JPH085962B2 - オルガノポリシロキサンの製造方法 - Google Patents
オルガノポリシロキサンの製造方法Info
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- JPH085962B2 JPH085962B2 JP2240033A JP24003390A JPH085962B2 JP H085962 B2 JPH085962 B2 JP H085962B2 JP 2240033 A JP2240033 A JP 2240033A JP 24003390 A JP24003390 A JP 24003390A JP H085962 B2 JPH085962 B2 JP H085962B2
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- organopolysiloxane
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- silanol
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/06—Preparatory processes
- C08G77/10—Equilibration processes
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、オルガノシクロポリシロキサンをアルカリ
触媒の存在下で平衡化反応させてオルガノポリシロキサ
ンを得る場合に生じるシラノール基を高率でシリル化封
止することができ、このため安定かつ高品質で、電気・
電子分野においてポッティング剤、接着剤等として好適
に利用できるオルガノポリシロキサンを製造する方法に
関する。
触媒の存在下で平衡化反応させてオルガノポリシロキサ
ンを得る場合に生じるシラノール基を高率でシリル化封
止することができ、このため安定かつ高品質で、電気・
電子分野においてポッティング剤、接着剤等として好適
に利用できるオルガノポリシロキサンを製造する方法に
関する。
従来の技術及び発明が解決しようとする課題 従来、オルガノポリシロキサンの製造方法として、オ
ルガノシクロポリシロキサンをアルカリ触媒、例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、テ
トラアルキルフォスフォニウムハイドロオキサイド、テ
トラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドやこれら
のシラノレート化合物等の存在下、加熱して平衡下する
ことにより製造する方法が知られているが、この反応で
は、ヒドロキシル基又は水分の混入によりシラノール基
が生成し、その残存量は数百乃至数千PPMとなることが
通例である。この残存シラノール基は化学的に不安定
で、オルガノポリシロキサンの耐熱性などに悪影響を与
えるため、封止処理することが望まれる。
ルガノシクロポリシロキサンをアルカリ触媒、例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、テ
トラアルキルフォスフォニウムハイドロオキサイド、テ
トラアルキルアンモニウムハイドロオキサイドやこれら
のシラノレート化合物等の存在下、加熱して平衡下する
ことにより製造する方法が知られているが、この反応で
は、ヒドロキシル基又は水分の混入によりシラノール基
が生成し、その残存量は数百乃至数千PPMとなることが
通例である。この残存シラノール基は化学的に不安定
で、オルガノポリシロキサンの耐熱性などに悪影響を与
えるため、封止処理することが望まれる。
この場合、化学的に不安定な物質の安定性を改善する
ためにシリル化反応が利用されることは広く知られてお
り、例えばアルコール性水酸基はトリアルキルクロロシ
ラン又はヘキサアルキルジシラザンを用いてシリル化さ
れる。しかし、トリアルキルクロロシランによるシリル
化の場合は、反応が完結する際に副生する塩酸を除去す
るため、三級アミンやピリジンなどの脱塩酸剤を用いる
必要があり、また、ヘキサアルキルジシラザンを用いた
場合にはその反応が遅く、反応完結までに長時間を要す
ることから三フッ化酢酸等の酸触媒の添加が必要であ
る。それ故、上述のシリル化反応では、反応終了時に脱
塩酸剤や酸触媒を除去するための特別な工程を付与する
必要があった。
ためにシリル化反応が利用されることは広く知られてお
り、例えばアルコール性水酸基はトリアルキルクロロシ
ラン又はヘキサアルキルジシラザンを用いてシリル化さ
れる。しかし、トリアルキルクロロシランによるシリル
