JPH04118286U - スポツト加熱装置 - Google Patents
スポツト加熱装置Info
- Publication number
- JPH04118286U JPH04118286U JP1991026504U JP2650491U JPH04118286U JP H04118286 U JPH04118286 U JP H04118286U JP 1991026504 U JP1991026504 U JP 1991026504U JP 2650491 U JP2650491 U JP 2650491U JP H04118286 U JPH04118286 U JP H04118286U
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- JP
- Japan
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- elliptical
- light
- light source
- mirror
- condensing mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Discharge Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光ファイバを使用した輻射加熱によるスポッ
ト加熱装置において、輻射加熱の効率を向上させること
により光源の消費電力を増加させることなく加熱温度を
高くする。 【構成】 楕円集光鏡1と、この楕円集光鏡1の第一焦
点10の位置に配置される発光部21を有する光源2
と、楕円集光鏡1の第二焦点15の位置に配置される入
射端面31を有する光ファイバ3とから構成され、前記
楕円集光鏡1の前面16には、金又は金化合物の反射膜
が設けられているとともに、この楕円集光鏡1を冷却す
る冷却機構7としての冷却ファンを具備する。
ト加熱装置において、輻射加熱の効率を向上させること
により光源の消費電力を増加させることなく加熱温度を
高くする。 【構成】 楕円集光鏡1と、この楕円集光鏡1の第一焦
点10の位置に配置される発光部21を有する光源2
と、楕円集光鏡1の第二焦点15の位置に配置される入
射端面31を有する光ファイバ3とから構成され、前記
楕円集光鏡1の前面16には、金又は金化合物の反射膜
が設けられているとともに、この楕円集光鏡1を冷却す
る冷却機構7としての冷却ファンを具備する。
Description
【0001】
本考案は、電子部品のハンダ付け等のように、比較的小さな領域をスポット的
に加熱するスポット加熱装置に関し、特に光による輻射加熱を用いて、必要な部
分のみをスポット的に加熱するスポット加熱装置に関する。
【0002】
光による輻射加熱により物体を加熱することは古くから行われているが、最近
では、産業用プロセスへの応用も多い。特に、電子部品のプリント配線基板への
ハンダ付け等のように微小な領域をスポット的加熱する場合には、スポット光に
よる輻射加熱が多用されている。
【0003】
光を用いた輻射加熱が好んで用いられるのは、
非接触で加熱できるので、被加熱物の汚損の恐れが無い。
加熱したい部分のみを加熱できる。
制御性が良い。
瞬時のうちに加熱できる。
等の理由からである。
【0004】
上記輻射加熱によるスポット加熱装置は、光源から離れた所望の場所を自由に
加熱できることが要求されており、このような要求から、最近では、光源からの
光を集光させて光ファイバに入射させ、光ファイバにより導光して照射するスポ
ット加熱装置が知られている。
【0005】
図3は、光ファイバを使用した輻射加熱による従来のスポット加熱装置の概略
説明図である。図3のスポット加熱装置は、楕円集光鏡1と、発光部21が楕円
集光鏡1の第一焦点10の位置になるように配置された光源2と、入射端面31
が楕円集光鏡1の第二焦点15の位置になるように配置された光ファイバ3と、
入射端面31に入射する手前の光路上において光を遮断するためのシャッタ板4
1等により構成される。
【0006】
図3のスポット加熱装置は、光源2からの光が楕円集光鏡1により第二焦点1
5の位置に集光され、その第二焦点15の位置に配置された入射端面31から光
ファイバ3に入射する。そして、入射した光は、光ファイバ3により導光された
後、出射端面36から出射され、被加熱物8に照射されて被加熱物8が加熱され
る。
また、加熱及び加熱停止の制御は、光ファイバ3の入射端面31の光源側の光
路上にシャッタ板41を配置したり、光路上から退避させたりすることにより行
われる。
【0007】
上記光ファイバを使用した輻射加熱によるスポット加熱装置の多くは、電子部
品のハンダ付け等の産業プロセスに使用されている。このような産業プロセスに
使用されたスポット加熱装置に要求される事項の一つは、加熱温度の高くするこ
とによるプロセスの短時間化である。
加熱温度を高くするための単純な方法は、より高出力の光源を使用することで
