JPH0413439B2 - - Google Patents
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- JPH0413439B2 JPH0413439B2 JP11783788A JP11783788A JPH0413439B2 JP H0413439 B2 JPH0413439 B2 JP H0413439B2 JP 11783788 A JP11783788 A JP 11783788A JP 11783788 A JP11783788 A JP 11783788A JP H0413439 B2 JPH0413439 B2 JP H0413439B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/06—Suspending or supporting devices for articles to be coated
- C25D17/08—Supporting racks, i.e. not for suspending
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
発明の目的
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えばICリードフレーム・プリン
ト基板の如き板状物や棒状物のような被メツキ物
に、ニツケル・銅・銀あるいは半田等の金属を全
面メツキするための装置に関するものである。 〔従来の技術〕 上記の如き板状物や棒状物等の被メツキ物へ全
面メツキを施す従来手段としては、ラツキング法
が一般的である。これは、例えば「メツキマニア
ル」(友野理平著、株式会社オーム社、昭和46年
10月25日発行)の第57頁乃至第78頁に記載の如
く、引掛け用部をもつ治具(ラツク)に、板状や
棒状の被メツキ物を陰極部に接触させながら引掛
け吊して、メツキ液中で電解処理するものであ
る。また特にICリードフレームへの内装全面メ
ツキや樹脂モールド後の外装メツキ、あるいはプ
リント基板へ全面銅メツキ等をする場合には、量
産のためラツク1つに多数枚を引掛けて処理され
ることが一般的である。 〔発明が解決しようとする課題〕 板状物や棒状物等の被メツキ物への全面メツキ
を、上記従来のラツキング法により行つた場合に
は、メツキにおけるいわゆるエツジ現象により、
被メツキ物の側部寄りほどメツキが付きやすい。 したがつて、ラツクに引掛けた多数枚の被メツ
キ物を全体的に見た場合、その中で側部寄りに引
掛けた被メツキ物ほどメツキ厚が大きく、中央部
寄りに引掛けたものほどメツキ厚が小さくなる。
また被メツキ物単体を見た場合にも、上記全体的
な差程ではないが、やはりその側縁寄り部分ほど
メツキ厚が大きく、中央部寄りほどメツキ厚が小
さくなつている。 この現象は、陽極との間に遮蔽板を設けたとし
ても、その〓間部分においてやはりメツキ膜厚に
差が生じる。このメツキ厚のバラツキは、特に高
精度を要求されるICリードフレームやプリント
基板では到底許容されず、不合格となつてしまう
場合が多い。 本発明は、上記従来の全面メツキ手段が持つ問
題点を解決しようとするものである。即ち本発明
の目的は、被メツキ物へのメツキ膜厚を長手方向
および高さ方向にも全面的に均一にできるよう
な、全面メツキ装置を提供することにある。 発明の構成 〔課題を解決するための手段〕 本発明に係る全面メツキ装置は、メツキ槽2横
に接点剥離槽3を並設するとともに、該両槽2,
3上方に水平移行する無端状搬送手段4を設け
て、該搬送手段4の進行側がメツキ槽2上を、後
退側が接点剥離槽3上を移行可能とし、該搬送手
段4に、下部に陰極接点6を有して被メツキ物1
を横長垂直状に載置可能な被メツキ物保持治具5
を、等間隔状に多数個を垂設し、メツキ槽2内を
保持治具5内の被メツキ物1が進行する進行路8
の両側に、進行方向に一定間隔で陽極用開口部
9,9をもつ遮蔽板10,10と、各陽極用開口
部9,9外側に被メツキ物1両側面への平行状の
