JPH04121009U - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 Ｉコアでの磁路を拡張して磁気抵抗を可及的
に小さくし得る磁気ヘッドを提供することにある。 【構成】 高飽和磁束密度を有する金属磁性膜（１）と
絶縁薄膜（２）とを交互に積層した薄いラミネート層
（３）を非磁性体板（４）で両側から挟み込んだＣコア
（５）とＩコア（６）とを接合一体化したものにおい
て、上記Ｉコア（６）のラミネート層（３）両側の非磁
性体板（４）に、フロントギャップｇ近傍部位を除く上
部端縁（Ａ）からリアギャップg₁に達するように高飽和
磁束密度を有する金属磁性体（13）を埋設したことであ
る。この金属磁性体（13）の非磁性体板（４）への埋設
はＣコア（５）について行なってもよい。また、上記金
属磁性体（13）は、フロントギャップｇ近傍部位を除く
上部端縁（Ａ）からリアギャップｇ₁に向けてトラック
幅Ｔに沿って幅広にすることが望ましい。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は磁気ヘッドに関し、詳しくはＶＴＲ装置などに使用される高密度磁気 記録用の積層型磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】

例えば、ＶＴＲ装置などの磁気記録再生装置に使用される高密度記録用磁気ヘ ッドには積層型のものがある。図８の（ａ）（ｂ）はダブルアジマスタイプの積 層型高密度記録用磁気ヘッドを示す。この磁気ヘッドは、高飽和磁束密度を有す るセンダスト等の金属磁性膜（１）とＳｉＯ₂ やＡｌ₂Ｏ₃等の絶縁薄膜（２）と を交互に積層した薄いラミネート層（３）を、セラミック等の非磁性体板（４） で両側から挟み込んだＣ字状コア（５）とＩ字状コア（６）〔以下Ｃコア、Ｉコ アと称す〕とを接合一体化したものである。

【０００３】 上記Ｃコア（５）とＩコア（６）とは、Ｉコア（６）の下部に設けられたガラ ス溜り部（７）とＣコア（５）の略中央に設けられた巻き線窓（８）のガラス（ ９）（10）でもって接合一体化されている。また、上記Ｃコア（５）の外側面に は巻き線溝（11）が形成され、この巻き線溝（11）と巻き線窓（８）を利用して 線材を巻回することによりコイルが形成される。このＣコア（５）とＩコア（６ ）との接合面間には、ギャップスペーサとなるＳｉＯ₂ 等の非磁性体薄膜〔図示 せず〕を介在させることにより両コア（５）（６）の上部に磁気ギャップｇが形 成される。尚、両コア（５）（６）の上部に形成される磁気ギャップｇ〔以下フ ロントギャップと称す〕に対して両コア（５）（６）の下部にはリアギャップg₁ が形成される。上記フロントギャップｇは、ラミネート層（３）の厚みによりト ラック幅Ｔが設定される。

【０００４】 磁気記録時には、磁気記録媒体との摺接面（12）においてフロントギャップｇ 近傍で漏れる磁束により上記磁気記録媒体を磁化し、再生時には、磁気記録媒体 の走行により生じる磁束の変化をフロントギャップｇでピックアップしてその磁 束変化に応じた起電力を発生させている。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

ところで、上記磁気ヘッドはダブルアジマスタイプとして使用されるため、Ｉ コア（６）が磁気記録媒体の走行方向、即ち、トラック幅方向と直交する方向に 沿って非常に薄くせざるを得ない。そのため、Ｉコア（６）での磁路が非常に狭 いものとなり、その結果、Ｉコア（６）での磁気抵抗が大きくなって再生効率が 大幅に低下するという問題があった。

【０００６】 そこで、本考案は上記問題点に鑑みて提案されたもので、その目的とするとこ ろは、Ｉコアでの磁路を拡張して磁気抵抗を可及的に小さくし得る磁気ヘッドを 提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】

本考案における上記目的を達成するための技術的手段は、高飽和磁束密度を有 する金属磁性膜と絶縁薄膜とを交互に積層した薄いラミネート層を非磁性体板で 両側から挟み込んだＣコアとＩコアとを接合一体化したものにおいて、上記Ｉコ アのラミネート層両側の非磁性体板に、フロントギャップ近傍部位を除く上部端 縁からリアギャップに達するように高飽和磁束密度を有する金属磁性体を埋設し たことである。この金属磁性体の非磁性体板への埋設はＣコアについて行なって もよい。

