JPH04120131A - オルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
オルガノポリシロキサンの製造方法Info
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- JPH04120131A JPH04120131A JP2240033A JP24003390A JPH04120131A JP H04120131 A JPH04120131 A JP H04120131A JP 2240033 A JP2240033 A JP 2240033A JP 24003390 A JP24003390 A JP 24003390A JP H04120131 A JPH04120131 A JP H04120131A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
- C08G77/10—Equilibration processes
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- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
主粟上皇刊互分団
本発明は、オルガノシクロポリシロキサンをアルカリ触
媒の存在下で平衡化反応させてオルガノポリシロキサン
を得る場合に生じるシラノール基を高率でシリル化封止
することができ、このため安定かつ高品質で、電気・電
子分野においてポツティング剤、接着剤等として好適に
利用できるオルガノポリシロキサンを製造する方法に関
する。
媒の存在下で平衡化反応させてオルガノポリシロキサン
を得る場合に生じるシラノール基を高率でシリル化封止
することができ、このため安定かつ高品質で、電気・電
子分野においてポツティング剤、接着剤等として好適に
利用できるオルガノポリシロキサンを製造する方法に関
する。
の び が ゛ しよ゛と る
従来、オルガノポリシロキサンの製造方法として、オル
ガノシクロポリシロキサンをアルカリ触媒、例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、テト
ラアルキルフォスフオニウムハイドロオキサイド、テト
ラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドやこれらの
シラル−ト化合物等の存在下、加熱して平衡化すること
により製造する方法が知られているが、この反応では、
ヒドロキシル基又は水分の混入によりシラノール基が生
成し、その残存量は数百乃至数千ＰＰＭとなることが通
例である。この残存シラノール基は化学的に不安定で、
オルガノポリシロキサンの耐熱性などに悪影響を与える
ため、封止処理することが望まれる。
ガノシクロポリシロキサンをアルカリ触媒、例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、テト
ラアルキルフォスフオニウムハイドロオキサイド、テト
ラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドやこれらの
シラル−ト化合物等の存在下、加熱して平衡化すること
により製造する方法が知られているが、この反応では、
ヒドロキシル基又は水分の混入によりシラノール基が生
成し、その残存量は数百乃至数千ＰＰＭとなることが通
例である。この残存シラノール基は化学的に不安定で、
オルガノポリシロキサンの耐熱性などに悪影響を与える
ため、封止処理することが望まれる。
二の場合、化学的に不安定な物質の安定性を改善するた
めにシリル化反応が利用されることは広く知られており
、例えばアルコール性水酸基はトリアルキルクロロシラ
ン又はヘキサアルキルジシラザンを用いてシリル化され
る。しかし、トリアルキ夾クロロシランによるシリル化
の場合は、反応が完結する際に副生ずる塩酸を除去する
ため、三級アミンやピリジンなどの脱塩酸剤を用いる必
要があり、また、ヘキサアルキルジシラザンを用いた場
合にはその反応が遅く、反応完結までに長時間を要する
ことがら三フッ化酢酸等の酸触媒の添加が必要である。
めにシリル化反応が利用されることは広く知られており
、例えばアルコール性水酸基はトリアルキルクロロシラ
ン又はヘキサアルキルジシラザンを用いてシリル化され
る。しかし、トリアルキ夾クロロシランによるシリル化
の場合は、反応が完結する際に副生ずる塩酸を除去する
ため、三級アミンやピリジンなどの脱塩酸剤を用いる必
要があり、また、ヘキサアルキルジシラザンを用いた場