あるが、その分だけ消費電力が増す等の欠点があってあまり良い方法とは言えな
い。
一番良い方法は、輻射加熱の効率を向上させることにより加熱温度を高くする
ことである。
【0008】
本考案は、上記各課題を考慮してなされたものであり、即ち、光ファイバを使
用した輻射加熱によるスポット加熱装置において、輻射加熱の効率を向上させる
ことにより光源の消費電力を増加させることなく加熱温度を高くすることが可能
なスポット加熱装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本願の請求項1のスポット加熱装置は、楕円集光鏡
と、この楕円集光鏡の第一焦点の位置に配置される発光部を有する光源と、楕円
集光鏡の第二焦点の位置に配置される入射端面を有する光ファイバとから構成さ
れ、前記楕円集光鏡の前面には、金又は金化合物の反射膜が設けられているとと
もに、この楕円集光鏡を冷却する冷却機構を具備するものである。
【0010】
以下、本考案の実施例を説明する。
図1は、本考案の実施例のスポット加熱装置の概略を説明するための平面図で
あり、図2は、図1のスポット加熱装置の側面図である。
【0011】
図1及び図2に示すのスポット加熱装置は、光軸が水平になるように設けられ
た椀状の楕円集光鏡1と、楕円集光鏡1の第一焦点10の位置に発光部21が位
置するように設けられた光源2と、入射端面31を有し、楕円集光鏡1の第二焦
点15の位置にその入射端面31が位置するように配置された光ファイバ3と、
入射端面31に入射する手前の光路上において光を遮断するためのシャッタ板4
1と、このシャッタ板41を光路上に配置及び光路上から退避させるためのシャ
ッタ駆動機構40と、楕円集光鏡1を冷却することが可能な冷却機構7と、光フ
ァイバ3の入射部32を保持する入射部ホルダー5と、これらの部材を収納する
ケーシング6等から構成されている。
【0012】
楕円集光鏡1は、その前面開口を光ファイバ3の入射端面31に向けた状態で
集光鏡ホルダー11により保持されている。この集光鏡ホルダー11は、ケーシ
ング6の内面に固定されている。
この楕円集光鏡1の前面16には金の反射膜が設けられている。この金の反射
膜の厚さは、例えば1から100ミクロン程度でよい。この金の反射膜は、干渉
膜のようなものではなく単に反射させるだけのものであるからその厚さは本質的
な条件ではない。金の反射膜を設ける方法としては、真空蒸着によるのが一般的
であるが、下地がアルミ等の金属の場合には、メッキ法でもよい。その他、金の
酸化物の反射膜したい場合には、化学スパッタリング法等も採用できる。
【0013】
光源2としては、本実施例では、可視域から赤外域にかけて強い発光分光分布
を有するキセノンショートアークランプが使用されており、その定角消費電力は
500Wである。このキセノンショートアークランプは、発光部21が小さいた
め、楕円集光鏡1により第二焦点15において極めて小さい光芒に集光すること
ができる。従って、本実施例のように、光ファイバを使用した光源装置には好適
である。
このキセノンショートアークランプよりなる光源2は、中央に球面状の膨出部
23を有する長尺な管体22と、膨出部23の部分の内部で対向して配置された
一対の放電用電極24と、管体22の両端に設けられた口金25,26より構成
されている。放電用電極24が対向する空間が放電部即ち発光部21であり、光
源2は、この発光部21が楕円集光鏡1の第一焦点10の位置になるよう配置さ
れる。
【0014】
即ち、光源2は、一方の口金25がランプホルダー27に固定されており、膨
出部23からこのランプホルダー27に固定された口金25に延びる管体22の
部分を、椀状の楕円集光鏡1の底部に設けられた底部開口12を挿通させるよう
にして取り付けている。ランプホルダー27には、三次元位置調節機構28が付
設されており、この三次元位置調節機構28を操作することにより光源2の位置
ひいては発光部21の位置を三次元的に調節可能になっている。尚、ランプホル
ダー27は、光源2への給電部を有しており、また他方の口金26には給電用の
リード線29が取り付けられている。
【0015】
光ファイバ3は、可撓性のあるカバーでバンドルを覆った可撓部33と、バン
ドルの両端を可撓性の無い金具で覆った構造の入射部32及び出射部34と、出
射部34の出射側に連設された出射レンズユニット35とから構成される。
【0016】
また、上記光源2を臨む位置のケーシング6には、光ファイバ3の入射部32
をケーシング6に固定するための穴が設けられており、入射部ホルダー5は、こ
の光ファイバ用穴に介挿されるようにしてケーシング6に固定されている。
上記光ファイバ3の入射部32は円柱形をしており、入射部ホルダー5は、こ
の円柱形の入射部32を保持可能なように円筒形をしている。この円筒状の入射
部ホルダー5は、入射部32の外径にほぼ一致した内径を有し、入射部32に接
触する接触部56と、入射部32の外径より幾分大きな内径を有し、保持の際に
