JPH0413692A - ステロイド誘導体及びその製造方法 - Google Patents
ステロイド誘導体及びその製造方法Info
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- JPH0413692A JPH0413692A JP11546490A JP11546490A JPH0413692A JP H0413692 A JPH0413692 A JP H0413692A JP 11546490 A JP11546490 A JP 11546490A JP 11546490 A JP11546490 A JP 11546490A JP H0413692 A JPH0413692 A JP H0413692A
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Description
ある。] で示されるステロイド誘導体を得、該一般式(II)で
示されるステロイド誘導体と一般式[式中、R3、X及
びZは請求項1記載の定義のとおりである。] で示されるスルホンを塩基性物質の存在下に反応[式中
IR’及びR2はそれぞれ水素原子、アシル基、低級ア
ルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は置換基を有
していてもよいアルコキシメチル基を表し、R3は水素
原子又はメチル基を表し、Xは水素原子又は−〇Y基を
表し、ここで、Yは水素原子、アシル基、三置換シリル
基又は置換基を有していてもよいアルコキシメチル基を
表し、Zはアリールスルホニル基を表す、] で示されるステロイド誘導体及びその製造方法に関する
。
イド誘導体は、慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、骨軟
化症、骨粗鬆症などのカルシウム代謝の欠陥症の治療に
有効であることが知られているlα−ヒドロキシビタミ
ンD2、lα、25ジヒドロキシビタミンD2,24−
エビ−1α。
誘導体の合成中間体として有用である。
24位エピマーの合成中間体として一般[式中、R4及
びR6は、R4がメチル基の時にR6は水素原子であり
、R4が水素原子の時にR5はメチル基であり、Phは
フェニル基を表し、THPはテトラヒドロピラニル基を
表す、] で示されるジエン部分を保護したステロイド誘導体が知
られており、それらの製造方法として、(22E)−5
,7,22−エルゴスタトリエン−1α、3β、25−
トリオール又はその24位のエピマーを出発原料とする
製造方法が知られている(特開平2−3616E3号公
報参照)。
分が保護されており、このステロイド誘導体を製造する
に要する工程数は多く、また該ステロイド誘導体を種々
の生理活性を有する化合物に誘導する際には脱保護の工
程が必要となる。
、ジエンの保護及びその脱保護の工程を経由することな
く種々の生理活性を有するステロイド誘導体を製造する
ことができる方法を与える合成中間体として有用な新規
な化合物を提供することにある。
製造する方法を提供することにある。
で示されるステロイド誘導体と一般式(rV)[式中、
R” X及び2は前記定義のとおりである。] で示されるスルホンを塩基性物質の存在下に反応させる
ことを特徴とする一般式(1)で示されるステロイド誘
導体の製造方法、及び ■−一般式I[l) [式中、R”及びR”はそれぞれアシル基、低級アルコ
キシカルボニル基、三置換シリル基又は置換基を有して
いてもよいアルコキシメチル基を表す、] で示されるステロイド誘導体をジメチルスルホキシド中
でアミンの存在下にオギザリルクロリドを用いて酸化す
ることにより一般式(II)で示されるステロイド誘導
体を得、該一般式(II)で示されるステロイド誘導体
と一般式(IV)で示されるスルホンを塩基性物質の存
在下に反応させることを特徴とする一般式(I)で示さ
れるステロイド誘導体の製造方法 を提供することにより達成される。
びZを以下に詳しく説明する。R’、R”R目及びR”
のそれぞれが表すアシル基としては、アセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基
、イソバレリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、モノ
クロルアセチル基、トリフルオロアセチル基等が挙げら
れ、低級アルコキシカルボニル基としては、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカ
ルボニル基等が挙げられ、三置換シリル基としては、ト
リメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロ
ピルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、t−ブチ
ルジフェニルシリル基等が挙げられ、また置換基を有し
ていてもよいアルコキシメチル基としては、メトキシメ
チル基、メトキシエトキシメチル基、1−(エトキシ)