陽極11,11とを設けるとともに、遮蔽板1
0,10間への液循環パイプ7,7を設け、かつ
上記搬送手段4を、被メツキ物1の長手方向中央
部が陽極用開口部9,9位置へ移行時に、一定時
間停止する間欠運動可能に設けてなるものであ
る。 上記構成において、端無状搬送手段4は例えば
チエン式の無端状のものとし、メツキ槽2と接点
剥離槽3上方の前後に設けた縦軸で回転するホイ
ル12,12により、その進行側がメツキ槽2上
を移行し、後退側が接点剥離槽3上を移行する如
く、水平状の循環移行を可能としてある。 また該搬送手段4は、被メツキ物1の長手方向
中央部が遮蔽板10,10の陽極用開口部9,9
位置にきたとき、一定時間停止する間欠運動可能
としておく。なお該搬送手段4の間欠運動は、被
メツキ物1全面のメツキ膜厚分布を所望の状態に
調節するため、被メツキ物1が遮蔽板10,10
間を通過する時間と、陽極用開口部9,9で一時
停止する時間とを、適正に調節可能としてある。 被メツキ物1の保持治具5は、下部上面に陰極
接点6を有し、かつ被メツキ物1を横長垂直状に
載置可能なものであればよい。例えば図示例の如
く、搬送手段4から二本のフツクを多数組み垂設
させ、その各下部上面に陰極接点6を露出させた
ものとすればよい。該保持治具5は上記搬送手段
4により、メツキ槽2内を被メツキ物1を保持し
て進行路8を進行した後に該槽2の前部から出
て、被メツキ物1を次の工程へ渡した後、接点剥
離槽3へ前部から入つて該剥離槽3を後退後に後
部から出て、再びメツキ槽2へ後部から戻る循環
移行を可能としておく。 遮蔽板10,10は上記の如く、メツキ槽2内
で保持治具5内の被メツキ物1が進行する進行路
8を間にして両側に並設してあるが、該両側遮蔽
板10,10には進行方向に沿つて一定間隔に、
陽極用開口部9,9を形成してある。該開口部
9,9を設ける一定間隔は、少なくとも被メツキ
物1の横幅より大きいものにしてある。 陽極11,11は、上記両遮蔽板10,10の
各開口部9,9外側に、被メツキ物1の両側面と
平行状に成る如く設けておくが、例えば図示例の
如くチツプ状にしてチタン製のアノードケース内
に収容したもの、あるいは板状としてもよい。 接点剥離槽3は、上記の如くメツキ槽2の横に
並設しておくが、該剥離槽3の電解剥離液として
は、例えばメツキ液または光沢剤等を除いたメツ
キ液の一部の成分を利用した剥離液を入れておく
のがよい。 液循環パイプ7,7は、メツキ液を遮蔽板1
0,10内へ供給し循環させるため液を噴流する
ものであるが、該循環パイプ7,7を設ける位置
は、各側の遮蔽板10,10の陽極用開口部9,
9間に、両側で交互位置になる如くに配設してお
くのがよい。 なお上記搬送手段4は、被メツキ物1の種類に
よつて、メツキ膜厚がそれほど均一性を要求され
ぬ場合もあるので、それにも対応可能に連続移動
できるものを用いるのが望ましい。図において、
15は治具剥離陰極である。16はメツキ槽から
の液排出パイプで、各陽極11下方に設けてあ
る。 〔作用〕 本発明の作動状態は次の如くである。 メツキ液を入れたメツキ槽2内の電極に通電す
るとともに、間欠運動可能な搬送手段4を駆動さ
せておき、等間隔の保持治具5に短尺の被メツキ
物1を順次に送り込む。各被メツキ物1は、各保
持治具5下部で陰極接点6に接しながら、横長垂
直状に載置・保持されている。 搬送手段4の移動により保持治具5内の被メツ
キ物1は、メツキ槽2内両側の陽極11,11間
の進行路8を第4図で示す如く進行するので、被
メツキ物1の両面にメツキ膜が形成されるが、そ
の際エツジ現象により、被メツキ物1の側縁寄り
部分ほどメツキ膜が厚くなつている。 ところが本発明では、陽極11,11間の進行
路8を進行する被メツキ物1の両側に、進行方向
に一定間隔で陽極用開口部9,9をもつ遮蔽板1
0,10を設けてある。しかも搬送されてきた被
メツキ物1は、第3図・第5図で示す如く、その
中央部が上記陽極用開口部9,9に対応する位置
に来た時点で、搬送手段4により一定時間停止さ