合にはその反応が遅く、反応完結までに長時間を要する
ことがら三フッ化酢酸等の酸触媒の添加が必要である。
それ故、上述のシリル化反応では、反応終了時に脱塩酸
剤や酸触媒を除去するための特別な工程を付与する必要
があった。
剤や酸触媒を除去するための特別な工程を付与する必要
があった。
従って、上記アルカリ触媒の存在下に平衡化反応で製造
したオルガノポリシロキサンのシラノール基を封鎖する
目的でトリアルキルクロロシラン又はヘキサアルキルジ
シラザンを用いてシリル化封鎖し、安定性を改善するこ
とはできるが、この方法では封止処理後に生成物を水洗
し、更に加熱減圧して、脱塩酸剤や酸触媒を留去しなけ
ればならないので工程が面倒であり、かつ、封止率も満
足できるものではなく、更に、酸触媒が過剰である場合
にはオルガノポリシロキサンがクラ・ノキングされてし
まうという不利もあった。
したオルガノポリシロキサンのシラノール基を封鎖する
目的でトリアルキルクロロシラン又はヘキサアルキルジ
シラザンを用いてシリル化封鎖し、安定性を改善するこ
とはできるが、この方法では封止処理後に生成物を水洗
し、更に加熱減圧して、脱塩酸剤や酸触媒を留去しなけ
ればならないので工程が面倒であり、かつ、封止率も満
足できるものではなく、更に、酸触媒が過剰である場合
にはオルガノポリシロキサンがクラ・ノキングされてし
まうという不利もあった。
また、特公昭６１−１２９３１号公報には、ヘキサオル
ガノシラザンとトリオルガノクロロシランとを同時に添
加してシリル化を行なう方法が提案されているが、この
方法でオルガノポリシロキサンのシラノール基を封止処
理しても、生成する塩を除去するために濾過工程が必要
であり、特に高粘度のオルガノポリシロキサンを製造す
るには多大の工程時間が必要となり、封止率も十分とは
言い難いものであった。
ガノシラザンとトリオルガノクロロシランとを同時に添
加してシリル化を行なう方法が提案されているが、この
方法でオルガノポリシロキサンのシラノール基を封止処
理しても、生成する塩を除去するために濾過工程が必要
であり、特に高粘度のオルガノポリシロキサンを製造す
るには多大の工程時間が必要となり、封止率も十分とは
言い難いものであった。
更に、上述したいずれの方法でシリル化を行なっても、
本質的には塩が生成するため、製造上十分な注意が払わ
れないと目的物質であるオルガノポリシロキサンにイオ
ン性の不純物が混入する恐れがあった。このような不純
物の混入は、電気・電子分野においてポツティング剤、
接着剤等として多く利用されているオルガノポリシロキ
サンにとって致命的な欠陥となる場合があり、工業的に
非常に不利であった。
本質的には塩が生成するため、製造上十分な注意が払わ
れないと目的物質であるオルガノポリシロキサンにイオ
ン性の不純物が混入する恐れがあった。このような不純
物の混入は、電気・電子分野においてポツティング剤、
接着剤等として多く利用されているオルガノポリシロキ
サンにとって致命的な欠陥となる場合があり、工業的に
非常に不利であった。
このように、アルカリ触媒の存在下に平衡化反応を行な
ってオルガノポリシロキサンを製造する際、残存するシ
ラノール基を工業的に有利にシリル化封止処理すること
は従来法では困難であった。
ってオルガノポリシロキサンを製造する際、残存するシ
ラノール基を工業的に有利にシリル化封止処理すること
は従来法では困難であった。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、簡単な操作で
、かつ、高封止率で残存シラノール基をシリル化封止し
て、安定かつ高品質なオルガノポリシロキサンを得るこ
とができるオルガノポリシロキサンの製造方法を提供す
ることを目的とする。
、かつ、高封止率で残存シラノール基をシリル化封止し
て、安定かつ高品質なオルガノポリシロキサンを得るこ
とができるオルガノポリシロキサンの製造方法を提供す
ることを目的とする。
本発明者は上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結
果、オルガノシクロポリシロキサンをアルカリ触媒の存
在下、加熱して平衡化し、オルガノポリシロキサンを得
た後、引き続いてこのオルガノポリシロキサンに下記式
（１） （但し、式中Ｒは一価の有機基である）で示される基を
分子中に少なくとも一個含有するシリルケテンアセクー
ル化合物を添加反応させることにより、上記オルガノポ
リシロキサンに残存するシラノール基が触媒を添加しな
くても容易にシリル化されること、この除塩の副生がな
いので副生塩の除去工程が不要で工程が非常に簡素化さ
