JPH0412675Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 (a) 考案の技術分野 本考案は集積回路等のパターンをウエハ又はマ
スク上に高速描画する電子露光装置に係り、特に
被試料の位置決め精度を向上させ、微細パターン
の精密描画に有効となる電子ビーム露光装置の改
良に関する。

(b) 技術の背景 電子ビーム露光技術は高密度マスクプロセスに
おいて定着しており、ウエハ上への直接描画も超
LSIの製造プロセスに導入されつゝある。近年描
画図形を任意寸法の矩形要素に分割して描画する
可変面積型（可変寸法成形ビーム型）の露光技術
は従来の電子ビームスポツトによるベクタ走査型
露光方式に比し露光速度は飛躍的に向上すると共
にサブミクロン領域の微細パターンを高精度で描
画することができる。

これに伴い試料を載置するホルダーは照射され
る電子ビームに対し常に正しい位置になるよう制
御する必要があり、例えばXY方向に自動制御さ
れるXYステージ上で鉛直に電子ビームが照射さ
れるよう取付精度を維持することは精密パターン
描画の条件として重要な課題である。

(c) 従来技術と問題点 第１図は電子ビーム露光装置を示す構成図であ
る。

レジスト塗布したウエハ又はマスク等の基板２
をホルダー６に載置し、更にXYステージ５に固
定し装置内を一定圧に減圧する。

基板２上に描画するパターン情報は予めパター
ンデータメモリ４に電算機３を介して入力され記
憶される。電子ビーム照射中電算機３は電子ビー
ムの偏向と基板２を移動制御するXYステージ５
に所定のパターンが基板２のレジスト膜上に描画
されるよう信号を出し同時に電子ビームを入切断
する。

第２図は従来例のXYステージ上に搭載したホ
ルダーを示す断面図である。第３図のイ，ロは従
来のホルダー位置決めを説明するための図であつ
てイ図はＸ，Ｙ軸方向への固定、ロ図はＺ軸方向
への固定を示す図である。

第２図においてＸ軸方向及びＹ軸方向に自動制
御されるXYステージ５上に基板２を載置するホ
ルダー６を固定する。

XYステージ５に設けたクランププレート７に
よつて固定されるがその位置決め方法は第３図イ
に示すようにＸ方向にはFX外力をＹ方向にはFY
外力をそれぞれ加えて固定部８にホルダー６を押
当てゝ位置決めする。上下方向即ちＺ軸方向へは
ロ図で示すように上部からまたは下方から外力
Fzを加えて固定する。

第４図のイ，ロはＺ軸方向への位置決めクラン
プ構造を示す断面図であつてイ図は板ばねによる
上方押上げ機構を示し、ロ図は下方押下げ機構を
示す断面図である。

イ図では板ばね９を介して上方の固定部に突当
てるか又はロ図のようにスプリング１０により下
方へ押圧して固定部に突当て係止させる方法であ
つて固定点に於ける摩擦によつて保持させるが減
圧真空下にあつては摩擦抵抗は増加し、保持力は
著しく弱くなるため、ホルダー６は微小な傾斜を
なして取付けられる恐れが生ずる。

(d) 考案の目的 本考案は上記の欠点に鑑み基板を載置するホル
ダーの位置決め精度を向上させるホルダー固定構
造の提供による電子ビーム露光装置の改良を目的
とする。

(e) 考案の構成 上記目的は本考案によれば電子ビームを照射し
て試料上に所望のパターンを描画する電子ビーム
露光装置であつて、 表面に該試料を載置するホルダーと、該ホルダ
ーの裏面に設けられ、その内面にはホルダーの一
定方向に偏位した最深部に向かう斜面を有する複
数の凹部と、その側面が該ホルダーと接すること
で該ホルダーの水平方向の移動を規制するホルダ
ーガイドと、前記ホルダーガイドの前記側面に設
けられ、前記ホルダーの上方への移動を制限する
突出部と、該電子ビーム露光装置のXYステージ
にばねで支持される複数の操作桿とを備え、前記
ホルダーは、前記操作桿の各々の頭部を前記ホル
ダーの凹部の最深部に当接して前記ホルダーを前
記凹部の最深部の偏位方向に移動することで、前
記ホルダーガイドとその突出部とで構成される固
定部に圧接されることを特徴とする電子ビーム露
光用ホルダ固定機構によつて達成される。