エチル基、1−(メトキシ)イソプロピル基、テトラヒ
ドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられ
る。Yが表すアシル基としては、アセチル基、プロピオ
ニル基、ブチリル基、モノクロルアセチル基等が挙げら
れ、三置換シリル基としては、トリメチルシリル基、ト
リエチルシリル基等が挙げられ、また置換基を有してい
てもよいアルコキシメチル基としては、メトキシメチル
基、メトキシエトキシメチル基、1−(エトキシ)エチ
ル基、l−(メトキシ)イソプロピル基、テトラヒドロ
フラニル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。
ホニル基、p−トルエンスルホニル基、p−ブロモベン
ゼンスルホニル基等が挙げられる。
れぞれのステロイド誘導体を以後下記のように称するこ
とがある。
は、アルコール(DI)にジメチルスルホキシド中で、
アミンの存在下にオギザリルクロリドを作用させて該ア
ルコール(In)を酸化することによす行われる。ジメ
チルスルホキシドの使用量は、アルコール(m)1モル
に対して通常約5〜50モルである。また、オギザリル
クロリドの使用量は、アルコール(■)1モルに対して
通常約2〜30モルである。使用されるアミンとしては
、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチル
アミン、4−ジメチルアミノピリジン等の三級アミンが
好ましく、その使用量はアルコール(1)1モルに対し
て通常約5〜100モルである。この反応は溶媒中で行
うのが好ましく、溶媒としては、例えばクロロホルム、
塩化メチレン等が用いられる。上記のアミンを溶媒とし
て用いることも可能である。溶媒の使用量はアルコール
(III)に対して通常約5〜200倍重量である。
る。この反応において、アルコール(I[I)の水酸基
の保護基が三置換シリル基等である場合には、反応の条
件によっては一般式(II)においてR1及び/又はR
2が水素原子であるアルデヒドが得られる。
物からの単離・精製は、通常の有機化合物の単離・精製
において用いられている方法と同様にして行われる。例
えば、反応混合物を水にあけ、酢酸エチル等の有機溶媒
で抽出し、抽出液を水及び食塩水で順次洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥後、濃縮する。得られる粗生成物を必
要に応じて再結晶、クロマトグラフィーなどにより精製
し、アルデヒド(II)を得る。
換は、アルデヒド(II)と一般式(IV)で示される
スルホン(以下、これをスルホン(rV)と称すること
がある)を塩基性物質の存在下に反応させることにより
行われる。スルホン(IV)の使用量は、アルデヒド(
■)1モルに対して通常約1〜20モルである。使用さ
れる塩基性物質としては、水素化ナトリウム、水素化カ
リウムなどの金属水素化物;メチルリチウム、ブチルリ
チウム、フェニルリチウムなどの有機金属化合物;リチ
ウムアミド、ナトリウムアミド、リチウムジイソプロピ
ルアミド、リチウムテトラメチルビベラジド、リチウム
ヘキサメチルジシラジド、ナトリウムへキサメチルジシ
ラジド、カリウムへキサメチルジシラジドなどの金属ア
ミド等が挙げられる。その使用量は、塩基性物質の性質
によっても異なるが、スルホン(■)1モルに対して通
常0.8〜20モルである0反応は溶媒中で行うのが好
ましく、溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジ
メトキシエタン、ジエチルエーテル、ジオキサン、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、アセトン、
ヘキサメチルホスホリックトリアミド及びこれらの混合
溶媒などが使用される。溶媒の使用量は、アルデヒド(
II)に対して通常約5〜200倍重量である0反応は
、通常的−100℃〜50℃の範囲内の温度で行われる
。
混合物からの単離・精製は、通常の有機化合物の単離・
精製において用いられる方法と同様にして行われる0例
えば、反応混合物を水又は塩化アンモニウム水溶液にあ
け、ジエチルエーテル、塩化メチレン、酢酸エチルなど
の有機溶媒で抽出し、抽出液を食塩水で洗浄したのち、
乾燥後、濃縮して粗生成物を得、該粗生成物を、必要に
応じて再結晶、クロマトグラフィーなどにより精製する
ことにより行われる。
学会第58春季年会講演予稿集I1.2IL34.11
84頁、1989年参照)に従って調製できる。またス
ルホン(IV)は、HoF、 DeLucaらの方法[
ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(J、
Org、 CheIll、 )、53巻、3450−
3457頁(1988年)参照]に従って調製すること
ができる。
−ヒドロキシビタミンD2.1α、25ジヒドロキシビ
タミンD、、24−エビ−1α。
おりであり、R12及びR22はそれぞれ水素原子、ア
