JPH04117333A - １―クロロ―１，２，２―トリフルオロエチレンおよび１，２，２―トリフルオロエチレンの製造方法 - Google Patents
１―クロロ―１，２，２―トリフルオロエチレンおよび１，２，２―トリフルオロエチレンの製造方法Info
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- JPH04117333A JPH04117333A JP2241691A JP24169190A JPH04117333A JP H04117333 A JPH04117333 A JP H04117333A JP 2241691 A JP2241691 A JP 2241691A JP 24169190 A JP24169190 A JP 24169190A JP H04117333 A JPH04117333 A JP H04117333A
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
本発明は、１，１．２−１−ジクロロ−１，２’、２−
トリフルオロエタン（１１３）から１−クロロ−１，２
，２−トリフルオロエチレン（３ＦＯＬ）および１．２
．２−トリフルオロエチレン（３ＦＨ）を−工程で製造
する方法に関する。これらの生成物は、それぞれ原料モ
ノマー、代替フロンの原料として有用である。
トリフルオロエタン（１１３）から１−クロロ−１，２
，２−トリフルオロエチレン（３ＦＯＬ）および１．２
．２−トリフルオロエチレン（３ＦＨ）を−工程で製造
する方法に関する。これらの生成物は、それぞれ原料モ
ノマー、代替フロンの原料として有用である。
［従来の技術および発明が解決しようとする課題］活性
炭にパラジウムを担持させた触媒（Ｐ ｄ／活性炭）の
存在下、原料としての１１３と水素を２００〜３００℃
で反応させて３ＦＨを製造する方法が特公昭４３−８４
５４号公報に記載されている。この方法によれば、３Ｆ
Ｈと同時に３ＦＣＬも生成されるが、３ＦＨ，３ＦＣＬ
以外の化合物の選択率が高く、３ＦＨおよび３ＦＣＬの
選択率は４０〜８５％と低い。また、アルカリフッ化マ
グネシウムを触媒として、１１３と水素から３ＦＨおよ
び３ＦＣＬを製造する方法（Ｅ Ｐ−Ａ−６３６５７）
によれば、これらのオレフィンを９０％以上の高選択率
で得ることができるが、その反応温度は５００℃と高い
。また、反応温度をより低く（２００〜３００℃）し、
上記触媒に０．５％のパラジウムを添加した触媒を用い
た反応においては、オレフィン選択率が７０〜９０％と
低い。
炭にパラジウムを担持させた触媒（Ｐ ｄ／活性炭）の
存在下、原料としての１１３と水素を２００〜３００℃
で反応させて３ＦＨを製造する方法が特公昭４３−８４
５４号公報に記載されている。この方法によれば、３Ｆ
Ｈと同時に３ＦＣＬも生成されるが、３ＦＨ，３ＦＣＬ
以外の化合物の選択率が高く、３ＦＨおよび３ＦＣＬの
選択率は４０〜８５％と低い。また、アルカリフッ化マ
グネシウムを触媒として、１１３と水素から３ＦＨおよ
び３ＦＣＬを製造する方法（Ｅ Ｐ−Ａ−６３６５７）
によれば、これらのオレフィンを９０％以上の高選択率
で得ることができるが、その反応温度は５００℃と高い
。また、反応温度をより低く（２００〜３００℃）し、
上記触媒に０．５％のパラジウムを添加した触媒を用い
た反応においては、オレフィン選択率が７０〜９０％と
低い。
本発明の課題は、工業的ｌ二有利である比較的低温で、
３ＦＨおよび３ＦＣＬを、両者の生成比率を制御しつつ
高選択率で製造することのできる方法を提供することに
ある。
３ＦＨおよび３ＦＣＬを、両者の生成比率を制御しつつ
高選択率で製造することのできる方法を提供することに
ある。
［課題を解決するための手段］
本発明の要旨は、１，１．２−トリクロロ−１゜２．２
−トリフルオロエタンと水素とを触媒存在下に反応させ
ることによって１−クロロ−１，２゜２−トリフルオロ
エチレンおよび１．２．２−トリフルオロエチレンを製