(f) 考案の実施例 以下本考案の実施例について図面により詳述す
る。

第５図のイ，ロ，ハ図は本考案の一実施例であ
るホルダーをXYステージに固定する固定構造を
示す断面図である。

イ図は制止位置を示し、ロ図は動作位置を示し
ハ図は一部拡大図である。

図において、ホルダー１１は水平方向の移動が
ホルダーガイド１５によつて規制されており、ま
た、垂直方向の移動がホルダーガイド１５に設け
られた突出部１４によつて規制されている。

図においてホルダー１１の裏面にはその四隅に
凹部１１ａが設けられており、ばね１２によつて
一定圧に押圧する操作桿１３の頭部が凹部１１ａ
に当接する様に構成されている。そして、ホルダ
ー１１は操作桿１３の押圧力によつてホルダーガ
イド１５と突出部１４とで構成される角部、即ち
固定部１６に固定されるものである。

操作桿１３はホルダー１１の底部四隅に位置し
エアシリンダーに取付けられ自動制御により連動
する。

ホルダー１１の底面に設けた凹部１１ａは中心
位置をずらせて湾曲凹面を形成し、操作桿１３の
頭部が凹部１１ａの片面を摺動して上方に押上げ
るように形成される。その状態をハ図に示す。

操作桿１３はエアシリンダーによつて上方に押
上げられその頭部はホルダー１１の凹部１１ａの
湾曲凹面の片面に沿つて摺動するため図示するＰ
方向へ力が加わりこのためホルダー１１は一定方
向（Ｐ方向）に移動されて、その一定方向に位置
する固定部１６に固定される。しかも、その固定
はスプリング１２によつて一定圧で保持される機
構となつている。

従つて従来Ｘ，Ｙ方向に位置決めし更にＺ方向
にクランプする機構に対し操作は容易となり保持
圧を増大させる大きな利点がある。

(g) 考案の効果 以上詳細に説明したように本考案のホルダー固
定構造とすることにより従来に比して操作は簡素
化され位置精度が向上することによつて微細パタ
ーンの精密描画が可能となる優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は電子ビーム露光装置を示す構成図、第
２図は従来例であるXYステージ上に搭載したホ
ルダーを示す断面図、第３図のイ，ロ図は従来の
ホルダー位置決めを説明するための図、第４図の
イ，ロ図はＺ軸方向への位置決めクランプ構造を
示す断面図、第５図のイ，ロ，ハ図は本考案の一
実施例であるホルダーをXYステージに固定する
固定構造を示す断面図、イ図は静止位置、ロ図は
動作位置、ハ図は一部拡大図である。図中、 １１……ホルダー、１１ａ……凹部、１２……
ばね、１３……操作桿、１４……突出部、１５…
…ホルダーガイド、１６……固定部。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 電子ビームを照射して試料上に所望のパターン
   を描画する電子ビーム露光装置であつて、 表面に該試料を載置するホルダーと、 該ホルダーの裏面に設けられ、その内面にはホ
   ルダーの一定方向に偏位した最深部に向かう斜面
   を有する複数の凹部と、 その側面が該ホルダーと接することで該ホルダ
   ーの水平方向の移動を規制するホルダーガイド
   と、 前記ホルダーガイドの前記側面に設けられ、前
   記ホルダーの上方への移動を制限する突出部と、 該電子ビーム露光装置のXYステージにばねで
   支持される複数の操作桿とを備え、 前記ホルダーは、前記操作桿の各々の頭部を前
   記ホルダーの凹部の最深部に当接して前記ホルダ
   ーを前記凹部の最深部の偏位方向に移動すること
   で、前記ホルダーガイドとその突出部とで構成さ
   れる固定部に圧接されることを特徴とする電子ビ
   ーム露光用ホルダ固定機構。