シル基、低級アルコキシカルボニル基、三置換シリル基
又は置換基を有していてもよいアルコキシメチル基を表
し、Wは水素原子又は水酸基を表す。] ステロイド誘導体(I)を還元剤の存在下に脱スルホン
させることにより一般式(V)で示されるプロビタミン
D2誘導体を得、該プロビタミンD2誘導体をその水酸
基の保護基に応じて脱保護反応に付することにより一般
式(Vl)で示されるプロビタミンD2誘導体を得るこ
とができる。
法に準じて光反応させ、次いでその生成物を熱異性化す
ることにより、一般式(■)で示されるビタミンD2¥
S導体、すなわち、1α−ヒドロキシビタミンD2.1
α、25−ジヒドロキシビタミンD2.24−ヱビー1
α、25−ジヒドロキシビタミンD2等を得ることがで
きる。
明はこれらの実施例により限定されるものではない。
0 m lに加え、ドライアイス−アセトン浴中で冷却
しながら攪拌した。得られた溶液に塩化メチレン70
m lにオギザリルクロリド14.7mlを溶かして得
られた溶液を滴下し、10分間攪拌した。1α、3β−
ビス(メトキシカルボニルオキシ)−20−メチルプレ
グナ−5,7−ジエン−21−オール11.3gを塩化
メチレン200 m lに溶かして上記で調製した溶液
に滴下し、30分間攪拌したのち、得られた混合液にト
リエチルアミン98 m lを加えて5分間攪拌した0
反応混合液を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液
を水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
たのち、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにより精製し、下記の物性を有する1
α、3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)プレグナ
−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒドを10.1
β得た。
、TMS、 δ: 0.62(s、3H)、 0.97(s、3H)。
〜5.42(m、 IH)。
B)(3S)−2,3−ジメチル−4−(フェニルスル
ホニル)−2−(テトラヒドロフラン−2−イルオキシ
)ブタン720mgをテトラヒドロフラン10m1に溶
解し、窒素雰囲気下、ドライアイス−アセトン洛中で冷
却しながら攪拌した。得られた溶液にn−ブチルリチウ
ムのヘキサン溶液(1、53m o l / 1 )を
1.5m’l加え、そのまま20分間攪拌した0次いで
、lα、3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)プレ
グナ−5゜7−ジエン−20−カルブアルデヒド1.O
gをテトラヒドロフラン6 m lに溶かして得られた
溶液を加え、冷却したまま1.5時間攪拌した0反応混
合液に氷冷した塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エ
チルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥したのち、濃縮した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより精製し、下記の物性を有
する(24S)1α、3β−ビス(メトキシカルボニル
オキシ)24−メチル−23−(フェニルスルホニル)
−25−(テトラヒドロフラン−2−イルオキシ)コレ
スタ−5,7−ジエン−22−オールを880 m g
得た。
、 TMS、 δ :0.57〜0.63(6H)
、 0.99(s、3B)。
(18)。
()。
(m、IH)。
.72(+Il、IH)。
(m、2H)実施例2 (2R)−2,3−ジメチル−1−p−トルエンスルホ
ニルブタン550 m gをテトラヒドロフラン10m
1に溶解し、窒素雰囲気下、ドライアイス−アセトン浴
中で冷却しながら攪拌した。得られた溶液にn−ブチル
リチウムのヘキサン溶液(1、53m o l / l
)を1.5ml加え、そのまま30分間攪拌した。次
いで、1α、3β−ビス(メトキシカルボニルオキシ)
プレグナ−5゜7−ノニン−20−カルブアルデヒド1
.0gをテトラヒドロフラン5 m lに溶かして得ら
れた溶液を加え、冷却したまま1.5時間攪拌した。反
応混合液に氷冷した塩化アンモニウム水溶液を加え、酢
酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥したのち、濃縮した。残渣をシリカゲ
ルカラムグロマトグラフイーにより精製し、下記の物性
を有する(24R)−1α、3β−ビス(メトキシカル
ボニルオキシ)24−メチル−23−トルエンスルホニ
ルコレスタ−5,7−ジエン−22−オールを785m
g得た。
TMS、 δ: 0.61〜0.67(6[()、 0.98(s、3
H)。
H)。
1)。
90(2H)。
68(m、 18)。
.93(m、 2H)実施例3 ジメチルスルホキシド20.3rnlを塩化メチレン5
