JPH0412582A - Ｃｏレーザー装置 - Google Patents
Ｃｏレーザー装置Info
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- JPH0412582A JPH0412582A JP11542590A JP11542590A JPH0412582A JP H0412582 A JPH0412582 A JP H0412582A JP 11542590 A JP11542590 A JP 11542590A JP 11542590 A JP11542590 A JP 11542590A JP H0412582 A JPH0412582 A JP H0412582A
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Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明は、各種材料の加工などに使用されるレーザー
装置に関し、とくに出力安定性が高く、長時間の連続動
作が可能なように改良したＣＯレーザー装置に関するも
のである。
装置に関し、とくに出力安定性が高く、長時間の連続動
作が可能なように改良したＣＯレーザー装置に関するも
のである。
現在、各種材料の切断、溶接、表面処理などを含むレー
ザー加工用、あるいはレーザーメスなどの医学応用への
新しい発振器として、発振波長５μｍ帯のＣＯレーザー
装置の開発が進められている。ＣＯレーザーは高出力、
高効率動作が可能なばかりでなく、短波長でビーム品質
も良いという特長を有する。 従来のＣＯレーザー装置の基本構成を第１図に示す。図
において、１は００分子を含むレーザーガスに高電圧を
印加して放電を発生させ、励起を行うための放電部、２
は矢印３の方向にレーザー光を出力するためのレーザー
共振器、４はレーザーガスを冷却するための冷却器、５
はレーザーガスを循環させるための送風機を示す。放電
部１、冷却器４、および送風機５は、レーザーガス流路
６によりそれぞれ連結されている。また、矢印７はレー
ザーガスの循環方向を示している。 つぎに動作の原理について説明する。放電部１において
、００分子は放電により発生した電子と衝突し、電子の
運動エネルギーを受は取り、分子の振動エネルギーとし
て蓄える。この振動エネルギーは光に変換され、レーザ
ー共振器２の作用により増幅されて発振を起こし、その
エネルギーの一部がレーザー光として外部に出力される
。残った電子の運動エネルギーの大半はレーザーガスの
加熱に費やされる。ＣＯレーザーはその緩和機構上、レ
ーザーガスを低温にするほど動作効率が向上する。この
ため、液体窒素冷媒やフレオン冷凍機を用いた冷却器４
により熱を取り除くと共に、レーザーガスを冷却してい
る。冷却されたレーザーガスは、送風機５により循環さ
れたのち、再び放電部１に導入され、レーザー発振に寄
与する。 以上のような閉サイクル構造により、レーザーガスの充
填または交換なしに、または少量の交換により連続動作
させることが可能である。
ザー加工用、あるいはレーザーメスなどの医学応用への
新しい発振器として、発振波長５μｍ帯のＣＯレーザー
装置の開発が進められている。ＣＯレーザーは高出力、
高効率動作が可能なばかりでなく、短波長でビーム品質
も良いという特長を有する。 従来のＣＯレーザー装置の基本構成を第１図に示す。図
において、１は００分子を含むレーザーガスに高電圧を
印加して放電を発生させ、励起を行うための放電部、２
は矢印３の方向にレーザー光を出力するためのレーザー
共振器、４はレーザーガスを冷却するための冷却器、５
はレーザーガスを循環させるための送風機を示す。放電
部１、冷却器４、および送風機５は、レーザーガス流路
６によりそれぞれ連結されている。また、矢印７はレー
ザーガスの循環方向を示している。 つぎに動作の原理について説明する。放電部１において
、００分子は放電により発生した電子と衝突し、電子の
運動エネルギーを受は取り、分子の振動エネルギーとし
て蓄える。この振動エネルギーは光に変換され、レーザ
ー共振器２の作用により増幅されて発振を起こし、その
エネルギーの一部がレーザー光として外部に出力される