化の場合は、反応が完結する際に副生する塩酸を除去す
るため、三級アミンやピリジンなどの脱塩酸剤を用いる
必要があり、また、ヘキサアルキルジシラザンを用いた
場合にはその反応が遅く、反応完結までに長時間を要す
ることから三フッ化酢酸等の酸触媒の添加が必要であ
る。それ故、上述のシリル化反応では、反応終了時に脱
塩酸剤や酸触媒を除去するための特別な工程を付与する
必要があった。
従って、上記アルカリ触媒の存在下に平衡化反応で製
造したオルガノポリシロキサンのシラノール基を封鎖す
る目的でトリアルキルクロロシラン又はヘキサアルキル
ジシラザンを用いてシリル化封鎖し、安定性を改善する
ことはできるが、この方法では封止処理後に生成物を水
洗し、更に加熱減圧して、脱塩酸剤や酸触媒を留去しな
ければならないので工程が面倒であり、かつ、封止率も
満足できるものではなく、更に、酸触媒が過剰である場
合にはオルガノポリシロキサンがクラッキングされてし
まうという不利もあった。
造したオルガノポリシロキサンのシラノール基を封鎖す
る目的でトリアルキルクロロシラン又はヘキサアルキル
ジシラザンを用いてシリル化封鎖し、安定性を改善する
ことはできるが、この方法では封止処理後に生成物を水
洗し、更に加熱減圧して、脱塩酸剤や酸触媒を留去しな
ければならないので工程が面倒であり、かつ、封止率も
満足できるものではなく、更に、酸触媒が過剰である場
合にはオルガノポリシロキサンがクラッキングされてし
まうという不利もあった。
また、特公昭61−12931号公報には、ヘキサオルガノ
シラザンとトリオルガノクロロシランとを同時に添加し
てシリル化を行なう方法が提案されているが、この方法
でオルガノポリシロキサンのシラノール基を封止処理し
ても、生成する塩を除去するための濾過工程が必要であ
り、特に高粘度のオルガノポリシロキサンを製造するに
は多大の工程時間が必要となり、封止率も十分とは言い
難いものであった。
シラザンとトリオルガノクロロシランとを同時に添加し
てシリル化を行なう方法が提案されているが、この方法
でオルガノポリシロキサンのシラノール基を封止処理し
ても、生成する塩を除去するための濾過工程が必要であ
り、特に高粘度のオルガノポリシロキサンを製造するに
は多大の工程時間が必要となり、封止率も十分とは言い
難いものであった。
更に、上述したいずれの方法でシリル化を行なって
も、本質的には塩が生成するため、製造上十分な注意が
払われないと目的物質であるオルガノポリシロキサンに
イオン性の不純物が混入する恐れがあった。このような
不純物の混入は、電気・電子分野においてポッティング
剤、接着剤等として多く利用されているオルガノポリシ
ロキサンにとって致命的な欠陥となる場合があり、工業
的に非常に不利であった。
も、本質的には塩が生成するため、製造上十分な注意が
払われないと目的物質であるオルガノポリシロキサンに
イオン性の不純物が混入する恐れがあった。このような
不純物の混入は、電気・電子分野においてポッティング
剤、接着剤等として多く利用されているオルガノポリシ
ロキサンにとって致命的な欠陥となる場合があり、工業
的に非常に不利であった。
このように、アルカリ触媒の存在下に平衡化反応を行
なってオルガノポリシロキサンを製造する際、残存する
シラノール基を工業的に有利にシリル化封止処理するこ
とは従来法では困難であった。
なってオルガノポリシロキサンを製造する際、残存する
シラノール基を工業的に有利にシリル化封止処理するこ
とは従来法では困難であった。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、簡単な操作
で、かつ、高封止率で残存シラノール基をシリル化封止
して、安定かつ高品質なオルガノポリシロキサンを得る
ことができるオルガノポリシロキサンの製造方法を提供
することを目的とする。
で、かつ、高封止率で残存シラノール基をシリル化封止
して、安定かつ高品質なオルガノポリシロキサンを得る
ことができるオルガノポリシロキサンの製造方法を提供
することを目的とする。
課題を解決するための手段及び作用 本発明者は上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた
結果、オルガノシクロポリシロキサンをアルカリ触媒の
存在下、加熱して平衡化し、オルガノポリシロキサンを
得た後、引き続いてこのオルガノポリシロキサンに下記
式（１） （但し、式中Ｒは一価の有機基である） で示される基を分子中に少なくとも一個含有するシリル
ケテンアセタール化合物を添加反応させることにより、
上記オルガノポリシロキサンに残存するシラノール基が
触媒を添加しなくても容易にシリル化されること、この
際塩の副生がないので副生塩の除去工程が不要で工程が