入射部32との間に間隙が形成される有隙保持部55と、この有隙保持部55の
終端で筒を塞ぐように設けられた奥壁53とから構成される。ケーシング6に固
定されるのは、上記接触部56の部分であり、有隙保持部55や奥壁53はケー
シング6内に位置せしめられる。
また、有隙保持部55には、入射部ホルダー5内に冷却風が流れるようにする
ために、上下に通風口521,522が設けられている。尚、奥壁53には、入
射端面31に光を導き入れるための窓531が設けられている。
【0017】
また、ケーシング6外に露出した部分の入射部ホルダー5の肉厚部分を貫通す
るようにして止めネジ51が螺合している。円柱形の入射部32の周面には、上
記光ファイバ3の入射部32がホルダーに介挿されて入射端面31が入射部ホル
ダー5の奥壁53に突き当たった際に、上記止めネジ51の先端が進入して嵌合
可能な止めネジ用凹部321が設けられている。
【0018】
光ファイバ3をこの入射部ホルダー5に保持させる際には、入射部32を入射
部ホルダー5に挿入して先端の入射端面31を奥壁53に当接させる。この状態
で、入射端面31が楕円集光鏡1の第二焦点15の位置に位置するように、入射
部ホルダー5が楕円集光鏡1に対して所定の位置関係でケーシング6に固定され
ている。従って、入射端面31を入射部ホルダー5の奥壁53に当接させておい
て、止めネジ51を回して入射部32の止めネジ用凹部321に嵌合させると、
入射端面31の光学的位置出しがなされる。即ち、楕円集光鏡1の第二焦点15
の位置に保持される。
【0019】
シャッタ駆動機構40は、シャッタ板41を軸支するシャッタ軸42と、シャ
ッタ軸42を軸にしてシャッタ板41を光軸に垂直な平面内で揺動させることに
よりシャッタ板41を光路上に配置及び光路上から退避するための第一のロータ
リーソレノイド43とから構成される。そして、シャッタ軸42や第一のロータ
リーソレノイド43は、ケーシング6に固定された図示しない取付板に取り付け
られている。
【0020】
さらに、本実施例では、被加熱物8の加熱温度を調節するため、シャッタ板4
1とともに減光板44が設けられている。この減光板44は、金属板に多数の小
さな光透過口を設けた構造のものであり、シャッタ板41と同様に、光軸に垂直
な平面内で揺動可能なように配置される。即ち、減光板44には、減光板44を
軸支する減光板軸45と、減光板軸45を一定角度回転させて減光板44を揺動
させる第二のロータリーソレノイド46とが設けられている。
【0021】
楕円集光鏡1を冷却することが可能な冷却機構7としては、本実施例では軸流
型の冷却ファンが使用されている。この冷却機構7としての冷却ファンは、光フ
ァイバ3の入射端面31やシャッタ板41の下方の入射端面31とシャッタ板4
1とシャッタ駆動機構40とに冷却風を直接送れる位置に配置されており、ケー
シング6の底部61に固定されている。従って、冷却機構7としての冷却ファン
を固定するケーシング6の底部には、冷却風の流入口610が設けられている。
一方、ケーシング6の両側部62のうちの楕円集光鏡1を臨む位置には、冷却
風排出口620が設けられている。
【0022】
従って、冷却機構7としての冷却ファンによって、流入口610から冷却風が
ケーシング6内に流入し、光ファイバ3の入射端面31,シャッタ板41,シャ
ッタ軸42及び第一のロータリーソレノイド43等を冷却する。
そして、これらの冷却風は、光源2に沿って流れて光源2を冷却すると共に、
楕円集光鏡1の背面17と金の反射膜が設けられた前面16とに沿って流れて楕
円集光鏡1を冷却する。これにより、前記金の反射膜の剥離等の熱的損傷が防止
される。
楕円集光鏡1を冷却した冷却風は、ケーシング6の両側部62の冷却風排出口
620からケーシング6外に排出される。
尚、上記冷却機構7としての冷却ファンを制御する図示しない制御装置が設け
られており、光源1の点灯条件に従い最適な冷却風量になるように冷却機構7と
しての冷却ファンを制御する。
【0023】
上記の冷却機構7としては、冷却ファンを使用する強制空冷式のものに限られ
ず、楕円集光鏡1の背面に水冷パイプを配設することにより水冷式も採用するこ
ともできる。さらに、空冷式の場合には、楕円集光鏡1の内面に圧縮空気を直接
吹き付けるようにしてもよい。
【0024】
上記構成にかかるスポット加熱装置においては、使用に際しては、前述のよう
に光ファイバ3の入射部32を入射部ホルダー5に保持させ、入射端面31を楕
円集光鏡1の第二焦点15の位置に位置せしめる。
一方、光ファイバ3の出射部34を、出射レンズユニット35から出射される
光が被加熱物8を照射するような位置に配置する。
【0025】
そして、まず、前記のように発光部21が楕円集光鏡1の第一焦点10の位置
になるように配置された光源2に電力供給して点灯させる。すると、図示しない
制御装置が働いて、冷却機構7としての冷却ファンが動作を開始し、冷却を始め
る。
制御装置から処理開始信号が送られない状態では、シャッタ板41は光路上に