。残った電子の運動エネルギーの大半はレーザーガスの
加熱に費やされる。ＣＯレーザーはその緩和機構上、レ
ーザーガスを低温にするほど動作効率が向上する。この
ため、液体窒素冷媒やフレオン冷凍機を用いた冷却器４
により熱を取り除くと共に、レーザーガスを冷却してい
る。冷却されたレーザーガスは、送風機５により循環さ
れたのち、再び放電部１に導入され、レーザー発振に寄
与する。 以上のような閉サイクル構造により、レーザーガスの充
填または交換なしに、または少量の交換により連続動作
させることが可能である。
以上のように構成された従来のＣＯレーザー装置では、
放電部１において、所望の励起反応の他、種々のプラズ
マ化学反応が誘起され、以下に示す反応によりＣＯ２分
子が生成され、レーザーガス中のＣｏｚｙＪｌ度が上昇
する。 ｃｏ＋ｃｏ→ＣＯ□＋Ｃ ＣＯ＋Ｏ１−Ｃｏｔ ＋１／２０□ ＣＯ，分子は、励起状態の００分子と衝突してその振動
エネルギーを熱化させることによって失活させてしまう
他、放電維持電圧を上昇させ、励起条件を不適性化し、
あるいは放電を不安定化させるなどの悪影響を及ぼす、
このため、ＣＯ２濃度が許容値以上に上昇すると、レー
ザー出力の低下や不安定化を招き、長時間動作ができな
いという欠点があった。冷却器４の冷媒として液体窒素
などの極低温冷媒を用いた場合には、ＣＯ２分子が冷却
器４の冷却管壁などにおいて凝固することで取り除かれ
るため、−時的にＣｏｔ濃度の上昇が抑えられる。しか
しこの場合にも冷却器４の冷却面積（伝熱面積）が有限
なため、除去能力は比較的短時間のうちに飽和し、前述
と同様の問題が発生する。
放電部１において、所望の励起反応の他、種々のプラズ
マ化学反応が誘起され、以下に示す反応によりＣＯ２分
子が生成され、レーザーガス中のＣｏｚｙＪｌ度が上昇
する。 ｃｏ＋ｃｏ→ＣＯ□＋Ｃ ＣＯ＋Ｏ１−Ｃｏｔ ＋１／２０□ ＣＯ，分子は、励起状態の００分子と衝突してその振動
エネルギーを熱化させることによって失活させてしまう
他、放電維持電圧を上昇させ、励起条件を不適性化し、
あるいは放電を不安定化させるなどの悪影響を及ぼす、
このため、ＣＯ２濃度が許容値以上に上昇すると、レー
ザー出力の低下や不安定化を招き、長時間動作ができな
いという欠点があった。冷却器４の冷媒として液体窒素
などの極低温冷媒を用いた場合には、ＣＯ２分子が冷却
器４の冷却管壁などにおいて凝固することで取り除かれ
るため、−時的にＣｏｔ濃度の上昇が抑えられる。しか
しこの場合にも冷却器４の冷却面積（伝熱面積）が有限
なため、除去能力は比較的短時間のうちに飽和し、前述
と同様の問題が発生する。
この発明は上記のような問題を解消するためになされた
もので、レーザーガス流路中に、吸着剤よりなるＣＯ□
分子の除去機構を設けることによって、出力安定度が高
く、長時間動作の可能なＣＯレーザー装置を提供するこ
とを目的とする。
もので、レーザーガス流路中に、吸着剤よりなるＣＯ□
分子の除去機構を設けることによって、出力安定度が高
く、長時間動作の可能なＣＯレーザー装置を提供するこ
とを目的とする。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第２
図において、１は放電部、２はレーザー共振器、４は冷
却器、５は送風機、６はレーザーガス流路である。８は
ＣＯ□除去部で、放電部ｌと冷却器４との間においてレ
ーザーガス流路６に挿入されている。 ＣＯ２除去部８は、ガス中に含まれているＣＯ２を物理
的な吸着作用によって分離する機能を有するもので、た
とえば天然ゼオライトのような吸着剤を充填した吸着塔
からなっていてもよい。好ましい天然ゼオライトの例は
、第１表のようなＸ線回折像を有するものである。この
ような天然ゼオライトのほか、Ｃ０２に対して選択的な
吸着性を有する合成ゼオライトも同様に使用できる。 第 １ 表 つぎに動作について説明する。放電部１においテレーザ
ーガス（たとえばＣＯ／ Ｎ ｚ ／ Ｈｅ ／ Ｏｚ
の４種混合ガス）に放電を発生させると、前述したプラ
ズマ化学反応によりＣＯ２が生成される。 したがって、レーザーガスはＣＯ２を含有した状態でＣ