非常に簡素化される上、イオン性不純物の混入の恐れも
なく、かつ、オルガノポリシロキサンのシラノール基を
高率でシリル化封鎖し得ること、それ故、簡単な操作
で、しかも、高封止率でシラノール基をシリル化封止し
て、安定かつ高品質で電気・電子分野においてポッティ
ング剤、接着剤等として好適に使用することができるオ
ルガノポリシロキサンを工業的に有利に製造できること
を知見し、本発明をなすに至った。
結果、オルガノシクロポリシロキサンをアルカリ触媒の
存在下、加熱して平衡化し、オルガノポリシロキサンを
得た後、引き続いてこのオルガノポリシロキサンに下記
式（１） （但し、式中Ｒは一価の有機基である） で示される基を分子中に少なくとも一個含有するシリル
ケテンアセタール化合物を添加反応させることにより、
上記オルガノポリシロキサンに残存するシラノール基が
触媒を添加しなくても容易にシリル化されること、この
際塩の副生がないので副生塩の除去工程が不要で工程が
非常に簡素化される上、イオン性不純物の混入の恐れも
なく、かつ、オルガノポリシロキサンのシラノール基を
高率でシリル化封鎖し得ること、それ故、簡単な操作
で、しかも、高封止率でシラノール基をシリル化封止し
て、安定かつ高品質で電気・電子分野においてポッティ
ング剤、接着剤等として好適に使用することができるオ
ルガノポリシロキサンを工業的に有利に製造できること
を知見し、本発明をなすに至った。
従って、本発明は、オルガノシクロポリシロキサンを
アルカリ触媒の存在下、加熱して平衡化し、オルガノポ
リシロキサンを製造する方法において、該オルガノポリ
シロキサン中のシラノール基を封鎖するため、該オルガ
ノポリシロキサンに上記（１）式で示される基を分子中
に少なくとも一個含有するシリルケテンアセタール化合
物を添加反応させて、上記シラノール基をシリル化封鎖
することを特徴とするオルガノポリシロキサンの製造方
法を提供する。
アルカリ触媒の存在下、加熱して平衡化し、オルガノポ
リシロキサンを製造する方法において、該オルガノポリ
シロキサン中のシラノール基を封鎖するため、該オルガ
ノポリシロキサンに上記（１）式で示される基を分子中
に少なくとも一個含有するシリルケテンアセタール化合
物を添加反応させて、上記シラノール基をシリル化封鎖
することを特徴とするオルガノポリシロキサンの製造方
法を提供する。
以下、本発明につき更に詳述する。
本発明の製造方法においては、まず常法によりオルガ
ノシクロポリシロキサンにアルカリ触媒を添加し、加熱
して平衡化することによりオルガノポリシロキサンを得
る。
ノシクロポリシロキサンにアルカリ触媒を添加し、加熱
して平衡化することによりオルガノポリシロキサンを得
る。
ここで、出発原料のオルガノシクロポリシロキサンと
しては、例えば下記一般式 「ここでＲ′は、それぞれ独立に水素原子または炭素原
子数が１〜10、好ましくは１〜８の非置換又は置換一価
炭化水素基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基ブ
テニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等の
アリール基、ベンジル基、２−フェニルエチル基等のア
ラルキル基あるいはこれらの基の炭素原子に結合した水
素原子の一部又は全部がハロゲン原子、シアノ基等で置
換されたクロロメチル基、クロロプロピル基、3,3,3−
トリフルオロプロピル基、２−シアノエチル基等の置換
炭化水素基が例示される。またｎは３〜10の整数、好適
には３又は４を示す。」 で示されるものが好適に用いられる。
しては、例えば下記一般式 「ここでＲ′は、それぞれ独立に水素原子または炭素原
子数が１〜10、好ましくは１〜８の非置換又は置換一価
炭化水素基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基等のアルキル基、ビニル基、アリル基ブ
テニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等の
アリール基、ベンジル基、２−フェニルエチル基等のア
ラルキル基あるいはこれらの基の炭素原子に結合した水
素原子の一部又は全部がハロゲン原子、シアノ基等で置
換されたクロロメチル基、クロロプロピル基、3,3,3−
トリフルオロプロピル基、２−シアノエチル基等の置換
炭化水素基が例示される。またｎは３〜10の整数、好適
には３又は４を示す。」 で示されるものが好適に用いられる。
この場合、オルガノポリシロキサンの重合度を調整す
るために、上記オルガノシクロポリシロキサンと共にヘ
キサメチルジシロキサン、テトラメチルジビニルジシロ