造する方法であって、触媒としてパラジウム、ロジウム
およびルテニウムから選ばれる少なくとも１種の金属と
水銀、鉛、カドミウム、錫、インジウム、鋼、ビスマス
、タリウムおよび銀から選ばれる少なくとも１種の金属
（ただし、後者の金属がタリウムのとき、前者の金属が
ロジウムに限る）とをＡｌ１．０！またはＳｉＯ２に担
持させた触媒を使用することを特徴とする方法に存する
。
−トリフルオロエタンと水素とを触媒存在下に反応させ
ることによって１−クロロ−１，２゜２−トリフルオロ
エチレンおよび１．２．２−トリフルオロエチレンを製
造する方法であって、触媒としてパラジウム、ロジウム
およびルテニウムから選ばれる少なくとも１種の金属と
水銀、鉛、カドミウム、錫、インジウム、鋼、ビスマス
、タリウムおよび銀から選ばれる少なくとも１種の金属
（ただし、後者の金属がタリウムのとき、前者の金属が
ロジウムに限る）とをＡｌ１．０！またはＳｉＯ２に担
持させた触媒を使用することを特徴とする方法に存する
。
本発明の方法で起こる反応を以下に示す。
ＣＣＱＪＣＦ２ＣＱ＋Ｈｘ
−ＣＣｌ２Ｆ−ＣＦ２＋２８（１２
ＣＣＱＪＣＦ、ＣＱ＋２Ｈｚ
→ ＣＦＨ−ＣＦ、＋３ＨＣＱ
本発明の方法において用いる触媒は、アルミナまたはシ
リカゲルに、パラジウム、ロジウムおよびルテニウムか
ら選ばれる少なくとも１種の金属（以下、ベース金属と
称する。）とさらに水銀、鉛、カドミウム、錫、インジ
ウム、銅、ビスマス、タリウムおよび銀から選ばれる少
なくとも１種の金属（以下、添加金属と称する。）を担
持させて得られるものである。ベース金属と添加金属の
担持体への担持は、ベース金属先付けでもベース金属と
添加金属の同時付けでもよい。触媒のベース金属の含量
は０．１−１０％、好ましくは０．５〜５％である。
リカゲルに、パラジウム、ロジウムおよびルテニウムか
ら選ばれる少なくとも１種の金属（以下、ベース金属と
称する。）とさらに水銀、鉛、カドミウム、錫、インジ
ウム、銅、ビスマス、タリウムおよび銀から選ばれる少
なくとも１種の金属（以下、添加金属と称する。）を担
持させて得られるものである。ベース金属と添加金属の
担持体への担持は、ベース金属先付けでもベース金属と
添加金属の同時付けでもよい。触媒のベース金属の含量
は０．１−１０％、好ましくは０．５〜５％である。
上記添加金属を担持させるために上記添加金属の硝酸塩
、炭酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、水酸化物、リン酸塩
、過塩素酸塩、有機金属化合物および有機酸塩等の化合
物が用いられる。それらは触媒中に主としてメタル状で
存在するが表面は部分的に塩化物あるいはフッ化物で覆
われている可能性が高い。
、炭酸塩、硫酸塩、ハロゲン化物、水酸化物、リン酸塩
、過塩素酸塩、有機金属化合物および有機酸塩等の化合
物が用いられる。それらは触媒中に主としてメタル状で
存在するが表面は部分的に塩化物あるいはフッ化物で覆
われている可能性が高い。
添加金属とベース金属とのモル比は、添加金属がビスマ
ス以外の場合０．５以上であることが必要であり、添加
金属がビスマスの場合０．０５以上であることが必要で
ある。例えば、Ｈｇ／Ｐｄモル比が０．５より低くなる
と３ＦＨの選択率が大幅に低下し、オレフィン全体の選
択率も低下してしまう。また、このモル比は大きくなっ
ても選択率には大きな影響を与えないが、大きすぎると
反応率が低下するので４以下に押さえることが好ましい
。さらには、オレフィンの中でも３ＦＣＬの選択率の高
い金属の場合は、ベース金属とのモル比を４以下の適当
な値にすることにより３ＦＨの選択率を高くすることも
できる。
ス以外の場合０．５以上であることが必要であり、添加
金属がビスマスの場合０．０５以上であることが必要で
ある。例えば、Ｈｇ／Ｐｄモル比が０．５より低くなる
と３ＦＨの選択率が大幅に低下し、オレフィン全体の選
択率も低下してしまう。また、このモル比は大きくなっ
ても選択率には大きな影響を与えないが、大きすぎると