れる上、イオン性不純物の混入の恐れもなく、かつ、オ
ルガノポリシロキサンのシラノール基を高率でシリル化
封鎖し得ること、それ故、簡単な操作で、しかも、高封
止率でシラノール基をシリル化封止して、安定かつ高品
質で電気・電子分野においてポツティング剤、接着剤等
として好適に使用することができるオルガノポリシロキ
サンを工業的に有利に製造できることを知見し、本発明
をなすに至った。
果、オルガノシクロポリシロキサンをアルカリ触媒の存
在下、加熱して平衡化し、オルガノポリシロキサンを得
た後、引き続いてこのオルガノポリシロキサンに下記式
（１） （但し、式中Ｒは一価の有機基である）で示される基を
分子中に少なくとも一個含有するシリルケテンアセクー
ル化合物を添加反応させることにより、上記オルガノポ
リシロキサンに残存するシラノール基が触媒を添加しな
くても容易にシリル化されること、この除塩の副生がな
いので副生塩の除去工程が不要で工程が非常に簡素化さ
れる上、イオン性不純物の混入の恐れもなく、かつ、オ
ルガノポリシロキサンのシラノール基を高率でシリル化
封鎖し得ること、それ故、簡単な操作で、しかも、高封
止率でシラノール基をシリル化封止して、安定かつ高品
質で電気・電子分野においてポツティング剤、接着剤等
として好適に使用することができるオルガノポリシロキ
サンを工業的に有利に製造できることを知見し、本発明
をなすに至った。
従って、本発明は、オルガノシクロポリシロキサンをア
ルカリ触媒の存在下、加熱して平衡化し、オルガノポリ
シロキサンを製造する方法において、該オルガノポリシ
ロキサン中のシラノール基を封鎖するため、該オルガノ
ポリシロキサンに上記（１）式で示される基を分子中に
少なくとも一個含有するシリルケテンアセクール化合物
を添加反応させて、上記シラノール基をシリル化封鎖す
ることを特徴とするオルガノポリシロキサンの製造方法
を提供する。
ルカリ触媒の存在下、加熱して平衡化し、オルガノポリ
シロキサンを製造する方法において、該オルガノポリシ
ロキサン中のシラノール基を封鎖するため、該オルガノ
ポリシロキサンに上記（１）式で示される基を分子中に
少なくとも一個含有するシリルケテンアセクール化合物
を添加反応させて、上記シラノール基をシリル化封鎖す
ることを特徴とするオルガノポリシロキサンの製造方法
を提供する。
以下、本発明につき更に詳述する。
本発明の製造方法においては、まず常法によりオルガノ
シクロポリシロキサンにアルカリ触媒を添加し、加熱し
て平衡化することによりオルガノポリシロキサンを得る
。
シクロポリシロキサンにアルカリ触媒を添加し、加熱し
て平衡化することによりオルガノポリシロキサンを得る
。
ここで、出発原料のオルガノンクロポリシロキサンとし
ては、例えば下記一般式 「ここでＲ′は、それぞれ独立に水素原子または炭素原
子数が１〜１０、好ましくは１〜８の非置換又は置換−
価炭化水素基であり、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、メチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基
ブテニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等
のアリール基、ベンジル基、２フエニルエチル基等のア
ラルキル基あるいはこれらの基の炭素原子に結合した水
素原子の一部又は全部がハロゲン原子、シアノ基等で置
換されたクロロメチル基、クロロプロピル基、３，３．
３−）リフルオロプロピル基、２−シアノエチル基等の
置換炭化水素基が例示される。またｎは３〜１０の整数
、好適には３又は４を示す。」 で示されるものが好適に用いられる。
ては、例えば下記一般式 「ここでＲ′は、それぞれ独立に水素原子または炭素原
子数が１〜１０、好ましくは１〜８の非置換又は置換−
価炭化水素基であり、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、メチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基
ブテニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等
のアリール基、ベンジル基、２フエニルエチル基等のア
ラルキル基あるいはこれらの基の炭素原子に結合した水
素原子の一部又は全部がハロゲン原子、シアノ基等で置
換されたクロロメチル基、クロロプロピル基、３，３．
３−）リフルオロプロピル基、２−シアノエチル基等の
置換炭化水素基が例示される。またｎは３〜１０の整数