れる。そのためこの一時停止時中は、上記とは逆
に、陽極11,11と対応する位置にある被メツ
キ物1中央部が、側縁寄り部分よりもメツキが付
きやすく、メツキ膜が厚く形成される。 それゆえ、被メツキ物1がメツキ槽2内を進行
中に、何箇所かの陽極用開口部9,9で一定時間
停止しすることにより、被メツキ物1中央部に対
してメツキ膜形成が充分に繰り返される。その結
果、該被メツキ物1がメツキ槽2内を進行し終わ
る段階では、被メツキ物1上のメツキ膜は、側縁
寄り部分はもとより中央部にも充分な膜厚が形成
され、長手方向の全体的に均一なメツキ膜とな
る。 さらに本発明では陽極11,11を、両側の陽
極用開口部9,9外側に、進行部8での保持治具
5内の被メツキ物1両側面と平行状になるように
設けてある。そのため陽極11,11と陰極接点
6との極間距離が短い場合にも、被メツキ物1と
陽極11,11との最短距離は、被メツキ物1の
各部の高さにおいて近似する。それゆえ被メツキ
物1の高さ方向(幅方向)のメツキ膜厚も、均一
化し易くなつている。 なお液循環パイプ7,7は、メツキ槽2内でメ
ツキ液を遮蔽板10,10内へ供給し循環させる
べく液を噴流しているが、図示例では液循環パイ
プ7,7を、各側の遮蔽板10,10の陽極用開
口部9,9間に、両側で交互位置になる如くに配
設してある。そこで被メツキ物1は、両側の遮蔽
板10,10間の進行路8を進行する際、一側の
液循環パイプ7から液の噴流を受けて、第7図で
示す如く保持治具5内で反対側へ傾き、次いで他
側の液噴流パイプ7からの液噴流を受けて第8図
の如く反対側へ傾く。そのため被メツキ物1は、
下端を陰極接点6に接しながら、保持治具5内で
両側へ交互に揺れ動いて進行するので、保持治具
5と接触し続ける箇所がなく、したがつてメツキ
の影が生じない。 そして、メツキ槽2内を被メツキ物1を保持し
て進行後の保持治具5は、メツキ槽2前側から出
て被メツキ物1を次工程へ渡し、その後に接点剥
離槽3へ前側から入り、該剥離槽3内を後退す
る。この接点剥離槽3内の通過により、保持治具
5の陰極接点6に電着しているメツキは、電解剥
離液にて剥離される。 その際の保持治具5は、搬送手段4が両槽2,
3の外部にあるため図示例の如きシンプルな構成
となつており、液の持ち出しや持ち込みは極めて
少ない。また剥離槽3内を通過するのは、保持治
具5の内で単に陰極接点6だけでよく、保持治具
5の大部分や搬送手段4は剥離槽3上の移動であ
るため、剥離液の量は少なくてよい。 なお該剥離槽3内の剥離液を、メツキ液または
メツキ液を成分とする電解剥離液としてあれば、
メツキ液が陰極接点6に付着して該剥離槽3へ持
ち込まれても、メツキ液と同質の電解剥離液は変
質せず、逆に剥離液のメツキ槽2への持ち込みも
何ら問題とならない。また電解剥離後に陰極接点
6を水洗する必要もなくなる。 〔実施例〕 本発明の効果を確認するため、実施例としての
第1図ないし第8図で示す全面メツキ装置を用い
て、外装用半田メツキを行つた。メツキ液9:1
半田スロツトレツトKB浴(西独マツクスシユレ
ーター社製)、電流密度5A/dm2、浴温20C、設
定膜厚値7μm、極間距離40〜50mm、被メツキ物
ICリードフレーム(Dip28ピン220×45mm、
Flat84ピン188×55mm)、遮蔽板長さ600mm、時間
3.5分(内各停止時間35秒、各移動時間52.5秒)
とし、膜厚測定機蛍光X線膜厚測定機(セイコー
社製SFT−158型)で被メツキ物1各部の膜厚を
測定した。それを、従来のラツキング法により同
じ条件でメツキしたものと比較すると以下の表の
ようになる。
ト基板の如き板状物や棒状物のような被メツキ物
に、ニツケル・銅・銀あるいは半田等の金属を全
面メツキするための装置に関するものである。 〔従来の技術〕 上記の如き板状物や棒状物等の被メツキ物へ全
面メツキを施す従来手段としては、ラツキング法
が一般的である。これは、例えば「メツキマニア
ル」(友野理平著、株式会社オーム社、昭和46年
10月25日発行)の第57頁乃至第78頁に記載の如