キサン等の重合連鎖停止剤を添加することができる。そ
の添加量は適宜選定して、オルガノシクロポリシロキサ
ンのＲ′2SiO単位と重合連鎖停止剤との配合モル比によ
り所望の重合度に調整することができる。
るために、上記オルガノシクロポリシロキサンと共にヘ
キサメチルジシロキサン、テトラメチルジビニルジシロ
キサン等の重合連鎖停止剤を添加することができる。そ
の添加量は適宜選定して、オルガノシクロポリシロキサ
ンのＲ′2SiO単位と重合連鎖停止剤との配合モル比によ
り所望の重合度に調整することができる。
また、アルカリ触媒としては、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、テトラアルキル
フォスフォニウムハイドロオキサイド、テトラアルキル
アンモニウムハイドロオキサイドやこれらのシラノレー
ト化合物等が挙げられる。特に、アルカリ触媒としてテ
トラアルキルフォスフォニウムハイドロオキサイド、テ
トラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド及びこれ
らのシラノレート化合物を用いると、アルカリ触媒自身
が150℃程度の加熱により分解されるので、反応後に中
和剤を添加して除去する必要がなくなり、好適である。
ム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、テトラアルキル
フォスフォニウムハイドロオキサイド、テトラアルキル
アンモニウムハイドロオキサイドやこれらのシラノレー
ト化合物等が挙げられる。特に、アルカリ触媒としてテ
トラアルキルフォスフォニウムハイドロオキサイド、テ
トラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド及びこれ
らのシラノレート化合物を用いると、アルカリ触媒自身
が150℃程度の加熱により分解されるので、反応後に中
和剤を添加して除去する必要がなくなり、好適である。
なお、アルカリ触媒の添加量は触媒量とすることがで
き、通常、オルガノポリシロキサン１モルに対して0.1
〜0.01モル％である。
き、通常、オルガノポリシロキサン１モルに対して0.1
〜0.01モル％である。
上記平衡化反応の条件は通常の条件とすることがで
き、例えば、90〜150℃に加熱して２〜10時間反応させ
るという条件を採用することができる。
き、例えば、90〜150℃に加熱して２〜10時間反応させ
るという条件を採用することができる。
平衡化後は、必要により中和剤としてトリクレジルフ
ォスフェート、エチレンクロルヒドリン等の酸類の添加
し、残存するアルカリ触媒を中和することができる。
ォスフェート、エチレンクロルヒドリン等の酸類の添加
し、残存するアルカリ触媒を中和することができる。
而して、本発明では、上記方法で得たオルガノポリシ
ロキサンに下記式（１） （但し、式中Ｒは一価の有機基である。） で示される基を分子中に少なくとも一個含有するシリル
ケテンアセタール化合物を添加反応させる。
ロキサンに下記式（１） （但し、式中Ｒは一価の有機基である。） で示される基を分子中に少なくとも一個含有するシリル
ケテンアセタール化合物を添加反応させる。
ここで、上記（１）式中をＲは例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ビニル
基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、フェニル
基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、２−フェニ
ルエチル基等のアラルキル基やこれらの水素原子の一部
がハロゲン原子で置換されたもの、例えばクロロメチル
基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等の酸素数１〜10
の置換又は非置換一価炭化水素基、更に−OSiR3″基
（Ｒ″は上で例示したような一価炭化水素基）などが挙
げられる。
ル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ビニル
基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、フェニル
基、トリル基等のアリール基、ベンジル基、２−フェニ
ルエチル基等のアラルキル基やこれらの水素原子の一部
がハロゲン原子で置換されたもの、例えばクロロメチル
基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等の酸素数１〜10
の置換又は非置換一価炭化水素基、更に−OSiR3″基