、好適には３又は４を示す。」 で示されるものが好適に用いられる。
この場合、オルガノポリシロキサンの重合度を調節する
ために、上記オルガノシクロポリシロキサンと共にヘキ
サメチルジシロキサン、テトラメチルジビニルジシロキ
サン等の重合連鎖停止剤を添加することができる。その
添加量は適宜選定して、オルガノシクロポリシロキサン
のＲ’ｚＳｉＯ単位と重合連鎖停止剤との配合モル比に
より所望の重合度に調整することができる。
ために、上記オルガノシクロポリシロキサンと共にヘキ
サメチルジシロキサン、テトラメチルジビニルジシロキ
サン等の重合連鎖停止剤を添加することができる。その
添加量は適宜選定して、オルガノシクロポリシロキサン
のＲ’ｚＳｉＯ単位と重合連鎖停止剤との配合モル比に
より所望の重合度に調整することができる。
また、アルカリ触媒としては、例えば水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、水酸化セシウム、テトラアルキルフ
ォスフオニウムハイドロオキサイド、テトラアルキルア
ンモニウムハイドロオキサイドやこれらのシラル−ト化
合物等が挙げられる。特に、アルカリ触媒としてテトラ
アルキルフォスフオニウムハイドロオキサイド、テトラ
アルキルアンモニウムハイドロオキサイド及びこれらの
シラル−ト化合物を用いると、アルカリ触媒自身が１５
０ ”Ｃ程度の加熱により分解されるので、反応後に中
和剤を添加して除去する必要がなくなり、好適である。
、水酸化カリウム、水酸化セシウム、テトラアルキルフ
ォスフオニウムハイドロオキサイド、テトラアルキルア
ンモニウムハイドロオキサイドやこれらのシラル−ト化
合物等が挙げられる。特に、アルカリ触媒としてテトラ
アルキルフォスフオニウムハイドロオキサイド、テトラ
アルキルアンモニウムハイドロオキサイド及びこれらの
シラル−ト化合物を用いると、アルカリ触媒自身が１５
０ ”Ｃ程度の加熱により分解されるので、反応後に中
和剤を添加して除去する必要がなくなり、好適である。
なお、アルカリ触媒の添加量は触媒量とすることができ
、通常、オルガノポリシロキサン１モルに対して０．１
〜０．０１モル％である。
、通常、オルガノポリシロキサン１モルに対して０．１
〜０．０１モル％である。
上記平衡化反応の条件は通常の条件とすることができ、
例えば、９０〜１５０°Ｃに加熱して２〜１０時間反応
させるという条件を採用することができる。
例えば、９０〜１５０°Ｃに加熱して２〜１０時間反応
させるという条件を採用することができる。
平衡化後は、必要により中和剤としてトリクレジルフォ
スフェート、エチレンクロルヒドリン等の酸類を添加し
、残存するアルカリ触媒を中和することができる。
スフェート、エチレンクロルヒドリン等の酸類を添加し
、残存するアルカリ触媒を中和することができる。
而して、本発明では、上記方法で得たオルガノポリシロ
キサンに下記式（１） （但し、式中Ｒは一価の有機基である。）で示される基
を分子中に少なくとも一個含有するシリルケテンアセク
ール化合物を添加反応させる。
キサンに下記式（１） （但し、式中Ｒは一価の有機基である。）で示される基
を分子中に少なくとも一個含有するシリルケテンアセク
ール化合物を添加反応させる。
ここで、上記（１）式中のＲは例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ビニル基、
アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、フェニル基、
トリル基等の了り−ル基、ベンジル基、２−フェニルエ
チル基等のアラルキル基やこれらの水素原子の一部がハ
ロゲン原子で置換されたもの、例えばクロロメチル基、
３，３．３トリフルオロプロピル基等の炭素数１〜１０
の置換又は非置換−価炭化水素基、更に一０５ｉＲ：＋
”基（Ｒ’”は上で例示したような一価炭化水素基）な
どが挙げられる。
基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ビニル基、
アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、フェニル基、
トリル基等の了り−ル基、ベンジル基、２−フェニルエ
チル基等のアラルキル基やこれらの水素原子の一部がハ
ロゲン原子で置換されたもの、例えばクロロメチル基、
３，３．３トリフルオロプロピル基等の炭素数１〜１０
の置換又は非置換−価炭化水素基、更に一０５ｉＲ：＋
”基（Ｒ’”は上で例示したような一価炭化水素基）な
どが挙げられる。
典型的には、シリルケテンアセクール化合物として、下
記式（２）の化合物を用いることができる。