く、引掛け用部をもつ治具(ラツク)に、板状や
棒状の被メツキ物を陰極部に接触させながら引掛
け吊して、メツキ液中で電解処理するものであ
る。また特にICリードフレームへの内装全面メ
ツキや樹脂モールド後の外装メツキ、あるいはプ
リント基板へ全面銅メツキ等をする場合には、量
産のためラツク1つに多数枚を引掛けて処理され
ることが一般的である。 〔発明が解決しようとする課題〕 板状物や棒状物等の被メツキ物への全面メツキ
を、上記従来のラツキング法により行つた場合に
は、メツキにおけるいわゆるエツジ現象により、
被メツキ物の側部寄りほどメツキが付きやすい。 したがつて、ラツクに引掛けた多数枚の被メツ
キ物を全体的に見た場合、その中で側部寄りに引
掛けた被メツキ物ほどメツキ厚が大きく、中央部
寄りに引掛けたものほどメツキ厚が小さくなる。
また被メツキ物単体を見た場合にも、上記全体的
な差程ではないが、やはりその側縁寄り部分ほど
メツキ厚が大きく、中央部寄りほどメツキ厚が小
さくなつている。 この現象は、陽極との間に遮蔽板を設けたとし
ても、その〓間部分においてやはりメツキ膜厚に
差が生じる。このメツキ厚のバラツキは、特に高
精度を要求されるICリードフレームやプリント
基板では到底許容されず、不合格となつてしまう
場合が多い。 本発明は、上記従来の全面メツキ手段が持つ問
題点を解決しようとするものである。即ち本発明
の目的は、被メツキ物へのメツキ膜厚を長手方向
および高さ方向にも全面的に均一にできるよう
な、全面メツキ装置を提供することにある。 発明の構成 〔課題を解決するための手段〕 本発明に係る全面メツキ装置は、メツキ槽2横
に接点剥離槽3を並設するとともに、該両槽2,
3上方に水平移行する無端状搬送手段4を設け
て、該搬送手段4の進行側がメツキ槽2上を、後
退側が接点剥離槽3上を移行可能とし、該搬送手
段4に、下部に陰極接点6を有して被メツキ物1
を横長垂直状に載置可能な被メツキ物保持治具5
を、等間隔状に多数個を垂設し、メツキ槽2内を
保持治具5内の被メツキ物1が進行する進行路8
の両側に、進行方向に一定間隔で陽極用開口部
9,9をもつ遮蔽板10,10と、各陽極用開口
部9,9外側に被メツキ物1両側面への平行状の
陽極11,11とを設けるとともに、遮蔽板1
0,10間への液循環パイプ7,7を設け、かつ
上記搬送手段4を、被メツキ物1の長手方向中央
部が陽極用開口部9,9位置へ移行時に、一定時
間停止する間欠運動可能に設けてなるものであ
る。 上記構成において、端無状搬送手段4は例えば
チエン式の無端状のものとし、メツキ槽2と接点
剥離槽3上方の前後に設けた縦軸で回転するホイ
ル12,12により、その進行側がメツキ槽2上
を移行し、後退側が接点剥離槽3上を移行する如
く、水平状の循環移行を可能としてある。 また該搬送手段4は、被メツキ物1の長手方向
中央部が遮蔽板10,10の陽極用開口部9,9
位置にきたとき、一定時間停止する間欠運動可能
としておく。なお該搬送手段4の間欠運動は、被
メツキ物1全面のメツキ膜厚分布を所望の状態に
調節するため、被メツキ物1が遮蔽板10,10
間を通過する時間と、陽極用開口部9,9で一時
停止する時間とを、適正に調節可能としてある。 被メツキ物1の保持治具5は、下部上面に陰極
接点6を有し、かつ被メツキ物1を横長垂直状に
載置可能なものであればよい。例えば図示例の如
く、搬送手段4から二本のフツクを多数組み垂設
させ、その各下部上面に陰極接点6を露出させた
ものとすればよい。該保持治具5は上記搬送手段
4により、メツキ槽2内を被メツキ物1を保持し
て進行路8を進行した後に該槽2の前部から出
て、被メツキ物1を次の工程へ渡した後、接点剥
離槽3へ前部から入つて該剥離槽3を後退後に後
部から出て、再びメツキ槽2へ後部から戻る循環
移行を可能としておく。 遮蔽板10,10は上記の如く、メツキ槽2内
で保持治具5内の被メツキ物1が進行する進行路
8を間にして両側に並設してあるが、該両側遮蔽
板10,10には進行方向に沿つて一定間隔に、