（Ｒ″は上で例示したような一価炭化水素基）などが挙
げられる。
典型的には、シリルケテンアセタール化合物として、
下記式（２）の化合物を用いることができる。
下記式（２）の化合物を用いることができる。
（但し、式中R1,R2は水素原子又は上に例示したような
Ｒと同様の非置換又は置換の一価炭化水素基、R3はＲと
同様の非置換又は置換の一価炭化水素基又は−R4−SiR3
5基（R4はアルキレン基、R5はアルコキシ基又はＲと同
様の一価炭化水素基）を示す。） このようなシリルケテンアセタール化合物として具体
的には、下記式の化合物が例示される。
Ｒと同様の非置換又は置換の一価炭化水素基、R3はＲと
同様の非置換又は置換の一価炭化水素基又は−R4−SiR3
5基（R4はアルキレン基、R5はアルコキシ基又はＲと同
様の一価炭化水素基）を示す。） このようなシリルケテンアセタール化合物として具体
的には、下記式の化合物が例示される。
上記シリルケテンアセタール化合物は、例えば下記式
（２） で示される化合物に で表わされるジイソプロピルアミノリチウムを反応させ
た後、これにハロシランを反応させることにより容易に
合成することができる（下記反応式参照）。
（２） で示される化合物に で表わされるジイソプロピルアミノリチウムを反応させ
た後、これにハロシランを反応させることにより容易に
合成することができる（下記反応式参照）。
また、シリルケテンアセタール化合物は、メタクリル
エステルにウイルキンソン錯体の存在下でハイドロジェ
ンシラン又はシロキサンを付加させることによっても得
ることができ、具体的には下記反応式に従って合成する
ことができる。
エステルにウイルキンソン錯体の存在下でハイドロジェ
ンシラン又はシロキサンを付加させることによっても得
ることができ、具体的には下記反応式に従って合成する
ことができる。
ここで、メタクリルエステル、ハイドロジェンシラン
又はシロキサンを目的とするシリルケテンアセタール化
合物に応じたものが使用される。
又はシロキサンを目的とするシリルケテンアセタール化
合物に応じたものが使用される。
本発明において、上記シリルケテンアセタール化合物
は下記反応式に従ってシラノール基をシリル化し、その
際、反応副生物としてエステル化合物を生成する。
は下記反応式に従ってシラノール基をシリル化し、その
際、反応副生物としてエステル化合物を生成する。
このエステル化合物は、オルガノポリシロキサンの通
常の製造工程である減圧加熱ストリップ工程で容易に除
去され、かつ、エステル化合物は中性であるので塩の生
成もなく、オルガノポリシロキサン中にイオン的な不純
物が残存することもない。
常の製造工程である減圧加熱ストリップ工程で容易に除
去され、かつ、エステル化合物は中性であるので塩の生
成もなく、オルガノポリシロキサン中にイオン的な不純
物が残存することもない。
ここで、シリルケテンアセタール化合物を用いたシラ
ノール基のシリル化反応は、製造されたオルガノポリシ
ロキサンにおける残存シラノール基の理論モル量に対し
シリルケテンアセタール化合物を常時等モル以上好まし
くは２〜３倍モル添加し、室温〜150℃、特に80〜120℃
の温度で行なうことができる。この場合、反応時間は通
常１〜５時間である。
ノール基のシリル化反応は、製造されたオルガノポリシ
ロキサンにおける残存シラノール基の理論モル量に対し
シリルケテンアセタール化合物を常時等モル以上好まし
くは２〜３倍モル添加し、室温〜150℃、特に80〜120℃
の温度で行なうことができる。この場合、反応時間は通
常１〜５時間である。
なお、シリル化反応後、上記エステル化合物を減圧加
熱ストリップする場合は常法に従って行なうことができ
る。
熱ストリップする場合は常法に従って行なうことができ
る。
発明の効果 本発明のオルガノポリシロキサンの製造方法によれ
ば、簡単な操作で、しかも、高封止率でシラノール基を
シリル化封止して安定かつ高品質なオルガノポリシロキ
サンを工業的に有利に得ることができる。更に、本発明
方法で得られたオルガノポリシロキサンはイオン性不純
物等の混入の恐れがないもので、電気・電子分野におい
てポッティング剤、接着剤等として好適に利用すること
ができる。
ば、簡単な操作で、しかも、高封止率でシラノール基を
シリル化封止して安定かつ高品質なオルガノポリシロキ
サンを工業的に有利に得ることができる。更に、本発明
方法で得られたオルガノポリシロキサンはイオン性不純
物等の混入の恐れがないもので、電気・電子分野におい
てポッティング剤、接着剤等として好適に利用すること
ができる。
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説