位置したままであり、従って、楕円集光鏡1により集光された光源2からの光は
第二焦点15の手前のシャッタ板41を照射している。それ故、シャッタ板41
がかなり加熱されるが、冷却機構7としての冷却ファンから送られる冷却風によ
り冷却されて耐熱温度以上に昇温しないようになっている。
【0026】
そして、外部信号等により制御装置から処理開始信号が第一のロータリーソレ
ノイド43に送られると、第一のロータリーソレノイド43が駆動してシャッタ
板41が光路上から退避する。この結果、楕円集光鏡1により集光された光源2
からの光が入射端面31から光ファイバ3に入射する。入射した光は、光ファイ
バ3により導光された後、出射部34から出射され、出射レンズユニット35内
のレンズにより再度集光された後、被加熱物8に照射される。
この状態では、楕円集光鏡1により細く絞られた光が入射端面31を照射する
ので入射端面31や入射部32にはかなりの熱が加えられるが、前述のように、
冷却機構7としての冷却ファンによる冷却により耐熱温度以上に昇温しないよう
になっている。
【0027】
加熱温度を調整する必要がある場合には、減光板44を光路上に配置させて、
被加熱物8表面の照度を調節するようにする。この際も、減光板44は、光源1
からの光の照射を直接受けることになるが、シャッタ板41と同様に冷却機構7
としての冷却ファンにより冷却されるので、耐熱温度以上の昇温を防止すること
ができる。
【0028】
ここで、前述のように、本実施例では、楕円集光鏡1の内面16に金の反射膜
が設けられているので、光源2からの可視域から赤外域の光が効率よく楕円集光
鏡により反射集光されて、被加熱物に到達する。従って、従来に比べ効率の良い
加熱処理が可能となる。
【0029】
以上説明したように、本考案の構成によれば、楕円集光鏡の前面に金の反射膜
が設けられているので、光源からの光のうち可視域から赤外域の光が効率よく楕
円集光鏡により反射集光されて、被加熱物に到達する。従って、従来に比べ効率
の良い加熱処理が可能となる。
また、楕円集光鏡を冷却する冷却機構が設けられているので、上記金の反射膜
の熱的損傷を防止することができる。
【図1】本考案の実施例のスポット加熱装置の概略を説
明するための平面図である。
明するための平面図である。
【図2】図1のスポット加熱装置の側面図である。
【図3】光ファイバが使用された従来のスポット加熱装
置の概略説明図である。
置の概略説明図である。
1 楕円集光鏡
10 第一焦点
15 第二焦点
2 光源
3 光ファイバ
31 入射端面
40 シャッタ駆動機構
41 シャッタ板
44 減光板
5 入射部ホルダー
7 冷却機構
8 被加熱物
フロントページの続き
(51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所
// H05K 3/34 T 9154−4E
B23K 101:42
Claims (1)
- 【請求項1】 楕円集光鏡と、この楕円集光鏡の第一焦
点の位置に配置される発光部を有する光源と、楕円集光
鏡の第二焦点の位置に配置される入射端面を有する光フ
ァイバとから構成され、前記楕円集光鏡の前面には、金
又は金化合物の反射膜が設けられているとともに、この
楕円集光鏡を冷却する冷却機構を具備することを特徴と
するスポット加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991026504U JPH04118286U (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | スポツト加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991026504U JPH04118286U (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | スポツト加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04118286U true JPH04118286U (ja) | 1992-10-22 |
Family
ID=31910956
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991026504U Pending JPH04118286U (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | スポツト加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04118286U (ja) |
-
1991
- 1991-03-28 JP JP1991026504U patent/JPH04118286U/ja active Pending
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