反応率が低下するので４以下に押さえることが好ましい
。さらには、オレフィンの中でも３ＦＣＬの選択率の高
い金属の場合は、ベース金属とのモル比を４以下の適当
な値にすることにより３ＦＨの選択率を高くすることも
できる。
また上記添加金属の種類を選択することにより３ＦＣＬ
／３ＦＨ生成比を変えることができる。
／３ＦＨ生成比を変えることができる。
例えば、その添加金属を、水銀、鉛、銅とした場合、３
ＦＣＬ／３ＦＨ生成比は代表的にはそれぞれ０．１１，
０．５８．５．８となる。
ＦＣＬ／３ＦＨ生成比は代表的にはそれぞれ０．１１，
０．５８．５．８となる。
また、反応に用いる水素と１１３のモル比は０゜５〜４
．０が好ましい。この値が大きくなっても、水素化され
たパラフィン系化合物の生成は起こりにくく、オレフィ
ン（３ＦＣＬと３ＦＨ）の高選択率は保持される。しか
し４．０より大きいと不経済である。
．０が好ましい。この値が大きくなっても、水素化され
たパラフィン系化合物の生成は起こりにくく、オレフィ
ン（３ＦＣＬと３ＦＨ）の高選択率は保持される。しか
し４．０より大きいと不経済である。
接触時間に相当するＷ／Ｆ（Ｗ：触媒重量Ｌ Ｆ：標準
状態における総流量ｍＱ／秒）は、１．３〜１１．４の
範囲内においては選択率に大きな影響を与えない。
状態における総流量ｍＱ／秒）は、１．３〜１１．４の
範囲内においては選択率に大きな影響を与えない。
反応温度は、１５０〜４００℃、好ましくは２００〜３
００℃である。
００℃である。
本発明によれば２００〜３００℃の比較的低い温度での
反応により３ＦＣＬおよび３ＦＨを８７〜１００％の高
選択率で得ることができる。
反応により３ＦＣＬおよび３ＦＨを８７〜１００％の高
選択率で得ることができる。
［寅施例］
担持方法
水３０ｍ１２に添加金属の金属塩を溶かし、ＡＱ。
０、にパラジウム０．５％を担持させてなる直径３゜２
＋ｎ、高さ３．２ｍｍのペレット状パラジウム触媒［
触媒ａ］ ５ｇ、そのペレット状触媒を６０メツシユ以
下に粉砕した触媒［触媒ｂ］４ｇ、カーボン（活性炭）
にパラジウム２％を担持させてなる粉末状触媒［触媒ｃ
１またはＡｌ２Ｏ３またはＳｉＯ２ｆｆｉＯ，にベース
金属５％を担持させてなる粉末状触媒［触媒ｄｌ ４ｇ
のいずれか〔いずれも市販触媒：Ｎ、Ｅ、ケミカル・カ
タリスト（ＣＨＥＭＩＣＡＬ ＣＡＴＡＬＹＳＴ）製
〕およびホルマリン０．２ｇを添加し、５０℃で２〜３
時間熟成させた。上記金属塩の量は、添加金属とベース
金属のモル比が目的の値となるようにした。その後、ロ
ータリーエバポレーターで水を除去し、さらに空気中１
００℃で１２時間乾燥させた。得られた触媒ａ、ｂ、ｃ
を、反応前に、水素気流中３００〜４００℃で２時間前
処理した。但し、ビスマスを添加したものは、３００℃
酸素気流中で２時間前処理した。
＋ｎ、高さ３．２ｍｍのペレット状パラジウム触媒［
触媒ａ］ ５ｇ、そのペレット状触媒を６０メツシユ以
下に粉砕した触媒［触媒ｂ］４ｇ、カーボン（活性炭）
にパラジウム２％を担持させてなる粉末状触媒［触媒ｃ
１またはＡｌ２Ｏ３またはＳｉＯ２ｆｆｉＯ，にベース
金属５％を担持させてなる粉末状触媒［触媒ｄｌ ４ｇ
のいずれか〔いずれも市販触媒：Ｎ、Ｅ、ケミカル・カ
タリスト（ＣＨＥＭＩＣＡＬ ＣＡＴＡＬＹＳＴ）製
〕およびホルマリン０．２ｇを添加し、５０℃で２〜３
時間熟成させた。上記金属塩の量は、添加金属とベース
金属のモル比が目的の値となるようにした。その後、ロ
ータリーエバポレーターで水を除去し、さらに空気中１
００℃で１２時間乾燥させた。得られた触媒ａ、ｂ、ｃ
を、反応前に、水素気流中３００〜４００℃で２時間前
処理した。但し、ビスマスを添加したものは、３００℃
酸素気流中で２時間前処理した。
実施例１
担持金属塩としてＨｇＣ（２，を触媒中のＨｇ／Ｐｄモ
ル比−４となる量にして用いた。内径２０ｍｍのハステ
ロイ製反応管に触媒ａ４ｇを充填し、１１３と水素を、
モル比ｌ：２、総流量２１ｉ／分として流通させて２０
０℃で反応させた。
ル比−４となる量にして用いた。内径２０ｍｍのハステ