陽極用開口部9,9を形成してある。該開口部
9,9を設ける一定間隔は、少なくとも被メツキ
物1の横幅より大きいものにしてある。 陽極11,11は、上記両遮蔽板10,10の
各開口部9,9外側に、被メツキ物1の両側面と
平行状に成る如く設けておくが、例えば図示例の
如くチツプ状にしてチタン製のアノードケース内
に収容したもの、あるいは板状としてもよい。 接点剥離槽3は、上記の如くメツキ槽2の横に
並設しておくが、該剥離槽3の電解剥離液として
は、例えばメツキ液または光沢剤等を除いたメツ
キ液の一部の成分を利用した剥離液を入れておく
のがよい。 液循環パイプ7,7は、メツキ液を遮蔽板1
0,10内へ供給し循環させるため液を噴流する
ものであるが、該循環パイプ7,7を設ける位置
は、各側の遮蔽板10,10の陽極用開口部9,
9間に、両側で交互位置になる如くに配設してお
くのがよい。 なお上記搬送手段4は、被メツキ物1の種類に
よつて、メツキ膜厚がそれほど均一性を要求され
ぬ場合もあるので、それにも対応可能に連続移動
できるものを用いるのが望ましい。図において、
15は治具剥離陰極である。16はメツキ槽から
の液排出パイプで、各陽極11下方に設けてあ
る。 〔作用〕 本発明の作動状態は次の如くである。 メツキ液を入れたメツキ槽2内の電極に通電す
るとともに、間欠運動可能な搬送手段4を駆動さ
せておき、等間隔の保持治具5に短尺の被メツキ
物1を順次に送り込む。各被メツキ物1は、各保
持治具5下部で陰極接点6に接しながら、横長垂
直状に載置・保持されている。 搬送手段4の移動により保持治具5内の被メツ
キ物1は、メツキ槽2内両側の陽極11,11間
の進行路8を第4図で示す如く進行するので、被
メツキ物1の両面にメツキ膜が形成されるが、そ
の際エツジ現象により、被メツキ物1の側縁寄り
部分ほどメツキ膜が厚くなつている。 ところが本発明では、陽極11,11間の進行
路8を進行する被メツキ物1の両側に、進行方向
に一定間隔で陽極用開口部9,9をもつ遮蔽板1
0,10を設けてある。しかも搬送されてきた被
メツキ物1は、第3図・第5図で示す如く、その
中央部が上記陽極用開口部9,9に対応する位置
に来た時点で、搬送手段4により一定時間停止さ
れる。そのためこの一時停止時中は、上記とは逆
に、陽極11,11と対応する位置にある被メツ
キ物1中央部が、側縁寄り部分よりもメツキが付
きやすく、メツキ膜が厚く形成される。 それゆえ、被メツキ物1がメツキ槽2内を進行
中に、何箇所かの陽極用開口部9,9で一定時間
停止しすることにより、被メツキ物1中央部に対
してメツキ膜形成が充分に繰り返される。その結
果、該被メツキ物1がメツキ槽2内を進行し終わ
る段階では、被メツキ物1上のメツキ膜は、側縁
寄り部分はもとより中央部にも充分な膜厚が形成
され、長手方向の全体的に均一なメツキ膜とな
る。 さらに本発明では陽極11,11を、両側の陽
極用開口部9,9外側に、進行部8での保持治具
5内の被メツキ物1両側面と平行状になるように
設けてある。そのため陽極11,11と陰極接点
6との極間距離が短い場合にも、被メツキ物1と
陽極11,11との最短距離は、被メツキ物1の
各部の高さにおいて近似する。それゆえ被メツキ
物1の高さ方向(幅方向)のメツキ膜厚も、均一
化し易くなつている。 なお液循環パイプ7,7は、メツキ槽2内でメ
ツキ液を遮蔽板10,10内へ供給し循環させる
べく液を噴流しているが、図示例では液循環パイ
プ7,7を、各側の遮蔽板10,10の陽極用開
口部9,9間に、両側で交互位置になる如くに配
設してある。そこで被メツキ物1は、両側の遮蔽
板10,10間の進行路8を進行する際、一側の
液循環パイプ7から液の噴流を受けて、第7図で
示す如く保持治具5内で反対側へ傾き、次いで他
側の液噴流パイプ7からの液噴流を受けて第8図
の如く反対側へ傾く。そのため被メツキ物1は、
下端を陰極接点6に接しながら、保持治具5内で
両側へ交互に揺れ動いて進行するので、保持治具
5と接触し続ける箇所がなく、したがつてメツキ
