JPH04115570A - マスタースライス半導体集積回路 - Google Patents

マスタースライス半導体集積回路

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Publication number
JPH04115570A
JPH04115570A JP23471790A JP23471790A JPH04115570A JP H04115570 A JPH04115570 A JP H04115570A JP 23471790 A JP23471790 A JP 23471790A JP 23471790 A JP23471790 A JP 23471790A JP H04115570 A JPH04115570 A JP H04115570A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pull
channel transistors
down resistor
integrated circuit
semiconductor integrated
Prior art date
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Pending
Application number
JP23471790A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhisa Hirabayashi
平林 靖久
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、マスタースライス半導体集積回路において、
プルダウン抵抗用トランジスタの構成に間するものであ
る。
[従来の技術] 従来のマスタースライス半導体集積回路は。
プルダウン抵抗を必要とする場合、チップ外部に抵抗を
付けるか、入出力セルを用いてNチャンネルトランジス
タをプルダウン抵抗用トランジスタとして固定し専用型
であった。
[発明が解決しようとする課題] しかし前述の従来技術ではチップ外部に抵抗をつけると
、チップ周辺の配線が複雑になりチップを含めた実装効
率が低下し、外付は部品数が増えコスト高になるという
問題点があった。また、入出力セルにプルダウン抵抗を
内蔵している場合、固定された専用型であるため使用し
ないときもチップ面積を必要とし抵抗値が固定であると
いう問題点を有する。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、其
の目的とするところは、マスクスライス型ゲートアレイ
で専用論理回路を実現する場合の配線工程のみでプルダ
ウン抵抗ができるマスタースライス半導体集積回路を提
供することが目的である。
[課題を解決するための手段] 本発明のマスタースライス半導体集積回路は、   a
)多数個の内部論理ゲートセル(以下ベーシックセルと
略す)を2次元行列状に配列してなるマスタースライス
半導体集積回路において b)チップ外部からの信号が入力される入出力セルのP
チャンネルトランジスタ及びNチャンネルトランジスタ
と C)ベーシックセル3用いたNチャンネルトランジスタ
と d)ゲート電極をVdd+に固定された複数個の前記N
チャンネルトランジスタのうち1個以上の前記Nチャン
ネルトランジスタのソス電極をVss−の電位に固定し
、1個以上のNチャンネルトランジスタのドレイン拡散
領域と前記入出力セルを電気的に接続することを特徴と
する、 [実施例コ 以下に本発明について、実施例に基づき詳細に説明する
第1図は本発明のマスタースライス半導体集積回路に内
蔵するプルダウン抵抗用Nチャンネルトランジスタの構
成を示すものである。
第1図において、11は入出力端子、12はプルダウン
抵抗用Nチャンネルトランジスタ、13は入力インバー
タ回路である。プルダウン抵抗用Nチャンネルトランジ
スタ12は入出力端子11および入力インバータ回路1
3に接続されている。また、プルダウン抵抗用Nチャン
ネルトランジスタ12のゲート電極はVdd+に接続し
、ソース電極はVsS−に接続している。つぎにマスタ
ースライス半導体集積回路で前記プルダウン抵抗用Nチ
ャンネルトランジスタを構成する手段について説明する
まず第2図はマスタースライス半導体集積回路にアレイ
状に配列される内部論理ゲートセルであるベーシックセ
ルの一例を示すパターン図である。第2図において23
.24は絶縁ゲート電界効果型トランジスタ(以下MO
3FETと略す)のゲート電極となるポリシリコンであ
り、21はN十拡散であり、22はP+拡散である。2
3.24とN十拡散21の重なった部分にそれぞれN型
MO3FET25.26が形成されている。また、ポリ
シリコン23.24とP+拡散22の重なった部分にそ
れぞれP型MO8FET27゜28が形成されている。
第3図は第2図のベーシックセルに配線層を加え、プル
ダウン抵抗用Nチャンネルトランジスタとして用いる場
合をしめす。第3図において簡単化のため、ポリシリコ
ンとアルミ配線とを接続するコンタクトホール及びN:
+拡散もしくはP+拡散とアルミ配線とを接続するコン
タクトホールをX印で表し、またコンタクトホールから
取り出されたアルミ配線を1本の直線で表している。さ
てN型MOSFET25のゲートtf!が31.ソース
電極が32.ドレイン電極が33となっている。
また、P型MOSFET27のゲートを極が31、ソー
ス電極およびトレイン電極はういている。そして、N型
MOSFET25のソス電極32は負極の電源電位であ
るVssに接続され、N型MOSFET25のゲト電極
31は正極の電源電位であるVdd十に接続され、N型
MOSFET25のドレイン電極33は前記入力インバ
ータ回路および前記入出力端子と信号34で接続されて
いる。
以上の構成によりプルダウン抵抗用Nチャンネルトラン
ジスタ回路が構成される。
第4図はベーシックセルを複数個並べて。
N型MOSFETを4個並列に接続した構成図である。
第5図は第4図の回路図である。
かりに、抵抗51を100キロオームとすると4重亜列
であるから、プルダウン抵抗値は25キロオームとなる
第6図はベーシックセルを複数個並べて。
N型MOSFETを4個直列に接続した構成図である。
第7図は第6図の回路図である。
かりに、抵抗71を100キロオームとすると4本直列
であるから、プルダウン抵抗値は400キロオームとな
る。
また、ベーシックセルの1例として第2図をあげたが前
述した説明はベーシックセルのかぎられた特定のパター
ンにかかれるものではないので他のベーシックセルにも
適用できる。
[発明の効果] 上述の如く本発明の回路構成をもったマスタースライス
半導体集積回路によれば、マスタースライス型ゲートア
レイで専用論理回路を実現する場合の配線工程のみでプ
ルダウン抵抗ができる効果がある。また、必要に応じて
プルダウン抵抗の抵抗値が可変にできるためチップ面積
の縮小化が可能となりコストパフォーマンスの優れた集
積回路になる。
【図面の簡単な説明】
第1図はプルダウン抵抗用Nチャンネルトランジスタ回
路図、第2図はベーシックセルのパターン図、第3図、
第4図、第6図はプルアップ抵抗用Nチャンネルトラン
ジスタ回路の構成図であり、第5図、第7図はプルダウ
ン抵抗の回路図である。 3°3

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)a)多数個の内部論理ゲートセル(以下ベーシッ
    クセルと略す)を2次元行列状に配列してなるマスター
    スライス半導体集積回路において b)チップ外部からの信号が入力される入出力セルのP
    チャンネルトランジスタ及びNチャンネルトランジスタ
    と c)ベーシックセルを用いたNチャンネルトランジスタ
    と d)ゲート電極をVdd+に固定された複数個の前記N
    チャンネルトランジスタのうち1個以上の前記Nチャン
    ネルトランジスタのソース電極をVss−の電位に固定
    し、 1個以上のNチャンネルトランジスタのドレイン拡散領
    域と前記入出力セルを電気的に接続することを特徴とす
    るマスタースライス半導体集積回路。
JP23471790A 1990-09-05 1990-09-05 マスタースライス半導体集積回路 Pending JPH04115570A (ja)

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