ロイ製反応管に触媒ａ４ｇを充填し、１１３と水素を、
モル比ｌ：２、総流量２１ｉ／分として流通させて２０
０℃で反応させた。
反応率は１７．２％で、３ＦＣＬおよび３ＦＨがそれぞ
れ選択率２４．６％および７５．４％で得られた。
れ選択率２４．６％および７５．４％で得られた。
５Ｉ！施例２
担持金属塩としてＰ ｂ（Ｎ Ｏり３を用い（Ｐｂ／Ｐ
ｄモル比−４）、反応温度を２８０℃とした以外は、実
施例１と同様の反応を行った。
ｄモル比−４）、反応温度を２８０℃とした以外は、実
施例１と同様の反応を行った。
反応率は４６．８％で、３ＦＣＬ、３ＦＨ１１２３ａ（
ＣＨＣＩ２ＦＣＣ４Ｆｇ）、ｌ ４１ ａ（ＣＨＣ（２
＊ＣＨ，Ｆ）、１６０（ＣＨ，ＣｆｆＣＨ，）および１
４２（ＣＨＦ、ＣＨバＩ）がそれぞれ選択率２３，４％
、７１．０％、２．７％、１．１％、０．６％および０
゜３％で得られた。
ＣＨＣＩ２ＦＣＣ４Ｆｇ）、ｌ ４１ ａ（ＣＨＣ（２
＊ＣＨ，Ｆ）、１６０（ＣＨ，ＣｆｆＣＨ，）および１
４２（ＣＨＦ、ＣＨバＩ）がそれぞれ選択率２３，４％
、７１．０％、２．７％、１．１％、０．６％および０
゜３％で得られた。
実施例３
担持金属塩としてＣｄＣ４２を用い（Ｃｄ／Ｐｄモル比
−４）、反応温度を２８０℃とした以外は実施例１と同
様の反応を行った。
−４）、反応温度を２８０℃とした以外は実施例１と同
様の反応を行った。
反応率は２１．６％で、３ＦＣＬ、３ＦＨ，１６０，１
２３ａ、１４２および１４１ａがそれぞれ選択率３３．
４％、５８．８％、２．０％、１．９％、１．６％およ
び１．５％で得られた。
２３ａ、１４２および１４１ａがそれぞれ選択率３３．
４％、５８．８％、２．０％、１．９％、１．６％およ
び１．５％で得られた。
実施例４
担持金属塩としてＳ ｎＣ（ｈを用い（Ｓｎ／Ｐｄモル
比−４）、反応温度を２５０℃とした以外は実施例１と
同様の反応を行った。
比−４）、反応温度を２５０℃とした以外は実施例１と
同様の反応を行った。
反応率は１５．９％で、３ＦＣＬ、３ＦＨおよび１４２
がそれぞれ選択率７９．３％、１５．３％および２．５
％で得られた。
がそれぞれ選択率７９．３％、１５．３％および２．５
％で得られた。
里簾匹ｉ
担持金属塩としてＩｎｃｈ、を用い（Ｉｎ／Ｐｄモル比
−４）、反応温度を２５０℃とした以外は実施例１と同
様の反応を行った。
−４）、反応温度を２５０℃とした以外は実施例１と同
様の反応を行った。
反応率は１０．４％で、３ＦＣＬ、３ＦＨ，１４２，１
６０，１２３および１４１ａがそれぞれ選択率７１，９
％、１６，１％、４．６％、２，９％、２．３％および
１．３％で得られた。
６０，１２３および１４１ａがそれぞれ選択率７１，９
％、１６，１％、４．６％、２，９％、２．３％および
１．３％で得られた。
実施例６
担持金属塩としてＣｕＣ（２，を用い（Ｃｕ／Ｐｄモル
比−４）、反応温度を２５０℃とした以外は実施例１と
同様の反応を行った。
比−４）、反応温度を２５０℃とした以外は実施例１と
同様の反応を行った。
反応率は１８．７％で、３ＦＣＬ、３ＦＨおよび１４２
がそれぞれ選択率７９．５％、１７．１％および１．９
％で得られた。
がそれぞれ選択率７９．５％、１７．１％および１．９
％で得られた。
実施例７
担持金属塩としてＡｇＮ０．を触媒中のＡｇ／Ｐｄモル
比−４になる量にして用いた。内径７ 、２ ＋ｎのス
テンレス製反応管に触媒ｂ１．３ｇを充填し、１１３と
水素を、モル比ｌ：２、総流量２７＋ｏｆｆ／分として
流通させて２５０℃で反応させた。 反応率は３２．２
％で、３ＦＨ，３ＦＣＬ、１４２．１２３ａ％１６０お
よび１４１ａがそれぞれ選択率２９．３％、６７．０％
、１．２％、０．９％、０゜５％および０．３％で得ら
れた。
比−４になる量にして用いた。内径７ 、２ ＋ｎのス
テンレス製反応管に触媒ｂ１．３ｇを充填し、１１３と
水素を、モル比ｌ：２、総流量２７＋ｏｆｆ／分として
流通させて２５０℃で反応させた。 反応率は３２．２
％で、３ＦＨ，３ＦＣＬ、１４２．１２３ａ％１６０お