Ｏ，除去部８に到達し、ついで冷却器４に導入される。 ＣＯ，除去部８に充填された吸着剤はＣＯｔに対する選
択的な吸着性を有するため、ガス中のＣＯ□のみが吸着
除去され、その他のガス成分、たとえばＣ０１Ｎｚ 、
Ｈｅ、ＯｚはそのままＣＯ，除去部８を通過して冷却器
４に導入され、ついで送風機５の作用で放電部１に再び
供給される。 ＣＯ２除去部８は、第３図（ａ）に示したように吸着剤
１１を密に充填した吸着塔であってもよいが、ＣＯレー
ザー装置の場合、通常の化学的処理とは異なり、適用さ
れるガスの流量がきわめて大きいので、内部を通過する
ガスに対する流体抵抗が小さい構造を採用することが望
ましい場合もある。第３図（ｂ）は、吸着塔の全周壁に
沿って適当な厚さの板状の吸着剤１２を配置し、中央に
ガス流路を形成した構造のＣｏｔ除去部８を例示してい
る。あるいは第３図（ｃ）に示すように、吸着塔の周壁
の任意の位置に適当な形状の板状の吸着剤１３を配置し
てもよく、また第３図（ｄ）に示すように、吸着塔のガ
ス流路内に吸着剤からなる複数の棒１４を配置した構成
を採用することもできる。しかしながらＣＯ２除去部８
は、ガス中のＣＯｔを物理的な吸着によって除去できる
ものであればよく、この発明はＣＯ２除去部８の具体的
な構造に限定されない。 また第２図の例では、ＣＯｔ除去部８を放電部１と冷却
器４との間の位置に設けたが、冷却器４と送風機５との
間、あるいは送風機５と放電部１との間に設けてもよい
。なお、ＣＯ３除去部８を冷却器４の後段に設ける場合
には、ＣＯｔ除去部８を通過する間のガスの温度上昇に
よって放電部１に入るガスの温度が高くなるのを防止す
るために、放電部１の前段に補助冷却器を設けることが
望ましい場合もある。 ＣＯレーザー装置の１日当たりの運転時間が定まってい
る場合には、その運転時間内に発生するＣＯ，量の全量
を除去するのに必要な量の吸着剤をＣＯ２除去部８に充
填しておけばよい。吸着したＣＯ□は、ＣＯ□除去部８
の内部に真空排気することにより除去されるため、つぎ
にＣＯレーザー装置の運転を開始するときには、吸着剤
は再使用可能な状態とすることができる。このようにし
て吸着剤は、交換することなしに何度でも使用すること
が可能である。ＣＯレーザー装置の運転時間が非常に長
い場合には、第４図に示すように、２基のＣＯ□除去部
８ａ及び８ｂを設け、これを交互に使用する。第４図に
おいて、レーザーガス流路６は２つに分岐されて流路６
ａおよび６ｂを形成し、第１の流路６ａにはバルブ１５
ａ１第１のＣＯ□除去部８ａおよびバルブ１６ａが挿入
され、また第２の流路６ｂにはバルブ１５ｂ１第２のＣ
Ｏ□除去部８ｂおよびバルブ１６ｂが挿入されている。 また、各Ｃｏｔ除去部８ａおよび８ｂには、それぞれバ
ルブ１７ａ、１７ｂを有する排気パイプ１８ａ、１８ｂ
を介して真空ポンプ１９に接続されている。ＣＯ２を吸
着除去するために除去部８ａおよび８ｂを交互に使用す
るために、各パルプは以下の第２表に示す順序で開閉を
制御され、常に一定のＣＯ，吸着能力を維持する。 第２表 第５図はこの発明の他の実施例を示す。この例では、放
電部１のレーザーガス流出側と流入側との間にバイパス
流路２１が接続され、このバイパス流路２１に、流量調
節バルブ２２、送風機２３、必要に応じて設けられる温
度調節器２４、ＣＯｔ除去部８および補助冷却器２５が
この順序で挿入されている。流量調節バルブ２２は、放
電部１から出たレーザーガスの一部を送風機２３の作用
でバイパス流路２１に導入し、温度調節器２４を介して
ＣＯを除去部８に送る。このレーザーガスは、ＣＯを除
去部８でＣＯ，除去を受け、補助冷却器２５を経た後、
放電部１に戻される。一方、放電部１から出たレーザー
ガスの残りの部分は、冷却器４および送風機５を経て、
バイパス流路２１の補助冷却器２５をでたレーザーガス
と合流し、放電部１に入る。この構成では、レーザーガ
スの一部が、主たるレーザーガス流路６を流れることで
所定のガス流量を確保し、一部がバイパス流路２１を通
過する間にＣＯｚ除去を行なうことにより、高い能力を
維持したまま、ＣＯ２の蓄積による効率の低下を回避で
きる、という効果が期待できる。 またこの場合にも、ＣＯを除去部８として、第４図に示