【０００８】 また、上記金属磁性体は、フロントギャップ近傍部位を除く上部端縁からリア ギャップに向けてトラック幅に沿って幅広にすることが望ましい。

【０００９】

【作用】

本考案に係る磁気ヘッドでは、Ｉコアの非磁性体板に高飽和磁束密度を有する 金属磁性体を埋設したから、上記Ｉコアでの磁路がその金属磁性体の分だけ調整 ・整合されて磁気抵抗を小さくすることができる。この金属磁性体の埋設をＣコ アについて行なえば同様の作用が得られる。

【００１０】 また、上記金属磁性体を、フロントギャップ近傍部位を除く上部端縁からリア ギャップに向けて幅広にすれば、両コアの接合時でのラミネート層のトラックず れのよる磁気抵抗の増大をリアギャップでの金属磁性体でもって抑制することが できる。

【００１１】

【実施例】

本考案に係る磁気ヘッドの実施例を図１乃至図７を参照しながら説明する。尚 、図８の（ａ）（ｂ）と同一又は相当部分には同一参照符号を付して重複説明は 省略する。

【００１２】 本考案の特徴はＩコア（６）にある。即ち、図１及び図２に示すようにＩコア （６）のラミネート層（３）両側の非磁性体板（４）に、フロントギャップｇ近 傍部位を除く上部端縁（Ａ）からリアギャップg₁に達するように高飽和磁束密度 を有する金属磁性体（13）を埋設する。具体的には、Ｉコア（６）のフロントギ ャップｇ近傍では磁気記録時に漏れ磁束が発生し易いように磁気抵抗が大きい方 がよいため、上記Ｉコア（６）の磁気記録媒体との摺接面（12）でフロントギャ ップｇ近傍部位を除く上部端縁（Ａ）から、リアギャップg₁となるＣコア（５） との接合面に達するまで、例えば、センダスト等の高飽和磁束密度を有する金属 磁性体（13）を埋設する。従って、図１に示すように金属磁性体（13）は、Ｉコ ア（６）の上部内側部分、即ち、フロントギャップｇ近傍部位を除くようにして 埋設される。

【００１３】 上記磁気ヘッドでは、Ｉコア（６）での磁路がラミネート層（３）の両側にあ る金属磁性体（13）の分だけ拡張されることになり、その磁路での磁気抵抗が小 さくなる。上記金属磁性体（13）は、フロントギャップｇ近傍に存在しないので 、漏れ磁束の発生に悪影響を及ぼすことはない。

【００１４】 ここで、図２に示すように上記金属磁性体（13）は、磁気記録媒体との摺接面 （12）でフロントギャップｇ近傍部位を除く上部端縁（Ａ）からリアギャップg₁ に向けてトラック幅Ｔ方向に沿って幅広となるように形成する。

【００１５】 ここで、後述するようにＩコア（６）をＣコア（５）に接合する際、Ｉコア（ ６）とＣコア（５）のラミネート層（３）が共に薄いため、リアギャップg₁にお いて突き合わされたラミネート層（３）同士でトラックずれが発生し易い。しか しながら、上述したようにリアギャップg₁での金属磁性体（13）を幅広にすれば 、上記トラックずれにより磁気抵抗が増大することをトラック両側にある金属磁 性体でもって抑制することができる。

【００１６】 次に、本考案の磁気ヘッドの製造方法を図３乃至図７を参照しながら簡単に説 明する。尚、実際上は一つの基板について多数の磁気ヘッドを製作するが以下で は一つの磁気ヘッドについて説明する。

【００１７】 まず、図３に示すようにセラミック等の非磁性体板（４）を用意し、その非磁 性体板（４）の接合面に凹溝（14）を形成する。そして、非磁性体板（４）の接 合面にセンダスト等の高飽和磁束密度を有する金属磁性体をスパッタリング等に より被着させ、その後のラッピングでもって図４に示すように金属磁性体（13） を非磁性体板（４）の凹溝（14）に埋設する。その上に、図５に示すようにセン ダスト等の金属磁性膜（１）とＳｉＯ₂ やＡｌ₂Ｏ₃等の絶縁薄膜（２）とを交互 にスパッタリング等により被着させてラミネート層（３）を形成する。次に、図 ６に示すように上記非磁性体板（４）とは逆向きに凹溝（14）を形成してその凹 溝（14）に金属磁性体（13）を埋設したもう一つの非磁性体板（４）を用意し、 その非磁性体板（４）を上記ラミネート層（３）上にガラス等で接着固定し、そ の接合面をラッピング等で鏡面加工することによりＩコア（６）となる。一方、 Ｃコア（５）は、Ｉコア（６）のように金属磁性体（13）を埋設することなく、 非磁性体板（４）に金属磁性膜（１）と絶縁薄膜（２）とからなるラミネート層 （３）を形成した上でもう一つの非磁性体板（４）を接着固定し、巻き線窓（８ ）及び巻き線溝（11）を形成して更に接合面をラッピング等で鏡面加工すること により製作される。このようにして得られたＩコア（６）とＣコア（５）とを図 ７に示すようにその接合面を突き合わせて接合一体化することにより図１に示す 磁気ヘッドが得られる。