よび１４１ａがそれぞれ選択率２９．３％、６７．０％
、１．２％、０．９％、０゜５％および０．３％で得ら
れた。
実施例８
担持金属塩としてＨｇＣＱ２を用い（Ｈｇ／ｐａモル比
＝４）、総流量を６０ｍ１１／分とした以外は実施例７
と同様の反応を行った。
＝４）、総流量を６０ｍ１１／分とした以外は実施例７
と同様の反応を行った。
反応率は５４．７％で、３ＦＣＬ、３ＦＨＳ １５２ａ
（ＣＦｚＨＣＨｓ）、１２３ａおよび１４２がそれぞれ
選択率９．３％、８７．４％、２．２％、０．７％およ
び０．４％で得られた。
（ＣＦｚＨＣＨｓ）、１２３ａおよび１４２がそれぞれ
選択率９．３％、８７．４％、２．２％、０．７％およ
び０．４％で得られた。
実施例９
総流量を２７−７分とした以外は実施例８と同様の反応
を行った。
を行った。
反応率は４５．２％で、３ＦＨ，３ＦＣＬ、′１２３
ａ、 ｌ ５２ ａ、 １４２および１６０がそれぞれ
選択率８２．７％、７．６％、４．８％、１．５％、０
．６％および０．５％で得られた。
ａ、 ｌ ５２ ａ、 １４２および１６０がそれぞれ
選択率８２．７％、７．６％、４．８％、１．５％、０
．６％および０．５％で得られた。
実施例１０
１１３と水素のモル比をｌ：４とした以外は実施例９と
同様の反応を行った。
同様の反応を行った。
反応率は４０．０％で、３ＦＨ，３ＦＣＬ、１２３ａ、
１４１ａ、１５２ａ、１４２および１６０がそれぞれ選
択率７６．９％、１２．０％、５゜８％、２．１％、１
．７％、０．７％および０．５％で得られた。
１４１ａ、１５２ａ、１４２および１６０がそれぞれ選
択率７６．９％、１２．０％、５゜８％、２．１％、１
．７％、０．７％および０．５％で得られた。
実施例１１
担持金属塩としてＰ ｂ（Ｎ Ｏ３）ｌを用い（Ｐ ｂ
／Ｐｄモル比−４）、１１３と水素のモル比を１＝１１
総流量１８＋＋＋＋２／分とした以外は実施例７と同様
の反応を行っｔ；。
／Ｐｄモル比−４）、１１３と水素のモル比を１＝１１
総流量１８＋＋＋＋２／分とした以外は実施例７と同様
の反応を行っｔ；。
反応率は１１．２％で、３ＦＨ，３ＦＣＬ、１２３ａ、
１５２ａおよび１４２がそれぞれ選択率６０．４％、３
５．１％、２．１％、１．０％および０．９％で得られ
た。
１５２ａおよび１４２がそれぞれ選択率６０．４％、３
５．１％、２．１％、１．０％および０．９％で得られ
た。
実施例１２
１１３と水素のモル比を１＝４とした以外は実施例１１
と同様の反応を行った。
と同様の反応を行った。
反応率は１２．０％で、３ＦＨおよび３ＦＣＬがそれぞ
れ選択率５６．３％および４３．７％で得られた。
れ選択率５６．３％および４３．７％で得られた。
実施例１３
反応温度を３００℃とした以外は実施例１２と同様の反
応を行った。
応を行った。
反応率は２２．９％で、３ＦＨ，３ＦＣＬ、１２３ａＳ
１４２および１５２ａがそれぞれ選択率４４．３％、
４９．４％、１．９％、１．４％および１．４％で得ら
れた。
１４２および１５２ａがそれぞれ選択率４４．３％、
４９．４％、１．９％、１．４％および１．４％で得ら
れた。
実施例１４
触媒ｄ１．３ｇを充填し、Ｈｇ／Ｐｄ−１とした以外は
実施例９と同様にして反応を行った。
実施例９と同様にして反応を行った。
反応率は６０．８％で、３ＦＣＬ、３ＦＨ，１２３ａ−
１３４ａ（ＣＦｓＣＦＨｚ）、１４１ａ、１４２および
１６０がそれぞれ選択率７９．０％、１２．１％、３．
６％、２．４％、１．５％、０．６％および０．５％で
得られた。
１３４ａ（ＣＦｓＣＦＨｚ）、１４１ａ、１４２および
１６０がそれぞれ選択率７９．０％、１２．１％、３．
６％、２．４％、１．５％、０．６％および０．５％で
得られた。
比較例１
触媒ｃｏ、６ｇを充填し、反応温度を２８０℃とした以
外は実施例８と同様にして反応を行った。
外は実施例８と同様にして反応を行った。
反応率は６３．９％で、３ＦＨ，３ＦＣＬおよびｌ ２
３ａがそれぞれ選択率１６．０％、６２．２％および２
１．９％で得られた。
３ａがそれぞれ選択率１６．０％、６２．２％および２