の影が生じない。 そして、メツキ槽2内を被メツキ物1を保持し
て進行後の保持治具5は、メツキ槽2前側から出
て被メツキ物1を次工程へ渡し、その後に接点剥
離槽3へ前側から入り、該剥離槽3内を後退す
る。この接点剥離槽3内の通過により、保持治具
5の陰極接点6に電着しているメツキは、電解剥
離液にて剥離される。 その際の保持治具5は、搬送手段4が両槽2,
3の外部にあるため図示例の如きシンプルな構成
となつており、液の持ち出しや持ち込みは極めて
少ない。また剥離槽3内を通過するのは、保持治
具5の内で単に陰極接点6だけでよく、保持治具
5の大部分や搬送手段4は剥離槽3上の移動であ
るため、剥離液の量は少なくてよい。 なお該剥離槽3内の剥離液を、メツキ液または
メツキ液を成分とする電解剥離液としてあれば、
メツキ液が陰極接点6に付着して該剥離槽3へ持
ち込まれても、メツキ液と同質の電解剥離液は変
質せず、逆に剥離液のメツキ槽2への持ち込みも
何ら問題とならない。また電解剥離後に陰極接点
6を水洗する必要もなくなる。 〔実施例〕 本発明の効果を確認するため、実施例としての
第1図ないし第8図で示す全面メツキ装置を用い
て、外装用半田メツキを行つた。メツキ液9:1
半田スロツトレツトKB浴(西独マツクスシユレ
ーター社製)、電流密度5A/dm2、浴温20C、設
定膜厚値7μm、極間距離40〜50mm、被メツキ物
ICリードフレーム(Dip28ピン220×45mm、
Flat84ピン188×55mm)、遮蔽板長さ600mm、時間
3.5分(内各停止時間35秒、各移動時間52.5秒)
とし、膜厚測定機蛍光X線膜厚測定機(セイコー
社製SFT−158型)で被メツキ物1各部の膜厚を
測定した。それを、従来のラツキング法により同
じ条件でメツキしたものと比較すると以下の表の
ようになる。
【表】
上表で明らかな如く、本発明により全面メツキ
した場合には、最大膜厚と最小膜厚との差が従来
のラツキング法によるものと比べて、きわめて小
さくなること分かる。 発明の効果 以上で明らかな如く、本発明の全面メツキ装置
によれば、被メツキ物のメツキ膜厚を全面的に均
一にできる。 即ち、従来行われていたラツキング法では、エ
ツジ現象により、被メツキ物の側縁寄りほどメツ
キが折出し易く、膜厚が中央部よりも厚くなり、
このメツキ厚のバラツキは、特に高精度を要求さ
れるICリードフレームやプリント基板では許容
されず、不合格となる場合が多かつた。 しかし本発明では、上記の如くメツキ槽内で被
メツキ物が進行する両側に、等間隔の陽極用開口
部を持つ遮蔽板を設け、かつ被メツキ物の中央部
が開口部に対応する位置へきた際、搬送手段を一
定時間停止させるようにしてある。それゆえこの
位置では、被メツキ物の中央部にメツキが充分に
析出するので、エツジ現象でメツキが付やすい側
縁部寄りと同様なメツキ膜厚となり、メツキの膜
厚を均一化できる。 また本発明では陽極を、陽極用開口部外側にお
いて保持治具内の被メツキ物両側面と平行状に設
けてあるので、陽極と陰極との極間距離が短い場
合にも、被メツキ物と陽極との最短距離は、被メ
ツキ物の高さの各位置に近似する。そのため、被
メツキ物の高さ方向の各位置で、メツキ膜厚が均
一化できる。したがつて本発明では、被メツキ物
の全面にわたつて、ほぼ均一なメツキ膜厚を形成
できるものである。 なお、実施例の構成の如くメツキ槽内の液循環
パイプを、各側の遮蔽板の陽極用開口部間に、両
側で交互位置になる如くに配設してあれば、被メ
ツキ物は、両側の遮蔽板間を進行する際、交互位
置に配設の液循環パイプから液の噴流を受け、保
持治具内で交互に傾き揺れ動きながら進行する。
そのため被メツキ物は、保持治具と接触し続ける
箇所がなく、したがつてメツキの影が生じず、均
一なメツキを行なうことができる。 さらに実施例の構成の如く、搬送手段はメツキ
槽および接点剥離槽上の循環移動させ、被メツキ
物保持治具の一部だけがメツキ槽を進行後、並設
の接点剥離槽を後退して循環移動させてあれば、
従来と異なりメツキ液の持ち出し・持ち込みをき