記式（２）の化合物を用いることができる。
（但し、式中Ｒ’、Ｒ２は水素原子又は上に例示したよ
うなＲと同様の非置換又は置換の一価炭化水素基、Ｒ３
はＲと同様の非置換又は置換の一価炭化水素基又は−Ｒ
’−５ｉＲ，’基（Ｒ’はアルキレン基、Ｒ５はアルコ
キシ基又はＲと同様の一価炭化水素基）を示す。） このようなシリルケテンアセタール化合物として具体的
には、下記式の化合物が例示される。
うなＲと同様の非置換又は置換の一価炭化水素基、Ｒ３
はＲと同様の非置換又は置換の一価炭化水素基又は−Ｒ
’−５ｉＲ，’基（Ｒ’はアルキレン基、Ｒ５はアルコ
キシ基又はＲと同様の一価炭化水素基）を示す。） このようなシリルケテンアセタール化合物として具体的
には、下記式の化合物が例示される。
上記シリルケテンアセタール化合物は、例えば
下記式（２）
れるジイソプロピルアミンリチウムを反応させた後、
これにハロシランを反応させることにより容易に合成す
ることができる （下記反応式参照） また、 シリルケテンアセタール化合物は、メタクリルエステル
にウィルキンソン錯体の存在下でハイドロジエンシラン
又はシロキサンを付加させることによっても得ることが
でき、具体的には下記反応式に従って合成することがで
きる。
ることができる （下記反応式参照） また、 シリルケテンアセタール化合物は、メタクリルエステル
にウィルキンソン錯体の存在下でハイドロジエンシラン
又はシロキサンを付加させることによっても得ることが
でき、具体的には下記反応式に従って合成することがで
きる。
ここで、メタクリルエステル、ハイドロジエンシラン又
はシロキサンは目的とするシリルケテンアセタール化合
物に応じたものが使用される。
はシロキサンは目的とするシリルケテンアセタール化合
物に応じたものが使用される。
本発明において、上記シリルケテンアセタール化合物は
下記反応式に従ってシラノール基をシリル化し、その際
、反応副生物としてエステル化合物を生成する。
下記反応式に従ってシラノール基をシリル化し、その際
、反応副生物としてエステル化合物を生成する。
このエステル化合物は、オルガノポリシロキサンの通常
の製造工程である減圧加熱スｌ−ＩＪノツプ程で容易に
除去され、かつ、エステル化合物は中性であるので塩の
生成もなく、オルガノポリシロキサン中にイオン的な不
純物が残存することもない。
の製造工程である減圧加熱スｌ−ＩＪノツプ程で容易に
除去され、かつ、エステル化合物は中性であるので塩の
生成もなく、オルガノポリシロキサン中にイオン的な不
純物が残存することもない。
ここで、シリルケテンアセクール化合物を用いたシラノ
ール基のシリル化反応は、製造されたオルガノポリシロ
キサンにおける残存シラノール基の理論モル量に対しシ
リルケテンアセタール化合物を通常等モル以上好ましく
は２〜３倍モル添加し、室温〜１５０ ”Ｃ１特に８０
〜１２０°Ｃの温度で行なうことができる。この場合、
反応時間は通常１〜５時間である。
ール基のシリル化反応は、製造されたオルガノポリシロ
キサンにおける残存シラノール基の理論モル量に対しシ
リルケテンアセタール化合物を通常等モル以上好ましく
は２〜３倍モル添加し、室温〜１５０ ”Ｃ１特に８０
〜１２０°Ｃの温度で行なうことができる。この場合、
反応時間は通常１〜５時間である。
なお、シリル化反応後、上記エステル化合物を減圧加熱
ストリップする場合は常法に従って行なうことができる
。
ストリップする場合は常法に従って行なうことができる
。
主亜公並果
本発明のオルガノポリシロキサンの製造方法によれば、
簡単な操作で、しかも、高封止率でシラノール基をシリ
ル化封止して安定かつ高品質なオルガノポリシロキサン
を工業的に有利に得ることができる。更に、本発明方法
で得られたオルガノポリシロキサンはイオン性不純物等
の混入の恐れがないもので、電気・電子分野においてポ
ツティング剤、接着剤等として好適に利用することがで
きる。
簡単な操作で、しかも、高封止率でシラノール基をシリ
ル化封止して安定かつ高品質なオルガノポリシロキサン
を工業的に有利に得ることができる。更に、本発明方法
で得られたオルガノポリシロキサンはイオン性不純物等
の混入の恐れがないもので、電気・電子分野においてポ
ツティング剤、接着剤等として好適に利用することがで
きる。
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない
。
するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない
。
〔実施例１〕
１．３−ジビニル−１，１，３，３，−テトラメチルジ