１．９％で得られた。
比較例２
触媒ｃｏ、６ｇを充填し、反応温度を２８０℃とし、担
持金属塩としてＰｂ（ＮＯｘ）ｇを用いた（Ｐｂ／Ｐｄ
モル比−４）以外は実施例８と同様にして反応を行った
。 反応率は２８．５％で、３ＦＨ。
持金属塩としてＰｂ（ＮＯｘ）ｇを用いた（Ｐｂ／Ｐｄ
モル比−４）以外は実施例８と同様にして反応を行った
。 反応率は２８．５％で、３ＦＨ。
３ＦＣＬおよび１２３ａがそれぞれ選択率６．０％、６
９．２％および２４．８％で得られた。
９．２％および２４．８％で得られた。
比較例３
パラジウム以外の金属を担持させなかっｔ；以外は実施
例８と同様の反応を行った。
例８と同様の反応を行った。
反応率は６４．３％で、３ＦＣＬ、３ＦＨ，１４３，１
４１ａ、１２３ａ、１４２．１６０および１５２ａがそ
れぞれ選択率θ％、２３．０％、４０．２％、１８．７
％、７．０％、６．０％、４゜６％および０．７％で得
られた。
４１ａ、１２３ａ、１４２．１６０および１５２ａがそ
れぞれ選択率θ％、２３．０％、４０．２％、１８．７
％、７．０％、６．０％、４゜６％および０．７％で得
られた。
比較例４
パラジウム以外の金属を担持させず、反応温度を１５０
℃とした以外は実施例１〜７と同様の反応を行った。
℃とした以外は実施例１〜７と同様の反応を行った。
反応率は２４．７％で、３ＦＨ，１４３，１４１ａ、１
６０．１４２および１２３ａがそれぞれ選択率１．５％
、４４．２％、４１．２％、１．０％、３．７％および
８．５％で得られた。
６０．１４２および１２３ａがそれぞれ選択率１．５％
、４４．２％、４１．２％、１．０％、３．７％および
８．５％で得られた。
実施例１５
担持金属塩としてＢｉＣｌ２３を用いた（Ｂ１／Ｐｄモ
ル比−〇、４）触媒ｄｉｇを内径１’Ｏｍｍガラス製反
応管に充填し、１１３と水素をモル比１：３で流通させ
２５０℃で反応させた。反応率は９６．４％で、３ＦＨ
１３ＦＣＬ、１５２ａ、１２３ａがそれぞれ選択率８１
．３％、８．９％、６゜１％、１．３％で得られた。
ル比−〇、４）触媒ｄｉｇを内径１’Ｏｍｍガラス製反
応管に充填し、１１３と水素をモル比１：３で流通させ
２５０℃で反応させた。反応率は９６．４％で、３ＦＨ
１３ＦＣＬ、１５２ａ、１２３ａがそれぞれ選択率８１
．３％、８．９％、６゜１％、１．３％で得られた。
実施例１６
触媒中のＴｆｆ／Ｒｈモル比−２となる量にした触媒ｄ
ｉｇを内径１０ｍｍのガラス製反応管に充填し、１１３
と水素をモル比３：４で流通させ２３０℃で反応させた
。反応率は４．５％で、３ＦＣＬ、３ＦＨ，１４３ａ、
１２３ａがそれぞれ選択率７１．８％、１９．３％、２
．６％、２．３％で得られた。
ｉｇを内径１０ｍｍのガラス製反応管に充填し、１１３
と水素をモル比３：４で流通させ２３０℃で反応させた
。反応率は４．５％で、３ＦＣＬ、３ＦＨ，１４３ａ、
１２３ａがそれぞれ選択率７１．８％、１９．３％、２
．６％、２．３％で得られた。
比較例５
ＴＩ２を添加しないこと以外は実施例１６と同様の反応
を行った。反応率は１２．５％で、３ＦＣＬ、３ＦＨ，
１４３，１４１ａ、１２３ａ、 エタンがそれぞれ選択
率２６．７％、３．７％、２２゜０％、２１．８％、９
．０％、６．６％で得られた。
を行った。反応率は１２．５％で、３ＦＣＬ、３ＦＨ，
１４３，１４１ａ、１２３ａ、 エタンがそれぞれ選択
率２６．７％、３．７％、２２゜０％、２１．８％、９
．０％、６．６％で得られた。
実施例１７
触媒中のＨｇ／Ｒｕモル比が１となる量にした触媒ｄｉ
ｇを内径１０ｍｍのガラス製反応管に充填し、１１３と
水素をモル比１：２で流通させ、２００℃で反応させた
。反応率は１８．７％で、３ＦＣＬ、 ３ Ｆ Ｈ，ｌ
１３２ａ （ＣＦ ｚ−ＣＨｚ）がそれぞれ選択率８
１．５％、１２．４％、１．２％で得られた。
ｇを内径１０ｍｍのガラス製反応管に充填し、１１３と
水素をモル比１：２で流通させ、２００℃で反応させた
。反応率は１８．７％で、３ＦＣＬ、 ３ Ｆ Ｈ，ｌ
１３２ａ （ＣＦ ｚ−ＣＨｚ）がそれぞれ選択率８
