JPH04128367A - レーザ照射成膜装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレーザビームを使用して複数の成膜を行う成膜
装置のレーザビームの切換えおよびビーム量の調整装置
に関する。

（従来の技術〕 従来の装置は、特開平２−１８８０４号公報に示すよう
に、ターゲットにレーザビームを当てて、レーザアブレ
ーションを行うか、特開平２−２４５８号公報のように
、基板上にレーザビームをアシストする構造となってい
た。

ここで、同一成膜室内でレーザアブレーションとレーザ
アイスト等複数のレーザ成膜を行う場合は、第４図に示
すように、別個のレーザ発振器を用いて構成する必要が
あった。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術では、成膜装置毎にレーザ発振器を設置す
るため、据付スペース、装置費用等が大きくなる問題が
あった。

また、二種のレーザビームの入力は個々に調整する必要
があるため、制御方法が複雑になるという問題があった
。

〔課題を解決するための手段〕

上記の成膜装置毎にレーザ発振器を設けず、発振器を共
用化するために、レーザビーム導入窓付近に、ビームの
方向選択用にミラーを設けたものである。

また、レーザビームの制御量調整のためにものミラーを
使用するようにした。

〔作用〕

レーザビームの導入窓付近に設けられたミラーの交換に
より、ビームの導入成膜装置を選択すシことができる。

また、このミラーにハーフミラ−を用いれば、複数の成
膜装置に同時にビームを導入することソできる。

また、このハーフミラ−の角度の調整により、複数の成
膜装置間のレーザビーム導入量を容易し制御することが
できる。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を第１図ないし第３ぶにより説
明する。第１図ないし第３図は、エキシマレーザ発振器
１を用いて基板ホルダ７にレーづビームアシストを行う
と共に、ターゲット８にレーザビームを当て基板ホルダ
ー上にレーザアブレーションを行う成膜装置である。

本装置にはイオン源９等のレーザビーム以外の成膜装置
も設けられている。

第１図はレーザアシスト及びレーザアブレーションを同
時に行う場合の構造図で、レーザ発振器より出たレーザ
ビームは調整ミラ一部に設けられたハーフミラ−２によ
り図示のように、ターゲット側と基板ホルダ側に分けら
れ、途中に設けたミラー３．レンズ４．レーザ導入窓５
を通って、ターゲット８および基板ホルダ７に導入され
る。

第２図は第１図の構成でレーザアシストを行う場合の構
造図であり、調整ミラ一部にミラーを取付けることによ
り、基板ホルダ側へのみレーザビームを導光できる。

さらに、第３図はレーザアブレーションのみを行う場合
の構造図で、調整ミラーを取外すことにより、ターゲッ
ト側へのみレーザビームを導光できる。

本実施例によれば、調整ミラ一部の交換により成膜源の
切換、又は、同時成膜が可能となる。

また、この調整ミラーにより同時成膜源の成膜量比率の
制御が可能であり、また、イオン源等地の成膜源との成
膜量比率の制御も可能となる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、調整ミラーの切換えにより一個のレー
ザ発振器により複数の成膜源の同時使用、又は、切換え
使用が可能となるので、据付面積及び装置費用の低減効
果がある。

また、調整ミラーにより複数の成膜漸開の成膜比率を調
整できるので、成膜量の制御が簡単になる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例のレーザアシスト及びレーザ
アブレーションを同時成膜する場合の説明図、第２図の
レーザアシスト成膜時の説明図、第３図はレーザアブレ
ーション成膜時の説明図、第４図の従来技術の説明図で
ある。 １・・・レーザ発振器、２・・・調整ミラー、７・・・
基板ホ第 】 図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. １．一個のレーザ発振器と複数の成膜源を備えたレーザ
   照射成膜装置において、 レーザビームの光路に交換可能な調整ミラーを設けたこ
   とを特徴とするレーザ照射成膜装置。
2. ２．請求項１において、前記調整ミラーに複数の前記成
   膜源間の成膜比率の制御機能を持たせたレーザ照射成膜
   。
3. ３．請求項１において、前記調整ミラーに前記レーザビ
   ーム以外の前記成膜源との制御機能を持たせたレーザ照
   射成膜装置。