シロキサン２ｇとオクタメチルシクロテトラシロキサン
６００ｇとからなる混合物にテトラブチルフォスフォニ
ュウムハイドロオキサイド０．７ｇを添加し、１１０″
Ｃで４時間反応させた。
シロキサン２ｇとオクタメチルシクロテトラシロキサン
６００ｇとからなる混合物にテトラブチルフォスフォニ
ュウムハイドロオキサイド０．７ｇを添加し、１１０″
Ｃで４時間反応させた。
この反応液を１５０°Ｃで２時間加熱して触媒を分解さ
せ、中和を行ったところ、２５°Ｃでの粘度が３０００
０ｃｓ ｔで、シラノール含有量が４００ ｐｐｍであ
るシリコーンオイルが得られた。
せ、中和を行ったところ、２５°Ｃでの粘度が３０００
０ｃｓ ｔで、シラノール含有量が４００ ｐｐｍであ
るシリコーンオイルが得られた。
次に、このシリコーンオイル１００ｇに下記式で表され
る化合物１．２ｇを添加し、１００°Ｃで１時間反応さ
せた。この後、２００°Ｃ／ ０．１ ｔｏｒｒの減圧
下で１０時間ストリップを行ったところ、透明で全く濁
りのないシリコーンオイルが得られた。
る化合物１．２ｇを添加し、１００°Ｃで１時間反応さ
せた。この後、２００°Ｃ／ ０．１ ｔｏｒｒの減圧
下で１０時間ストリップを行ったところ、透明で全く濁
りのないシリコーンオイルが得られた。
このもののシラノール含有量は８０ｐｐｍであった。
〔実施例２］
オクタメチルシクロテトラシロキサン２４００ ｇと１
．２，３．４．−テトラビニル−１，２，３゜４−テト
ラメチルシクロテトラシロキサン２ｇ、ヘキサメチルジ
シロキサン６ｇからなる混合物を窒素ガス通気下で１１
０°Ｃ／２時間脱水を行った後、８０°Ｃまで冷却し、
（Ｃ４Ｈ９） ａＰＯＨを１．２ｇ加え、１４０°Ｃで
１６時間反応させた。この反応液を１５０°Ｃで３時間
加熱して触媒を失効させたところ、２５°Ｃでの粘度が
１５０００ｃｐのオイルを得た。
．２，３．４．−テトラビニル−１，２，３゜４−テト
ラメチルシクロテトラシロキサン２ｇ、ヘキサメチルジ
シロキサン６ｇからなる混合物を窒素ガス通気下で１１
０°Ｃ／２時間脱水を行った後、８０°Ｃまで冷却し、
（Ｃ４Ｈ９） ａＰＯＨを１．２ｇ加え、１４０°Ｃで
１６時間反応させた。この反応液を１５０°Ｃで３時間
加熱して触媒を失効させたところ、２５°Ｃでの粘度が
１５０００ｃｐのオイルを得た。
このオイルのシラノール基含有量は５００ｐｐｍであっ
た。
た。
次に、このオイル３００ｇに下記式
で表される化合物３ｇを添加し、１００″Ｃで１．５時
間反応させた。この後、２００ ’Ｃ／ １ ｔｏｒｒ
の減圧下で１０時間ストリップを行ったところ、透明で
全く濁りのないシリコーンオイルが得られた。
間反応させた。この後、２００ ’Ｃ／ １ ｔｏｒｒ
の減圧下で１０時間ストリップを行ったところ、透明で
全く濁りのないシリコーンオイルが得られた。
このもののシラノール基含有量は７５ｐｐｍであった。
〔実施例３〕
オクタフェニルシクロテトラシロキサン１４０ｇとオク
タメチルシクロテトラシロキサン１７００ ｇからなる
混合物を窒素通気下で１１０″Ｃ／２時間脱水を行った
後、８０°Ｃまで冷却し、ジビニルテトラメチルジシロ
キサ７５ｇと（Ｃ４Ｈ９） ４ＰＯＨを２．２ｇ加え、
１５０°Ｃで２００時間反応せた。この反応液を１４０
°Ｃで３時間加熱して触媒を失効させたところ、２５°
Ｃでの粘度が２００００ｃｐのオイルを得た。このオイ
ルのシラノール基含有量は５００ｐｐｍであった。
タメチルシクロテトラシロキサン１７００ ｇからなる
混合物を窒素通気下で１１０″Ｃ／２時間脱水を行った
後、８０°Ｃまで冷却し、ジビニルテトラメチルジシロ
キサ７５ｇと（Ｃ４Ｈ９） ４ＰＯＨを２．２ｇ加え、
１５０°Ｃで２００時間反応せた。この反応液を１４０
°Ｃで３時間加熱して触媒を失効させたところ、２５°
Ｃでの粘度が２００００ｃｐのオイルを得た。このオイ
ルのシラノール基含有量は５００ｐｐｍであった。
次に、このオイル２０００ ｇに下記式で表される化合
物２０ｇを添加し、１００°Ｃで３時間反応させた。こ
の後、２００°Ｃ／ ０．１ ｔｏｒｒの減圧下で１５
時間ストリップを行ったところ、透明で全く濁りのない
シリコーンオイルが得られた。
物２０ｇを添加し、１００°Ｃで３時間反応させた。こ
の後、２００°Ｃ／ ０．１ ｔｏｒｒの減圧下で１５
時間ストリップを行ったところ、透明で全く濁りのない
シリコーンオイルが得られた。
このもののシラノール基含有量は１２０ｐｐｍであった
。
。
出 願 人 信越化学工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、オルガノシクロポリシロキサンをアルカリ触媒の存