１．５％、１２．４％、１．２％で得られた。
［発明の効果］
本発明によれば、１１３を利用して、ｌ ３４ ａ。
ＣＴＦＥポリマーの原料となる３ＦＨと３ＦＣＬを高選
択率で製造することができる。また、３００℃以下の温
度においても高い選択率を得ることができ、３ＦＣＬと
３ＦＨの生成比を容易に制御することもできる。
択率で製造することができる。また、３００℃以下の温
度においても高い選択率を得ることができ、３ＦＣＬと
３ＦＨの生成比を容易に制御することもできる。
特許出願人ダイキン工業株式会社
Claims (1)
- １、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオ
ロエタンと水素とを触媒存在下に反応させることによっ
て１−クロロ−１，２，２−トリフルオロエチレンおよ
び１，２，２−トリフルオロエチレンを製造する方法で
あって、触媒としてパラジウム、ロジウムおよびルテニ
ウムから選ばれる少なくとも１種の金属と水銀、鉛、カ
ドミウム、錫、インジウム、銅、ビスマス、タリウムお
よび銀から選ばれる少なくとも１種の金属（ただし、後
者の金属がタリウムのとき、前者の金属がロジウムに限
る）とをＡｌ＿２Ｏ＿３またはＳｉＯ＿２に担持させた
触媒を使用することを特徴とする方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2241691A JP2887278B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-09-11 | １―クロロ―１，２，２―トリフルオロエチレンおよび１，２，２―トリフルオロエチレンの製造方法 |
| EP19910108824 EP0459463B1 (en) | 1990-05-31 | 1991-05-29 | Process for preparing 1-chloro-1,2,2-trifluoroethylene or 1,2,2-trifluoroethylene |
| DE1991603473 DE69103473T2 (de) | 1990-05-31 | 1991-05-29 | Verfahren zur Herstellung von 1-Chlor-1,2,2-trifluorethylen oder von 1,2,2-trifluorethylen. |
| US08/369,259 US5498806A (en) | 1990-05-31 | 1995-01-05 | Process for preparing 1-chloro-1,2,2-trifluoroethylene or 1,2,2-trifluoroethylene |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2-143053 | 1990-05-31 | ||
| JP14305390 | 1990-05-31 | ||
| JP2241691A JP2887278B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-09-11 | １―クロロ―１，２，２―トリフルオロエチレンおよび１，２，２―トリフルオロエチレンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04117333A true JPH04117333A (ja) | 1992-04-17 |
| JP2887278B2 JP2887278B2 (ja) | 1999-04-26 |
Family
