JPH04121501U - アキユムレータ - Google Patents

アキユムレータ

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JPH04121501U
JPH04121501U JP3656291U JP3656291U JPH04121501U JP H04121501 U JPH04121501 U JP H04121501U JP 3656291 U JP3656291 U JP 3656291U JP 3656291 U JP3656291 U JP 3656291U JP H04121501 U JPH04121501 U JP H04121501U
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 流路内の脈動の効果的吸収 【構成】 円筒状のシェル2と、該シェル2の内周側に
配設されるとともに、多数の貫通孔を有する多孔質金属
管9と、前記シェル2と多孔質金属管9との間に配設さ
れるとともに、外周面にリップ部12、13を環状に有
するブラダ3とを具え、前記シェル2とブラダ3との間
に形成される上室6に窒素ガス等の気体を封入し、作動
時に前記ブラダが拡がった際、それに設けたリップ部1
2、13がシェル2の内周面に当接することで、前記上
室6が複数の隔室14、15、16に分割されるように
したもの。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
この考案はアキュムレータに関し、特に、流路内の脈動を効果的に吸収し得る アキュムレータに関するものである。
【0002】
【従来技術および解決しようとする課題】
従来のアキュムレータにあっては、図4に示すように構成されている。 すなわち、このアキュムレータ21は半球状のシェル上29および半球状のシ ェル下30から構成されるシェル22と、前記シェル上29とシェル下30との 間に配設されるブラダ23とからなっている。
【0003】 前記シェル上29は、その頂部にガス封入用の孔28が形成され、この孔28 をOリング25を具えたガスプラグ24が閉塞しており、また、下部の開口部は 半径方向外方に伸びて下面にブラダ保持部材32との当接面が形成され、そして 端部は上方に起立している。
【0004】 一方、上部に開口部を有する前記シェル下30は下部に開口部35を有し、こ の開口部35にはポート部材31が設けられており、このポート部材31の中心 部には流体用の孔34が形成され、この孔34は流体の流路(図示しない)と接 続されるようになっている。
【0005】 また、シェル下30の上部の開口部内にブラダ23およびブラダ23を保持す るブラダ保持部材32を押し込み挿入してシェル上29を被せると、シェル上2 9の開口部の下面がブラダ23を保持しているブラダ保持部材32と当接した状 態でシェル下30の内部にシェル上29が位置する。
【0006】 そして、シェル下30の開口部の縁部をかしめてシェル上29とシェル下30 とを、その内部にブラダ23およびブラダ保持部材32を位置した状態で一体に 固定し、シェル22の内部をブラダ23で上室26、下室27の2室に区画する ようになっている。
【0007】 また、前記ブラダ23で区画されたうちの上室26に窒素ガス等の気体を封入 し、ポート部材31の孔34を流体の流路と接続する。 そして、流路内の圧力が上昇すると、前記ポート部材31の孔34を閉塞して いたポペット33がブラダ23とともに前記上室26の圧力に抗して上昇し、圧 力上昇を吸収するようになっている。
【0008】 また、流路内の圧力が下降すると、前記上室26の圧力によって前記ポペット 33がブラダ23とともに下降して、下室27内の流体を流路内に排出する。 このように、アキュムレータ21は、流路内に発生する脈動による圧力変化を 吸収するようになっている。
【0009】 しかしながら、流路内に発生する脈動の圧力Pは、以下に示すように低周波か ら高周波までの所定の圧力波形を有する圧力変化P1 sin(ωt+θ1 )、P 2 sin(2ωt+θ2 )・・・Pn sin(nωt+θn )の和であると考え られる。
【0010】 P=Pa +P1 sin(ωt+θ1 )+P2 sin(2ωt+θ2 )・・・ +Pn sin(nωt+θn ) Pa :平均圧力 P1 、P2 ・・・Pn :圧力変位 ω :角速度 θ1 、θ2 ・・・θn :位相