した構成を採用すれば、連続運転に対応できる。 さらに第６図は、流量調節バルブ２２、送風機２３、温
度調節器２４およびＣＯｚ除去部８を接続したバイパス
流路２６を、放電部１と冷却器４との間のレーザーガス
流路６と並列に設けた例を示している。この実施例にお
いても、第５図の実施例と同様の効果が得られる。また
第４図に示した構成を採用することにより、連続運転に
対応できることも同様である。 第７図（ａ）は、第２図に示したＣＯレーザー装置にお
いて、レーザー出力およびＣＯｚｙＭ度の時間的変化を
測定した結果をグラフに示したものである。このグラフ
から明らかなように、運転開始の直後に、ＣＯｔｔＭ度
のわずかな上昇およびこれに伴うレーザー出力の低下が
認められるものの、それ以後の変化はほとんどみられな
い。第７図は、第１図に示した従来のＣＯレーザー装置
における同様の測定結果をグラフにしたものである。従
来の装置では、運転時間の経過に伴ってＣＯ，濃度が急
速に上昇し、レーザー出力が低下していることがわかる
。 この発明は、たとえば３軸直交型、２軸直交型、同軸型
、導波型などの種々の形式のＣＯレーザー装置に適用可
能である。また放電方式としては、自己持続直流放電、
高周波放電、高周波補助直流放電、マイクロ波放電、電
子ビーム制御放電などの多種の方式があるが、この発明
はこれらの全ての方式による放電励起ＣＯレーザー装置
に適用できる。また、レーザーガスの冷却手段として液
体窒素の熱交換器を使用する場合は、ＣＯ，のコールド
トラップ効果が期待できないため、この発明の有用性が
とくに高い。さらにこの発明は、レーザーガスを対流冷
却しない低流速流型または封じ切り型のＣＯレーザー装
置にも適用できる。
図において、１は放電部、２はレーザー共振器、４は冷
却器、５は送風機、６はレーザーガス流路である。８は
ＣＯ□除去部で、放電部ｌと冷却器４との間においてレ
ーザーガス流路６に挿入されている。 ＣＯ２除去部８は、ガス中に含まれているＣＯ２を物理
的な吸着作用によって分離する機能を有するもので、た
とえば天然ゼオライトのような吸着剤を充填した吸着塔
からなっていてもよい。好ましい天然ゼオライトの例は
、第１表のようなＸ線回折像を有するものである。この
ような天然ゼオライトのほか、Ｃ０２に対して選択的な
吸着性を有する合成ゼオライトも同様に使用できる。 第 １ 表 つぎに動作について説明する。放電部１においテレーザ
ーガス（たとえばＣＯ／ Ｎ ｚ ／ Ｈｅ ／ Ｏｚ
の４種混合ガス）に放電を発生させると、前述したプラ
ズマ化学反応によりＣＯ２が生成される。 したがって、レーザーガスはＣＯ２を含有した状態でＣ
Ｏ，除去部８に到達し、ついで冷却器４に導入される。 ＣＯ，除去部８に充填された吸着剤はＣＯｔに対する選
択的な吸着性を有するため、ガス中のＣＯ□のみが吸着
除去され、その他のガス成分、たとえばＣ０１Ｎｚ 、
Ｈｅ、ＯｚはそのままＣＯ，除去部８を通過して冷却器
４に導入され、ついで送風機５の作用で放電部１に再び
供給される。 ＣＯ２除去部８は、第３図（ａ）に示したように吸着剤
１１を密に充填した吸着塔であってもよいが、ＣＯレー
ザー装置の場合、通常の化学的処理とは異なり、適用さ
れるガスの流量がきわめて大きいので、内部を通過する
ガスに対する流体抵抗が小さい構造を採用することが望
ましい場合もある。第３図（ｂ）は、吸着塔の全周壁に
沿って適当な厚さの板状の吸着剤１２を配置し、中央に
ガス流路を形成した構造のＣｏｔ除去部８を例示してい
る。あるいは第３図（ｃ）に示すように、吸着塔の周壁
の任意の位置に適当な形状の板状の吸着剤１３を配置し
てもよく、また第３図（ｄ）に示すように、吸着塔のガ
ス流路内に吸着剤からなる複数の棒１４を配置した構成
を採用することもできる。しかしながらＣＯ２除去部８
は、ガス中のＣＯｔを物理的な吸着によって除去できる
ものであればよく、この発明はＣＯ２除去部８の具体的
な構造に限定されない。 また第２図の例では、ＣＯｔ除去部８を放電部１と冷却
器４との間の位置に設けたが、冷却器４と送風機５との
間、あるいは送風機５と放電部１との間に設けてもよい
。なお、ＣＯ３除去部８を冷却器４の後段に設ける場合
には、ＣＯｔ除去部８を通過する間のガスの温度上昇に