明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではな
い。
明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではな
い。
〔実施例１〕 1,3,−ジビニル−1,1,3,3,−テトラメチルジシロキサ
ン2gとオクタメチルシクロテトラシロキサン600gとから
なる混合物にテトラブチルフォスフォニュウムハイドロ
オキサイド0.7gを添加し、110℃で４時間反応させた。
この反応液を150℃で２時間加熱して触媒を分解させ、
中和を行ったところ、25℃での粘度が30000cstで、シラ
ノール含有量が400ppmであるシリコーンオイルが得られ
た。
ン2gとオクタメチルシクロテトラシロキサン600gとから
なる混合物にテトラブチルフォスフォニュウムハイドロ
オキサイド0.7gを添加し、110℃で４時間反応させた。
この反応液を150℃で２時間加熱して触媒を分解させ、
中和を行ったところ、25℃での粘度が30000cstで、シラ
ノール含有量が400ppmであるシリコーンオイルが得られ
た。
次に、このシリコーンオイル100gに下記式 で表される化合物1.2gを添加し、100℃で１時間反応さ
せた。この後、200℃/0.1torrの減圧下で10時間ストリ
ップを行ったところ、透明で全く濁りのないシリコーン
オイルが得られた。このもののシラノール含有量は80pp
mであった。
せた。この後、200℃/0.1torrの減圧下で10時間ストリ
ップを行ったところ、透明で全く濁りのないシリコーン
オイルが得られた。このもののシラノール含有量は80pp
mであった。
〔実施例２〕 オクタメチルシクロテトラシロキサン2400gと1,2,3,
4,−テトラビニル−1,2,3,4−テトラメチルシクロテト
ラシロキサン2g、ヘキサメチルジシロキサン6gからなる
混合物を窒素ガス通気下で110℃/2時間脱水を行った
後、80℃まで冷却し、（C4H9）4POHを1.2g加え、140℃
で16時間反応させた。この反応液を150℃で３時間加熱
して触媒を失効させたところ、25℃での粘度が15000cp
のオイルを得た。このオイルのシラノール基含有量は50
0ppmであった。
4,−テトラビニル−1,2,3,4−テトラメチルシクロテト
ラシロキサン2g、ヘキサメチルジシロキサン6gからなる
混合物を窒素ガス通気下で110℃/2時間脱水を行った
後、80℃まで冷却し、（C4H9）4POHを1.2g加え、140℃
で16時間反応させた。この反応液を150℃で３時間加熱
して触媒を失効させたところ、25℃での粘度が15000cp
のオイルを得た。このオイルのシラノール基含有量は50
0ppmであった。
次に、このオイル300gに下記式 で表される化合物3gを添加し、100℃で1.5時間反応させ
た。この後、200℃/1torrの減圧下で10時間ストリップ
を行ったところ、透明で全く濁りのないシリコーンオイ
ルが得られた。このもののシラノール基含有量は75ppm
であった。
た。この後、200℃/1torrの減圧下で10時間ストリップ
を行ったところ、透明で全く濁りのないシリコーンオイ
ルが得られた。このもののシラノール基含有量は75ppm
であった。
〔実施例３〕 オクタフェニルシクロテトラシロキサン140gとオクタ
メチルシクロテトラシロキサン1700gからなる混合物を
窒素通気下で110℃/2時間脱水を行った後、80℃まで冷
却し、ジビニルテトラメチルジシロキサン6gと（C4H9）
4POH2.2g加え、150℃で20時間反応させた。この反応液
を140℃で３時間加熱して触媒を失効させたところ、25
℃で粘度が20000cpのオイルを得た。このオイルのシラ
ノール基含有量は500ppmであった。
メチルシクロテトラシロキサン1700gからなる混合物を
窒素通気下で110℃/2時間脱水を行った後、80℃まで冷
却し、ジビニルテトラメチルジシロキサン6gと（C4H9）
4POH2.2g加え、150℃で20時間反応させた。この反応液
を140℃で３時間加熱して触媒を失効させたところ、25
℃で粘度が20000cpのオイルを得た。このオイルのシラ
ノール基含有量は500ppmであった。
次に、このオイル2000gに下記式 で表される化合物20gを添加し、100℃で３時間反応させ
た。この後、200℃/0.1torrの減圧下で15時間ストリッ
プを行ったところ、透明で全く濁りのないシリコーンオ
イルが得られた。このもののシラノール基含有量は120p
pmであった。
た。この後、200℃/0.1torrの減圧下で15時間ストリッ
プを行ったところ、透明で全く濁りのないシリコーンオ