【0011】 一方、アキュムレータ21の吸収できる圧力変化は、上室26に封入した窒素 ガス等の気体の予圧力P0 および容量によって決定されると考えられる。 従って、圧力Pの低周波から高周波までの広い範囲の脈動を吸収して減衰させ るためには、Pa 以下の各項、すなわち、P1 sin(ωt+θ1 )、P2 si n(2ωt+θ2 )・・・Pn sin(nωt+θn )の圧力変化を吸収するこ とができる上室26の予圧力P0 および容量を有するアキュムレータを流路に接 続する必要がある。
【0012】 また、アキュムレータの予圧力P0 は、流路内の平均圧力Pa によってほぼ決 定され、0.6Pa から0.8Pa である。 このように、流路内の異なる周波数の脈動を吸収するには、それぞれの圧力変 化に応じて容量の異なるアキュムレータを幾つも流路に接続しなければならず、 かなりの取付けスペースが必要になるとともに、高価なものとなるという問題点 を有していた。
【0013】 この考案は上記のような従来のもののもつ問題点を解決したものであって、流 路内の異なる周波数の脈動を吸収することができるとともに、それほど取付けス ペースを必要とせず、しかも、安価にできるアキュムレータを提供することを目 的とするものである。
【0014】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、この考案は円筒状のシェルと、このシェルの内 周側に配設されるとともに、多数の貫通孔を有する多孔質金属管と、前記シェル と多孔質金属管との間に配設されるとともに、外周面にリップ部を環状に有する ブラダとを具え、前記シェルとブラダとの間に形成される上室に窒素ガス等の気 体を封入し、作動時に、前記ブラダが拡がった際、それに設けたリップ部がシェ ルの内周面に当接することで前記上室が複数の隔室に分割されるようにしたとい う手段を採用し、また、前記ブラダの外周面に形成された環状のリップ部は、そ れらの間が異なる距離となっているという手段を採用したものである。
【0015】
【作用】
この考案は上記の手段を採用したことにより、シェルと多孔質金属管との間に 形成される容量の異なる隔室がそれぞれの容量に応じた周波数の脈動を吸収する ため、流路内に発生する低周波から高周波の脈動を一つのアキュムレータで吸収 することができる。
【0016】
【実施例】
以下、図面に示すこの考案の実施例について説明する。 図1〜図3にはこの考案によるアキュムレータの実施例が示されていて、この アキュムレータ1は、円筒状のシェル2と、このシェル2の内周側に配設される 多孔質金属管9と、前記シェル2と多孔質金属管9との間に配設されるとともに 、外周面に第1リップ部12、第2リップ部13を環状に有する円筒状のブラダ 3とを具えている。
【0017】 前記ブラダ3の両端部には保持部10、11が環状に形成され、前記シェル2 には両端から所定の間隔をおいて突起部17、18が環状に設けられ、前記保持 部10、11はシェル2に設けた突起部17、18から端部に至るシェル2の内 周面と多孔質金属管9の外周面との間で挟持固定されるとともに、前記突起部1 7、18によって脱落が防止されている。
【0018】 前記シェル2の周面にはガス封入用の孔8が形成され、この孔8をOリング5 を具えたガスプラグ4が閉塞するようになっている。 また、前記シェル2とブラダ3との間に環状に上室6が形成され、この上室6 に前記シェル2に設けた孔8から窒素ガス等の気体を所定の予圧力P0 になるま で充填し、その後この孔8を前記ガスプラグ4で閉塞する。
【0019】 そして、常態時においては図2に示すように、前記第1リップ部12、第2リ ップ部13の先端部は前記シェル2と僅かな距離を置いて離隔している。
【0020】 また、前記第1リップ部12および第2リップ部13は、一端の保持部10と 他端の保持部11との間に異なる間隔で順次設けられているため、作動時におい て前記第1リップ部12および第2リップ部13が前記シェル2の内周面に当接 すると、前記シェル2とブラダ3との間に形成される上室6は、容量の異なる第 1隔室14、第2隔室15および第3隔室16に分割されるようになっている。 そして、この時、前記ブラダ3と多孔質金属管9との間に下室7が形成される ようになっている。
【0021】 一方、前記多孔質金属管9には多数の貫通孔が設けられ、前記多孔質金属管9 の内周側と外周側とは前記貫通孔を介して流体が流通可能となっている。
【0022】 上記のように構成されたアキュムレータ1を配管19と、配管20との間に取 付け、配管19、20およびアキュムレータ1の多孔質金属管9によって形成さ れる流路内に流体を流通させる。
【0023】 そして、図3に示すようなアキュムレータ1の作動時、すなわち、流路内の流 体圧力が一時的に高くなると、前記多孔質金属管9内の流体がこの多孔質金属管 9の貫通孔を介してブラダ3と多孔質金属管9との間に形成される下室7に侵入 し、前記上室6の予圧力P0 に抗してブラダ3を径方向外方に変形させる。