よって放電部１に入るガスの温度が高くなるのを防止す
るために、放電部１の前段に補助冷却器を設けることが
望ましい場合もある。 ＣＯレーザー装置の１日当たりの運転時間が定まってい
る場合には、その運転時間内に発生するＣＯ，量の全量
を除去するのに必要な量の吸着剤をＣＯ２除去部８に充
填しておけばよい。吸着したＣＯ□は、ＣＯ□除去部８
の内部に真空排気することにより除去されるため、つぎ
にＣＯレーザー装置の運転を開始するときには、吸着剤
は再使用可能な状態とすることができる。このようにし
て吸着剤は、交換することなしに何度でも使用すること
が可能である。ＣＯレーザー装置の運転時間が非常に長
い場合には、第４図に示すように、２基のＣＯ□除去部
８ａ及び８ｂを設け、これを交互に使用する。第４図に
おいて、レーザーガス流路６は２つに分岐されて流路６
ａおよび６ｂを形成し、第１の流路６ａにはバルブ１５
ａ１第１のＣＯ□除去部８ａおよびバルブ１６ａが挿入
され、また第２の流路６ｂにはバルブ１５ｂ１第２のＣ
Ｏ□除去部８ｂおよびバルブ１６ｂが挿入されている。 また、各Ｃｏｔ除去部８ａおよび８ｂには、それぞれバ
ルブ１７ａ、１７ｂを有する排気パイプ１８ａ、１８ｂ
を介して真空ポンプ１９に接続されている。ＣＯ２を吸
着除去するために除去部８ａおよび８ｂを交互に使用す
るために、各パルプは以下の第２表に示す順序で開閉を
制御され、常に一定のＣＯ，吸着能力を維持する。 第２表 第５図はこの発明の他の実施例を示す。この例では、放
電部１のレーザーガス流出側と流入側との間にバイパス
流路２１が接続され、このバイパス流路２１に、流量調
節バルブ２２、送風機２３、必要に応じて設けられる温
度調節器２４、ＣＯｔ除去部８および補助冷却器２５が
この順序で挿入されている。流量調節バルブ２２は、放
電部１から出たレーザーガスの一部を送風機２３の作用
でバイパス流路２１に導入し、温度調節器２４を介して
ＣＯを除去部８に送る。このレーザーガスは、ＣＯを除
去部８でＣＯ，除去を受け、補助冷却器２５を経た後、
放電部１に戻される。一方、放電部１から出たレーザー
ガスの残りの部分は、冷却器４および送風機５を経て、
バイパス流路２１の補助冷却器２５をでたレーザーガス
と合流し、放電部１に入る。この構成では、レーザーガ
スの一部が、主たるレーザーガス流路６を流れることで
所定のガス流量を確保し、一部がバイパス流路２１を通
過する間にＣＯｚ除去を行なうことにより、高い能力を
維持したまま、ＣＯ２の蓄積による効率の低下を回避で
きる、という効果が期待できる。 またこの場合にも、ＣＯを除去部８として、第４図に示
した構成を採用すれば、連続運転に対応できる。 さらに第６図は、流量調節バルブ２２、送風機２３、温
度調節器２４およびＣＯｚ除去部８を接続したバイパス
流路２６を、放電部１と冷却器４との間のレーザーガス
流路６と並列に設けた例を示している。この実施例にお
いても、第５図の実施例と同様の効果が得られる。また
第４図に示した構成を採用することにより、連続運転に
対応できることも同様である。 第７図（ａ）は、第２図に示したＣＯレーザー装置にお
いて、レーザー出力およびＣＯｚｙＭ度の時間的変化を
測定した結果をグラフに示したものである。このグラフ
から明らかなように、運転開始の直後に、ＣＯｔｔＭ度
のわずかな上昇およびこれに伴うレーザー出力の低下が
認められるものの、それ以後の変化はほとんどみられな
い。第７図は、第１図に示した従来のＣＯレーザー装置
における同様の測定結果をグラフにしたものである。従
来の装置では、運転時間の経過に伴ってＣＯ，濃度が急
速に上昇し、レーザー出力が低下していることがわかる
。 この発明は、たとえば３軸直交型、２軸直交型、同軸型
、導波型などの種々の形式のＣＯレーザー装置に適用可
能である。また放電方式としては、自己持続直流放電、
高周波放電、高周波補助直流放電、マイクロ波放電、電
子ビーム制御放電などの多種の方式があるが、この発明
はこれらの全ての方式による放電励起ＣＯレーザー装置
に適用できる。また、レーザーガスの冷却手段として液
体窒素の熱交換器を使用する場合は、ＣＯ，のコールド
トラップ効果が期待できないため、この発明の有用性が
とくに高い。さらにこの発明は、レーザーガスを対流冷