わめて少なくできる。さらに、接点剥離槽の剥離
液として、メツキ液またはメツキ液を成分とする
電解剥離液を用いてあれば、陰極接点によりメツ
キ液が持ち込まれても、メツキ液と同質の電解剥
離液は変質せず、逆に剥離液のメツキ槽への持ち
込みも問題とならず、メツキの品質が良くなり、
処理時間も短縮でき、経済性も向上できる。
した場合には、最大膜厚と最小膜厚との差が従来
のラツキング法によるものと比べて、きわめて小
さくなること分かる。 発明の効果 以上で明らかな如く、本発明の全面メツキ装置
によれば、被メツキ物のメツキ膜厚を全面的に均
一にできる。 即ち、従来行われていたラツキング法では、エ
ツジ現象により、被メツキ物の側縁寄りほどメツ
キが折出し易く、膜厚が中央部よりも厚くなり、
このメツキ厚のバラツキは、特に高精度を要求さ
れるICリードフレームやプリント基板では許容
されず、不合格となる場合が多かつた。 しかし本発明では、上記の如くメツキ槽内で被
メツキ物が進行する両側に、等間隔の陽極用開口
部を持つ遮蔽板を設け、かつ被メツキ物の中央部
が開口部に対応する位置へきた際、搬送手段を一
定時間停止させるようにしてある。それゆえこの
位置では、被メツキ物の中央部にメツキが充分に
析出するので、エツジ現象でメツキが付やすい側
縁部寄りと同様なメツキ膜厚となり、メツキの膜
厚を均一化できる。 また本発明では陽極を、陽極用開口部外側にお
いて保持治具内の被メツキ物両側面と平行状に設
けてあるので、陽極と陰極との極間距離が短い場
合にも、被メツキ物と陽極との最短距離は、被メ
ツキ物の高さの各位置に近似する。そのため、被
メツキ物の高さ方向の各位置で、メツキ膜厚が均
一化できる。したがつて本発明では、被メツキ物
の全面にわたつて、ほぼ均一なメツキ膜厚を形成
できるものである。 なお、実施例の構成の如くメツキ槽内の液循環
パイプを、各側の遮蔽板の陽極用開口部間に、両
側で交互位置になる如くに配設してあれば、被メ
ツキ物は、両側の遮蔽板間を進行する際、交互位
置に配設の液循環パイプから液の噴流を受け、保
持治具内で交互に傾き揺れ動きながら進行する。
そのため被メツキ物は、保持治具と接触し続ける
箇所がなく、したがつてメツキの影が生じず、均
一なメツキを行なうことができる。 さらに実施例の構成の如く、搬送手段はメツキ
槽および接点剥離槽上の循環移動させ、被メツキ
物保持治具の一部だけがメツキ槽を進行後、並設
の接点剥離槽を後退して循環移動させてあれば、
従来と異なりメツキ液の持ち出し・持ち込みをき
わめて少なくできる。さらに、接点剥離槽の剥離
液として、メツキ液またはメツキ液を成分とする
電解剥離液を用いてあれば、陰極接点によりメツ
キ液が持ち込まれても、メツキ液と同質の電解剥
離液は変質せず、逆に剥離液のメツキ槽への持ち
込みも問題とならず、メツキの品質が良くなり、
処理時間も短縮でき、経済性も向上できる。
図は本発明の実施例を示すもので、第1図はメ
ツキ装置の平面図、第2図は第1図のA−A断面
図、第3図は陽極用開口部と陽極との位置関係を
示す一部の斜視図、第4図は被メツキ物が移動時
の遮蔽板との位置関係を示す概略平面図、第5図
は被メツキ物が一時停止時の陽極用開口部との位
置関係を示す概略平面図、第6図は被メツキ物保
持治具の一実施例の斜視図、第7図と第8図は液
循環パイプと被メツキ物との関係を示す縦断側面
図である。 図面符号、1……被メツキ物、2……メツキ
槽、3……接点剥離槽、4……搬送手段、5……
保持治具、6……陰極接点、7……液循環パイ
プ、8……進行路、9……開口部、10……遮蔽
板、11……陽極。
ツキ装置の平面図、第2図は第1図のA−A断面
図、第3図は陽極用開口部と陽極との位置関係を
示す一部の斜視図、第4図は被メツキ物が移動時
の遮蔽板との位置関係を示す概略平面図、第5図
は被メツキ物が一時停止時の陽極用開口部との位
置関係を示す概略平面図、第6図は被メツキ物保
持治具の一実施例の斜視図、第7図と第8図は液
循環パイプと被メツキ物との関係を示す縦断側面
図である。 図面符号、1……被メツキ物、2……メツキ