在下、加熱して平衡化し、オルガノポリシロキサンを製
造する方法において、該オルガノポリシロキサン中のシ
ラノール基を封鎖するため、該オルガノポリシロキサン
に下記式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（１） （但し、式中Ｒは一価の有機基である。） で示される基を分子中に少なくとも一個含有するシリル
ケテンアセタール化合物を添加反応させて、上記シラノ
ール基をシリル化封鎖することを特徴とするオルガノポ
リシロキサンの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2240033A JPH085962B2 (ja) | 1990-09-12 | 1990-09-12 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
| US07/757,753 US5130398A (en) | 1990-09-12 | 1991-09-11 | Preparation of organopolysiloxane |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2240033A JPH085962B2 (ja) | 1990-09-12 | 1990-09-12 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04120131A true JPH04120131A (ja) | 1992-04-21 |
| JPH085962B2 JPH085962B2 (ja) | 1996-01-24 |
Family
ID=17053471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2240033A Expired - Lifetime JPH085962B2 (ja) | 1990-09-12 | 1990-09-12 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5130398A (ja) |
| JP (1) | JPH085962B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2747683B1 (fr) * | 1996-04-19 | 1998-06-19 | Centre Nat Etd Spatiales | Procede de stabilisation de resines silicones a groupes silanols terminaux prealablement purifiees |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4780554A (en) * | 1984-11-20 | 1988-10-25 | Union Carbide Corporation | O-silylated ketene acetals and enol ethers and method of preparation |
| US4719276A (en) * | 1986-10-27 | 1988-01-12 | Dow Corning Corporation | Neutralization of catalyst in polymerization of polydiorganosiloxane |
| DE3727182A1 (de) * | 1987-08-14 | 1989-02-23 | Wacker Chemie Gmbh | Herstellung und weiterverarbeitung von mischungen mit einem hohen anteil an organocyclosiloxanen |
-
1990
- 1990-09-12 JP JP2240033A patent/JPH085962B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-09-11 US US07/757,753 patent/US5130398A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5130398A (en) | 1992-07-14 |
| JPH085962B2 (ja) | 1996-01-24 |
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