イルが得られた。このもののシラノール基含有量は120p
pmであった。
Claims (1)
- 【請求項１】オルガノシクロポリシロキサンをアルカリ
触媒の存在下、加熱して平衡化し、オルガノポリシロキ
サンを製造する方法において、該オルガノポリシロキサ
ン中のシラノール基を封鎖するため、該オルガノポリシ
ロキサンに下記式（１） （但し、式中Ｒは一価の有機基である。） で示される基を分子中に少なくとも一個含有するシリル
ケテンアセタール化合物を添加反応させて、上記シラノ
ール基をシリル化封鎖することを特徴とするオルガノポ
リシロキサンの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2240033A JPH085962B2 (ja) | 1990-09-12 | 1990-09-12 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
| US07/757,753 US5130398A (en) | 1990-09-12 | 1991-09-11 | Preparation of organopolysiloxane |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2240033A JPH085962B2 (ja) | 1990-09-12 | 1990-09-12 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04120131A JPH04120131A (ja) | 1992-04-21 |
| JPH085962B2 true JPH085962B2 (ja) | 1996-01-24 |
Family
ID=17053471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2240033A Expired - Lifetime JPH085962B2 (ja) | 1990-09-12 | 1990-09-12 | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5130398A (ja) |
| JP (1) | JPH085962B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2747683B1 (fr) * | 1996-04-19 | 1998-06-19 | Centre Nat Etd Spatiales | Procede de stabilisation de resines silicones a groupes silanols terminaux prealablement purifiees |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4780554A (en) * | 1984-11-20 | 1988-10-25 | Union Carbide Corporation | O-silylated ketene acetals and enol ethers and method of preparation |
| US4719276A (en) * | 1986-10-27 | 1988-01-12 | Dow Corning Corporation | Neutralization of catalyst in polymerization of polydiorganosiloxane |
| DE3727182A1 (de) * | 1987-08-14 | 1989-02-23 | Wacker Chemie Gmbh | Herstellung und weiterverarbeitung von mischungen mit einem hohen anteil an organocyclosiloxanen |
-
1990
- 1990-09-12 JP JP2240033A patent/JPH085962B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-09-11 US US07/757,753 patent/US5130398A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5130398A (en) | 1992-07-14 |
| JPH04120131A (ja) | 1992-04-21 |
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