却しない低流速流型または封じ切り型のＣＯレーザー装
置にも適用できる。
以上のように、この発明のＣＯレーザー装置によれば、
放電部における放電作用によって不可避的に発生するＣ
０２は、レーザーガスが循環する間に吸着によって除去
されるので、レーザーガス中のＣＯ３濃度が低い一定値
に維持され、ＣＯ□の蓄積に起因するレーザー出力の低
下や不安定化等の問題がなくなり、安定した長時間動作
が可能になる。このため、装置のメンテナンスに要する
時間と費用が大幅に低減され、その実用性は著しく改善
される。また、出力の安定性も高められるため、応用範
囲の拡大も期待できる。
放電部における放電作用によって不可避的に発生するＣ
０２は、レーザーガスが循環する間に吸着によって除去
されるので、レーザーガス中のＣＯ３濃度が低い一定値
に維持され、ＣＯ□の蓄積に起因するレーザー出力の低
下や不安定化等の問題がなくなり、安定した長時間動作
が可能になる。このため、装置のメンテナンスに要する
時間と費用が大幅に低減され、その実用性は著しく改善
される。また、出力の安定性も高められるため、応用範
囲の拡大も期待できる。
第１図は従来のＣＯレーザー装置を示す系統図、第２図
はこの発明の一実施例によるＣＯレーザー装置の系統図
、第３図（ａ）、 （ｂ）、 （ｃ）。 （ｄ）はこの発明に適用できる種々のＣｏｔ除去部を示
す断面図、第４図は連続運転が可能なように構成したＣ
Ｏ，除去部を示す系統図、第５図および第６図はこの発
明のそれぞれ他の実施例によるＣＯレーザー装置の系統
図、第７図（ａ）はこの発明のＣＯレーザー装置におけ
るレーザー出力およびＣ０ｚＹＮ＝度の時間的変化を示
すグラフ図、第７図（ｂ）は従来のＣＯレーザー装置に
おける同様の変化を示すグラフ図である。 １・・・放電部、４・・・冷却器、５・・・送風機、６
・・・レーザーガス流路、８・・・ＣＯｔ除去部、２１
．２６・・・バイパス流路、２２・・・流量調節パルプ
、２３・・・送風機、２４・・・温度調節器、２５・・
・補助冷却器。 第 図 第 図 く 回
はこの発明の一実施例によるＣＯレーザー装置の系統図
、第３図（ａ）、 （ｂ）、 （ｃ）。 （ｄ）はこの発明に適用できる種々のＣｏｔ除去部を示
す断面図、第４図は連続運転が可能なように構成したＣ
Ｏ，除去部を示す系統図、第５図および第６図はこの発
明のそれぞれ他の実施例によるＣＯレーザー装置の系統
図、第７図（ａ）はこの発明のＣＯレーザー装置におけ
るレーザー出力およびＣ０ｚＹＮ＝度の時間的変化を示
すグラフ図、第７図（ｂ）は従来のＣＯレーザー装置に
おける同様の変化を示すグラフ図である。 １・・・放電部、４・・・冷却器、５・・・送風機、６
・・・レーザーガス流路、８・・・ＣＯｔ除去部、２１
．２６・・・バイパス流路、２２・・・流量調節パルプ
、２３・・・送風機、２４・・・温度調節器、２５・・
・補助冷却器。 第 図 第 図 く 回
Claims (3)
- （１）ＣＯを含むレーザーガスの放電によってレーザー
光を発生する放電部及びレーザー共振器と、この放電部
から流出したレーザーガスを冷却する冷却器と、前記放
電部と前記冷却器との間でレーザーガスを循環させるレ
ーザーガス流路とを備えたＣＯレーザー装置において、
前記レーザーガス流路を流れるレーザーガス中のＣＯ＿
２を吸着によって除去するＣＯ＿２除去部を設けたこと
を特徴とするＣＯレーザー装置。 - （２）前記レーザーガス流路にバイパス流路を設け、こ
のバイパス流路に前記ＣＯ＿２除去部を設けたことを特
徴とする請求項１記載のＣＯレーザー装置。 - （３）前記ＣＯ＿２除去部は、相互に並列な２つの流路
にそれぞれ挿入され、一方のＣＯ＿２吸着部が吸着動作
を行なっている間、他方のＣＯ＿２除去部が再生される
ように交互に運転されるように構成された請求項１また