ID=26474868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2241691A Expired - Fee Related JP2887278B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-09-11 | １―クロロ―１，２，２―トリフルオロエチレンおよび１，２，２―トリフルオロエチレンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2887278B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5716590A (en) * | 1993-12-17 | 1998-02-10 | Wacker-Chemie Gmbh | Catalytic hydrodehalogenation of halogen-containing compounds of group IV elements |
| WO2010007968A1 (ja) * | 2008-07-18 | 2010-01-21 | 日本ゼオン株式会社 | 含水素フルオロオレフィン化合物の製造方法 |
| JP2014511369A (ja) * | 2011-02-04 | 2014-05-15 | ソルヴェイ・スペシャルティ・ポリマーズ・イタリー・エッセ・ピ・ア | パーフルオロビニルエーテルの製造方法 |
| CN109529830A (zh) * | 2018-12-18 | 2019-03-29 | 沈阳化工大学 | 一种二甲基硫醚用催化剂组合物制备方法 |
| CN111269081A (zh) * | 2020-03-12 | 2020-06-12 | 浙江巨化汉正新材料有限公司 | 一种六氟丙烯三聚体的制备方法 |
| WO2026029123A1 (ja) | 2024-07-31 | 2026-02-05 | ダイキン工業株式会社 | フルオロエタンの製造方法 |
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Citations (6)
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| JPS55338A (en) * | 1978-06-19 | 1980-01-05 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | Preparation of diacetoxybutene |
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| JPH0413638A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-17 | Central Glass Co Ltd | 三フッ化塩化エチレンの製造法 |
| JPH0499738A (ja) * | 1990-08-13 | 1992-03-31 | Nippon Haron Kk | トリフルオロエチレンの製造方法 |
-
1990
- 1990-09-11 JP JP2241691A patent/JP2887278B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| WO2026029123A1 (ja) | 2024-07-31 | 2026-02-05 | ダイキン工業株式会社 | フルオロエタンの製造方法 |
| WO2026029124A1 (ja) | 2024-07-31 | 2026-02-05 | ダイキン工業株式会社 | フルオロエタンの製造方法 |
| JP2026026018A (ja) * | 2024-07-31 | 2026-02-16 | ダイキン工業株式会社 | フルオロエタンの製造方法 |
| JP2026026019A (ja) * | 2024-07-31 | 2026-02-16 | ダイキン工業株式会社 | フルオロエタンの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2887278B2 (ja) | 1999-04-26 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |