JPH04115571A - マスタースライス半導体集積回路 - Google Patents

マスタースライス半導体集積回路

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Publication number
JPH04115571A
JPH04115571A JP23471890A JP23471890A JPH04115571A JP H04115571 A JPH04115571 A JP H04115571A JP 23471890 A JP23471890 A JP 23471890A JP 23471890 A JP23471890 A JP 23471890A JP H04115571 A JPH04115571 A JP H04115571A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor integrated
integrated circuit
channel transistor
input
pull
Prior art date
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Pending
Application number
JP23471890A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhisa Hirabayashi
平林 靖久
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、マスタースライス半導体集積回路において、
プルアップ抵抗用トランジスタの構成に間するものであ
る。
[従来の技術〕 従来のマスタースライス半導体集積回路は。
プルアップ抵抗を必要とする場合、チップ外部に抵抗を
付けるか、入出力セルを用いてPチャンネルトランジス
タをプルアップ抵抗用トランジスタとして固定し専用型
であった。
1発明が解決しようとする課題] しかし前述の従来技術ではチップ外部に抵抗をつけると
、チ・ツブ周辺の配線が複箪になりチップを含めた実装
効率が低下し、外付は部品数が増えコスト高になるとい
う問題点があった。また、入出力セルにプルアップ抵抗
を内蔵している場合、固定された専用型であるため使用
しないときもチップ面積を必要とし抵抗値が固定である
という問題点を有する。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、其
の目的とするところは、マスクスライス型ゲートアレイ
で専用論理回路を実現する場合の配線工程のみでプルア
ップ抵抗ができるマスタースライス半導体集積回路を提
供することが目的である。
[課題を解決するための手段] 本発明のマスタースライス半導体集8f回路は、   
 a)多数個の内部論理ゲートセル(以下ベーシックセ
ルと略す)を2次元行列状に配列してなるマスタースラ
イス半導体集積回路において b)チ・ツブ外部からの信号が入力される入出力セルの
Pチャンネルトランジスタ及びNチャンオ・ルトランジ
スタと C)ベーシックセルを用いたPチャンネルトランジスタ
と d)ゲート電極をV s s−に固定された複数個の前
記Pチャンネルトランジスタのうち1個以上の前記Pチ
ャンネルトランジスタのソス電極をV d d+の電位
に固定し、1個以上のPチャンネルトランジスタのドレ
イン拡散領域と前記入出力セルを電気的に接続すること
を特徴とする。
[実施例] 以下に本発明について、実施例に基づき詳細に説明する
第1図は本発明のマスタースライス半導体集積回路に内
蔵するプルアップ抵抗層Pチャンネルトランジスタの構
成を示すものである。
第1図において、11は入出力端子、12はプルアップ
抵抗層Pチャンネルトランジスタ、13は入力インバー
タ回路である。プルアップ抵抗層Pチャンネルトランジ
スタ12は入出力端子11および入力インバータ回路1
3に接続されている。また、プルアップ抵抗用Pチャン
ネルトランジスタ12のゲート電極はVss−に接続し
、ソース電極はVdd+に接続している。つぎにマスタ
ースライス半導体集積回路で前記プルアップ抵抗層Pチ
ャンネルトランジスタを構成する手段について説明する
まず第2図はマスタースライス半導体集積回路にアレイ
状に配列される内部論理ゲートセルであるベーシックセ
ルの一例を示すバタン図である。第2図において23.
24は絶縁ゲート電界効果型トランジスタ(以下MO5
FETと略す)のゲート電極となるポリシリコンであり
、21はP十拡散であり、22はN十拡散である。23
.24とP十拡散21の重なった部分にそれぞれP型M
OSFET25.26が形成されている。また、ポリシ
リコン23.24とN+拡散22の重なった部分にそれ
ぞれN型MOSFET27゜28が形成されている。
第3図は第2図のベーシックセルに配線層を加え、プル
アップ抵抗層Pチャンネルトランジスタとして用いる場
合をしめす。第3図において簡単化のため、ポリシリコ
ンとアルミ配線とを接続するコンタクトホール及びP;
+拡散もしくはN十拡散とアルミ配線とを接続するコン
タクトホールをX印で表し、またコンタクトホールから
取り出されたアルミ配線を1本の直線で表している。さ
てP型へ103FET25のゲート電極が31.ソース
電極が32.ドレイン電極が33となっている。
また、N型MO9FET27のゲート電極が31、ソー
ス電極およびトレイン電極はういている。そして、P型
MO3FET25のソス電極32は正極の電源電位であ
るVdd+に接続され、P型MO3FET25のゲト電
極31は負極の電源電位であるVss−に接続され、P
型MO3FET25のドレイン電極33は前記入力イン
バータ回路および前記入出力端子と信号34で接続され
ている。
以上の構成によりプルアップ抵抗層Pチャンネルトラン
ジスタ回路が構成される。
第4図はベーシックセルを複数個並べてP型MO3FE
Tを4個並列に接続した構成図である。第5図は第4図
の回路図である。
かりに、抵抗51を100キロオームとすると4重亜列
であるから、プルアンプ抵抗値は25キロオームとなる
第6図はベーシックセルを複数個並べてP型MO3FE
Tを4個直列に接続した構成図である。第7図は第6図
の回路図である。
かりに、抵抗71を100キロオームとすると4本直列
であるから、プルアップ抵抗値は400キロオームとな
る。
また、ベーシックセルの1例として第2図をあげたが前
述した説明はベーシックセルのかぎられた特定のパター
ンにががれるものではないので他のベーシックセルにも
適用できる。
[発明の効果] 上述の如く本発明の回路構成をもったマスタースライス
半導#−tlcN回路によれば、マスタースライス型ゲ
ートアレイで専用論理回路を実現する場合の配線工程の
みてプルアップ抵抗ができる効果がある。また、必要に
応じてプルアップ抵抗の抵抗値が可変にできるためチッ
プ面積の縮小化が可能となりコストパフォーマンスの優
れた集積回路になる。
【図面の簡単な説明】
第1図はプルアップ抵抗用Pチャンネルトランジスタ回
路図、第2図はベーシックセルのパターン図、第3図、
第4図、第6図はプルアップ抵抗層Pチャンネルトラン
ジスタ回路の構成図であり、第5図、第7図はプルアッ
プ抵抗の回路図である。 1 】 入出力端子 P型MO3FET 入力インバータ回路 P−拡散 N十拡散 ポリシリコン ポリシリコン P型MO3FET P型MO3FET X型MO3FET N型M OS F E T コンタクトホール コンタクトホール コンタクトホール 信号 抵抗 抵抗

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)a)多数個の内部論理ゲートセル(以下ベーシッ
    クセルと略す)を2次元行列状に配列してなるマスター
    スライス半導体集積回路において b)チップ外部からの信号が入力される入出力セルのP
    チャンネルトランジスタ及びNチャンネルトランジスタ
    と c)ベーシックセルを用いたPチャンネルトランジスタ
    と d)ゲート電極をVss−に固定された複数個の前記P
    チャンネルトランジスタのうち1個以上の前記Pチャン
    ネルトランジスタのソース電極をVdd+の電位に固定
    し、 1個以上のPチャンネルトランジスタのドレイン拡散領
    域と前記入出力セルを電気的に接続することを特徴とす
    るマスタースライス半導体集積回路。
JP23471890A 1990-09-05 1990-09-05 マスタースライス半導体集積回路 Pending JPH04115571A (ja)

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