槽、3……接点剥離槽、4……搬送手段、5……
保持治具、6……陰極接点、7……液循環パイ
プ、8……進行路、9……開口部、10……遮蔽
板、11……陽極。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 メツキ槽2横に接点剥離槽3を並設するとと
もに、該両槽2,3上方に水平移行する無端状搬
送手段4を設けて、該搬送手段4の進行側がメツ
キ槽2上を、後退側が接点剥離槽3上を移行可能
とし、該搬送手段4に、下部に陰極接点6を有し
て被メツキ物1を横長垂直状に載置可能な被メツ
キ物保持治具5を、等間隔状に多数個を垂設し、
メツキ槽2内を保持治具5内の被メツキ物1が進
行する進行路8両側に、進行方向に一定間隔で陽
極用開口部9,9をもつ遮蔽板10,10と、各
陽極用開口部9,9外側に被メツキ物1両側面へ
の平行状の陽極11,11とを設けるとともに、
遮蔽板10,10間への液循環パイプ7,7を設
け、かつ上記搬送手段4を、被メツキ物1の長手
方向中央部が陽極用開口部9,9位置へ移行時
に、一定時間停止する間欠運動可能に設けたこと
を特徴とする、全面メツキ装置。 2 各遮蔽板10,10の陽極用開口部9,9間
に、メツキ液を噴流する液循環パイプ7,7を、
両側で交互位置になる如くに配設した、請求項1
に記載の全面メツキ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11783788A JPH01287299A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | 全面メッキ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11783788A JPH01287299A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | 全面メッキ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01287299A JPH01287299A (ja) | 1989-11-17 |
| JPH0413439B2 true JPH0413439B2 (ja) | 1992-03-09 |
Family
ID=14721483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11783788A Granted JPH01287299A (ja) | 1988-05-13 | 1988-05-13 | 全面メッキ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01287299A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0774476B2 (ja) * | 1990-03-27 | 1995-08-09 | 富士プラント工業株式会社 | 短尺板状被メッキ物への全面メッキ方法、装置および保持治具 |
| JP4684841B2 (ja) * | 2005-10-14 | 2011-05-18 | 株式会社太洋工作所 | 表面処理装置及び表面処理方法 |
| KR100956685B1 (ko) * | 2007-11-14 | 2010-05-10 | 삼성전기주식회사 | 도금장치 |
| JP5613499B2 (ja) * | 2010-08-25 | 2014-10-22 | アルメックスPe株式会社 | 表面処理装置 |
-
1988
- 1988-05-13 JP JP11783788A patent/JPH01287299A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01287299A (ja) | 1989-11-17 |
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