【0024】 そして、前記シェル2とブラダ3との間に形成される上室6はブラダ3の外周 面に設けられた第1リップ部12、第2リップ部13がシェル2に当接すること により、前記所定の予圧力P0 でそれぞれ異なった容量の第1隔室14、第2隔 室15、第3隔室16に分割される。
【0025】 すなわち、一端の保持部10と第1リップ部12との間に第1隔室14が形成 され、第1リップ部12と第2リップ部13との間に第2隔室15が形成され、 第2リップ部13と他端の保持部11との間に第3隔室16が形成される。
【0026】 そして、それぞれの隔室14、15、16の予圧力P0 と下室7内の流体圧力 が均衡したところでその侵入が停止する。
【0027】 このように、前記隔室14、15、16のそれぞれが、従来のアキュムレータ の働きを果たす。 すなわち、前記第1隔室14、第2隔室15、第3隔室16は所定の予圧力P 0 で、かつ、それぞれ異なった容量で分割されているため、それぞれの隔室14 、15、16の予圧力P0 および容量に応じた周波数の脈動を吸収する。
【0028】 従って、隔室14、15、16の容量および予圧力P0 を所定の値に調整する ことによって低周波から高周波までの脈動を吸収することができる。
【0029】 また、流路内の流体圧力が一時的に低くなると、隔室14、15、16の予圧 力P0 によって前記下室7内の流体が多孔質金属管9の貫通孔を介して流路内に 押し出される。
【0030】 なお、予圧力P0 および隔室の容量の異なる複数のアキュムレータを一体に連 結すれば、より一層脈動吸収の効果を発揮することができるとともに、この場合 も取付けスペースが不要である。
【0031】 さらに、この実施例においては、リップ部12、13を2箇所に設けたが、こ れに限定されることなく、リップ部の数は限定されない。 また、多孔質金属管9はポーラスメタル、ポーラス樹脂等が考えられる。
【0032】
【考案の効果】
この考案は前記のように構成したことにより、流路内に発生する低周波から高 周波までの脈動を一つのアキュムレータで吸収することができる。 また、従来は流路内に発生する低周波から高周波までの脈動を吸収するには、 容量の異なる複数のアキュムレータを使用する必要があったが、この考案による アキュムレータを使用すると、取付けスペースを必要とせずに安価に、従来の容 量の異なる複数のアキュムレータを使用したのと同様の効果を得ることができる というすぐれた効果を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】この考案によるアキュムレータの実施例を示す
概略断面図である。
【図2】この考案によるアキュムレータの実施例におけ
るリップ部を示す概略断面図である。
【図3】この考案によるアキュムレータの作動時の状態
を示す概略断面図である。
【図4】従来のアキュムレータを示す概略断面図であ
る。
【符号の説明】
1、21……アキュムレータ 2、22……シェル 3、23……ブラダ 4、24……ガスプラグ 5、25……Oリング 6、26……上室 7、27……下室 8、28、34……孔 9……多孔質金属管 10、11……保持部 12……第1リップ部 13……第2リップ部 14……第1隔室 15……第2隔室 16……第3隔室 17、18……突起部 19、20……配管 29……シェル上 30……シェル下 31……ポート部材 32……ブラダ保持部材 33……ポペット 35……開口部

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 円筒状のシェル(2)と、該シェル
    (2)の内周側に配設されるとともに、多数の貫通孔を
    有する多孔質金属管(9)と、前記シェル(2)と多孔
    質金属管(9)との間に配設されるとともに、外周面に
    リップ部(12)(13)を環状に有するブラダ(3)
    とを具え、前記シェル(2)とブラダ(3)との間に形
    成される上室(6)に窒素ガス等の気体を封入し、作動
    時に、前記ブラダ(3)が拡がった際、それに設けたリ
    ップ部(12)(13)がシェル(2)の内周面に当接
    することで前記上室(6)が複数の隔室(14)(1
    5)(16)に分割されるようにしたことを特徴とする
    アキュムレータ。
  2. 【請求項2】 前記ブラダ(3)の外周面に形成された
    環状のリップ部(12)(13)は、それらの間が異な
    る距離となっている請求項1記載のアキュムレータ。
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