【００１８】 尚、上記実施例ではＩコア（６）に金属磁性体（13）を埋設した場合について 説明したが、本考案はこれに限定されることなく、Ｃコア（５）に金属磁性体を Ｉコア（６）の場合と同様にして埋設するようにしてもよいのは勿論である。

【００１９】

【考案の効果】

本考案に係る磁気ヘッドによれば、Ｉコアのラミネート層両側の非磁性体板に 、フロントギャップ近傍部位を除く上部端縁からリアギャップに達するように高 飽和磁束密度を有する金属磁性体を埋設したことにより、Ｉコアでの磁路がその 金属磁性体の分だけ拡張されて磁気抵抗を小さくすることができ、簡便な手段で もって再生効率の向上が図れる。この金属磁性体の埋設をＣコアについて行なえ ば同様の効果が得られる。

【００２０】 また、上記金属磁性体を、フロントギャップ近傍部位を除く上部端縁からリア ギャップに向けて幅広にすれば、両コアの接合時でのラミネート層のトラックず れのよる磁気抵抗の増大をリアギャップでの金属磁性体でもって抑制することが でき、再生効率をより一層向上させることができると共に、両コアの接合時にリ アギャップでの高精度な位置合わせが必要としなくなって作業性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）は本考案に係る磁気ヘッドの実施例を示
す正面図、（ｂ）は（ａ）の磁気ヘッドの平面図

【図２】図１の（ｂ）のＩ−Ｉ線に沿う断面図

【図３】図１の磁気ヘッドの製造を説明するためのもの
で非磁性体板に凹溝を形成した状態を示す斜視図

【図４】図３の非磁性体板の凹溝に金属磁性体を埋設し
た状態を示す斜視図

【図５】図４の非磁性体板にラミネート層を被着形成し
た状態を示す斜視図

【図６】図５の非磁性体板のラミネート層上にもう一つ
の非磁性体板を接着固定した状態を示す斜視図

【図７】図６のＩコアとＣコアとをその接合面を突き合
わせて接合一体化する状態を示す斜視図

【図８】（ａ）は磁気ヘッドの従来例を示す正面図、
（ｂ）は（ａ）の磁気ヘッドの平面図

【符号の説明】

１ 金属磁性膜 ２ 絶縁薄膜 ３ ラミネート層 ４ 非磁性体板 ５ Ｃ字状コア ６ Ｉ字状コア 13 金属磁性体 ｇ フロントギャップ g₁ リアギャップ Ａ フロントギャップ近傍部位を除く上部端縁 Ｔ トラック幅

Claims (3)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 高飽和磁束密度を有する金属磁性膜と絶
   縁薄膜とを交互に積層した薄いラミネート層を非磁性体
   板で両側から挟み込んだＣ字状コアとＩ字状コアとを接
   合一体化したものにおいて、上記Ｉ字状コアのラミネー
   ト層両側の非磁性体板に、フロントギャップ近傍部位を
   除く上部端縁からリアギャップに達するように高飽和磁
   束密度を有する金属磁性体を埋設したことを特徴とする
   磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 高飽和磁束密度を有する金属磁性膜と絶
   縁薄膜とを交互に積層した薄いラミネート層を非磁性体
   板で両側から挟み込んだＣ字状コアとＩ字状コアとを接
   合一体化したものにおいて、上記Ｃ字状コアのラミネー
   ト層両側の非磁性体板に、フロントギャップ近傍部位を
   除く上部端縁からリアギャップに達するように高飽和磁
   束密度を有する金属磁性体を埋設したことを特徴とする
   磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 金属磁性体は、フロントギャップ近傍部
   位を除く上部端縁からリアギャップに向けてトラック幅
   に沿って幅広にしたことを特徴とする請求項１又は２記
   載の磁気ヘッド。