢酸エチル１５０ｍ／、ｐＨ７（７）リン酸緩衝
液（０，りＭ） ５００ｍ１！の混合液を水冷した中へ
、一度に注ぎ込んだ。
プロピルジメチルシリロキシエチル〕−４−トリメチル
シリロキシ−１−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアゼ
チジン−２−オン １．５６１１．２−ジクロロエタン
８０ｍ／に溶かした液を約１．５時間かけて滴下した後
、約８時間撹拌を続けた。反応液を、ヘキサン８５０ｍ
１！、酢酸エチル１５０ｍ／、ｐＨ７（７）リン酸緩衝
液（０，りＭ） ５００ｍ１！の混合液を水冷した中へ
、一度に注ぎ込んだ。
水層を分液後、有機層を、５％ＮａＨＣ！０８水ａｏ。
ｍｌ！、１０％クエン酸−５％ＮａＨＣＯＢ 混合液
（ｐＨ４）８００ｍｌ！、飽和食塩水の順に洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して黄色の
油状物０．９０．９を得た。この４−アセトキシ−８−
Ｃ（Ｒ） −ｔ−イソプロピルジメチルシリロキシエチ
ル） −ｌ −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアゼチ
ジン−２−オンを含む油状物を、そのままジクロロメタ
ン２０ｍ１！に溶解し、酢酸０．８７１１テトラメチ〃
アンモニウムクロリド０．８４ 、ｐ、フッ化カリウム
０．１８，９を加え、けんだく状態で撹拌した。８時間
、室温で反応させた後、反応液を５％Ｎ ａ ＨＣＯ３
水１００ｍ／−ジク００／タン８０ｍＪの中へ注ぎ、し
ばらく撹拌した後、水層を除き、有機層を飽和食塩水で
洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去
した。得られた目的のβ−ラクタム（（８Ｒ，４Ｒ）：
（８Ｓ、４Ｒ）＝５：１：ｌを含む淡黄色油状物をヘキ
サンよシ結晶化することによ！０、ｌＲ，４Ｒ）一体０
．２１ｇを錆色針状晶として得た。
（ｐＨ４）８００ｍｌ！、飽和食塩水の順に洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して黄色の
油状物０．９０．９を得た。この４−アセトキシ−８−
Ｃ（Ｒ） −ｔ−イソプロピルジメチルシリロキシエチ
ル） −ｌ −ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアゼチ
ジン−２−オンを含む油状物を、そのままジクロロメタ
ン２０ｍ１！に溶解し、酢酸０．８７１１テトラメチ〃
アンモニウムクロリド０．８４ 、ｐ、フッ化カリウム
０．１８，９を加え、けんだく状態で撹拌した。８時間
、室温で反応させた後、反応液を５％Ｎ ａ ＨＣＯ３
水１００ｍ／−ジク００／タン８０ｍＪの中へ注ぎ、し
ばらく撹拌した後、水層を除き、有機層を飽和食塩水で
洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去
した。得られた目的のβ−ラクタム（（８Ｒ，４Ｒ）：
（８Ｓ、４Ｒ）＝５：１：ｌを含む淡黄色油状物をヘキ
サンよシ結晶化することによ！０、ｌＲ，４Ｒ）一体０
．２１ｇを錆色針状晶として得た。
（ａ）” ！ ＋５４．２°（Ｃ＝０．５ 、 ＣＨＣ
！１８）ｍｐ、＝９２〜９４℃ ｌＨ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＣＤ０１Ｂ） δ（ｐｐ
ｍ）：０．０４（６Ｈ，ｌり、０．９０（７Ｈ）。
！１８）ｍｐ、＝９２〜９４℃ ｌＨ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＣＤ０１Ｂ） δ（ｐｐ
ｍ）：０．０４（６Ｈ，ｌり、０．９０（７Ｈ）。
１．２８（８Ｈ，ｄ）、２．０６（８Ｈ，８）。
８．１８（ＩＨ，ｄｄ）、４．１８（ＩＨ，ｍ）。
Claims (11)
- （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ
＾４はＣ＿１〜Ｃ＿４の低級アルキル基、フェニル基ま
たはアラルキル基、Ｒ＾５はＮの保護基を示す） で表わされるβ−ラクタム化合物に硝酸アセチルを作用
させ、次いで、必要に応じて、Ｎの保護基を脱離させる
ことを特徴とする、一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基、Ｒ＾６は水素又はＮ
の保護基を示す） で表わされる４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルア
ゼチジン−２−オン誘導体の製造法。 - （２）Ｒ＾１が一般式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＾７、Ｒ＾８、Ｒ＾９はＣ＿１〜Ｃ＿４の低
級アルキル基を示す）である特許請求の範囲第１項記載
の製造法。 - （３）Ｒ＾１がｔ−ブチルジメチルシリル基である特許
請求の範囲第１項記載の製造法。 - （４）Ｒ＾１がイソプロピルジメチルシリル基である特
許請求の範囲第１項記載の製造法。 - （５）Ｒ＾５がトリメチルシリル基である特許請求の範
囲第１項記載の製造法。 - （６）Ｒ＾５がｔ−ブチルジメチルシリル基である特許
請求の範囲第１項記載の製造法。 - （７）Ｒ＾６が水素である特許請求の範囲第１項記載の
製造法。 - （８）Ｒ＾６がｔ−ブチルジメチルシリル基である特許
請求の範囲第１項記載の製造法。 - （９）Ｒ＾６がトリメチルシリル基である特許請求の範
囲第１項記載の製造法。 - （１０）Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４がメチル基である特許
請求の範囲第１項記載の製造法。 - （１１）一般式（ I ′） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ′） （式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ
＾４はＣ＿１〜Ｃ＿４の低級アルキル基、フェニル基、
又はアラルキル基を示す）で表わされる化合物とＲ＾５
−Ｘ（Ｒ＾５はＮの保護基、Ｘはハロゲンを示す）で示
される試薬を反応させることにより、一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ
＾４はＣ＿１〜Ｃ＿４の低級アルキル基、フェニル基、
又はアラルキル基、Ｒ＾５はＮの保護基を示す）で表わ
される化合物を生成せしめ、次いで、該化合物（ I ）
に硝酸アセチルを作用させ、ついで、必要に応じて、Ｎ
の保護基を脱離させることにより、一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基、Ｒ＾６は水素又はＮ
の保護基を示す） で表わされる４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルア
ゼチジン−２−オン誘導体を製造する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60223388A JPH066570B2 (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60223388A JPH066570B2 (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6284057A true JPS6284057A (ja) | 1987-04-17 |
| JPH066570B2 JPH066570B2 (ja) | 1994-01-26 |
Family
ID=16797363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60223388A Expired - Lifetime JPH066570B2 (ja) | 1985-10-07 | 1985-10-07 | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH066570B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01254656A (ja) * | 1988-04-04 | 1989-10-11 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ４−アセトキシ−３−ヒドロキシエチルアゼチジン−２−オンの製造法 |
| US4914199A (en) * | 1987-02-20 | 1990-04-03 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for preparing 4-acetoxy-3-hydroxyethylazetidin-2-one derivatives |
| EP0372699A1 (en) | 1988-10-19 | 1990-06-13 | Suntory Limited | Process for the preparation of 4-acyloxy-2-azetidinone derivatives |
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-
1985
- 1985-10-07 JP JP60223388A patent/JPH066570B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH066570B2 (ja) | 1994-01-26 |
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