は２のいずれか１項に記載のＣＯレーザー装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11542590A JPH0412582A (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | Ｃｏレーザー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11542590A JPH0412582A (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | Ｃｏレーザー装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0412582A true JPH0412582A (ja) | 1992-01-17 |
Family
ID=14662254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11542590A Pending JPH0412582A (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | Ｃｏレーザー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0412582A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009117700A (ja) * | 2007-11-08 | 2009-05-28 | Fanuc Ltd | ガス流路に流量調整弁を備えたガスレーザ装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57500359A (ja) * | 1980-04-01 | 1982-02-25 | ||
| JPS596589A (ja) * | 1982-07-03 | 1984-01-13 | Daihen Corp | 炭酸ガスレ−ザ装置 |
| JPS60819A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-05 | Kawasaki Steel Corp | 吸着法を使用して一酸化炭素を含む混合ガス中の二酸化炭素を分離・除去する方法 |
| JPS607919A (ja) * | 1983-06-25 | 1985-01-16 | Kawasaki Steel Corp | 吸着法を使用して一酸化炭素を含む混合ガス中の二酸化炭素を分離除去する方法 |
| JPS62126683A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-08 | Komatsu Ltd | ガスレ−ザ装置 |
-
1990
- 1990-05-01 JP JP11542590A patent/JPH0412582A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57500359A (ja) * | 1980-04-01 | 1982-02-25 | ||
| JPS596589A (ja) * | 1982-07-03 | 1984-01-13 | Daihen Corp | 炭酸ガスレ−ザ装置 |
| JPS60819A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-05 | Kawasaki Steel Corp | 吸着法を使用して一酸化炭素を含む混合ガス中の二酸化炭素を分離・除去する方法 |
| JPS607919A (ja) * | 1983-06-25 | 1985-01-16 | Kawasaki Steel Corp | 吸着法を使用して一酸化炭素を含む混合ガス中の二酸化炭素を分離除去する方法 |
| JPS62126683A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-08 | Komatsu Ltd | ガスレ−ザ装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009117700A (ja) * | 2007-11-08 | 2009-05-28 | Fanuc Ltd | ガス流路に流量調整弁を備えたガスレーザ装置 |
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