00 m lに加え、ドライアイス−アセトン浴中で冷
却しながら攪拌した。得られた溶液に塩化メチレン70
m lにオギザリルクロリド12.1m4を溶かして
得られた溶液を滴下し、10分間攪拌した。1α、3β
−ビス、(テトラヒドロビラン−2−イルオキシ)−2
0−メチルプレグナ−5,7−ジエン−21−オール1
0.5gを塩化メチレン200 m lに溶かして上記
で調製した溶液に滴下し、30分間攪拌したのち、得ら
れた混合液にトリエチルアミン79.6mlを加えて5
分間攪拌した0反応混合液を氷冷した重曹水にあけ、酢
酸エチルで抽出した。抽出液を水、食塩水で順次洗浄し
、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮した
。残渣をシリカゲルカラムグロマトグラフィーにより精
製し、下記の物性を有するlα、3β−ビス(テトラヒ
ドロビラン−2イルオキシ)プレグナ−5,7−ノニン
−20−カルブアルデヒドを10.7g得た。
、TMS、 δ: 0.61(s、341)、 0.97(s、3H)。
(2H)。
ル)−2−(テトラヒドロフラン−2−イルオキシ)ブ
タン970 m gをテトラヒドロフラン15 m l
に溶解し、窒素雰囲気下、ドライアイス−アセトン浴中
で冷却しながら攪拌した。得られた溶液にn−ブチルリ
チウムのヘキサン溶液(1、53m o l / 1
)を2.0ml加え、そのまま20分間攪拌した0次い
で、1α、3β−ビス(テトラヒドロビラン−2−イル
オキシ)プレグナ−5,7−ノニン−20−カルブアル
デヒド1.5gをテトラヒドロフラン8 m lに溶か
して得られた溶液を加え、冷却したまま2時間攪拌した
0反応混合液に氷冷した塩化アンモニウム水溶液を加え
、酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥したのち、濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、下記の
物性を有する(24R)−1α、3β−ビス(テトラヒ
ドロビラン−2−イルオキシ)−24−メチル−23−
フェニルスルホニル−25−(テトラヒドロフラン−2
−イルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン−22−オー
ルを926 m g得た。
TMS、 δ: 0.60〜0.64(6H)、 1.00(s、3B
)。
(IH)。
(3H)。
68(m、IH)。
0(m、2H)実施例4 ジメチルスルホキシド2.5mlを塩化メチレン50
m lに加え、ドライアイス−アセトン洛中で冷却しな
がら攪拌した。得られた溶液に塩化メチレン5 m l
にオギザリルグロリド1.5mlを溶かして得られた溶
液を滴下し、10分間攪拌した。1α、3β−ビス(ト
リメチルシリルオキシ)20−メチルプレグナ−5,7
−ジエン−21−オール1.2gを塩化メチレン20
m lに溶かして上記で調製した溶液に滴下し、30分
間攪拌したのち、得られた混合液にトリエチルアミン1
0m1を加えて5分間攪拌した0反応混合液を水にあけ
、酢酸エチルで抽出した。抽出液を重曹水、水、食塩水
で順次洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥したのち、減圧
下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより精製し、下記の物性を有する1α、3β−ジ
ヒドロキシプレグナ−5,7−ジエン−20−カルブア
ルデヒドを685 m g得た。
TMS、 δ: 0.60(s、3H)、 0.92(s、38)。
47(a、18)。
)(3S)−2−アセトキシ−2,3−ジメチル=4−
(フェニルスルホニル)ブタン660mgをテトラヒド
ロフラン10 m lに溶解し、窒素雰囲気下、ドライ
アイス−アセトン浴中で冷却しながら攪拌した。得られ
た溶液にn−ブチルリチウムのヘキサン溶液(1、53
m o l / 1 )を2.7ml加え、そのまま2
0分間攪拌した。次いで、lα、3β−ジヒドロキシプ
レグナ−5,7−ジエン−20−カルブアルデヒド68
5 m gをテトラヒドロフラン5 m l &:溶か
して得られた溶液を加え、冷却したまま2時間攪拌した
0反応混合液に氷冷した塩化アンモニウム水溶液を加え
、酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥したのち、濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、下記の
物性を有する(24S)−25−アセトキシ−24−メ
チル−23−(フェニルスルホニル)コレスタ−5,7
−ジニンー1α、3β。
TMS、 δ : 0.58〜0.63(6f()、 1.03(s、
3f()。
H)。
1(3H)。
.70(m、11()。
89(m、 2f()実施例5 ジメチル2ルホキシド2.3mlを塩化メチレン50
m lに加え、ドライアイス−アセトン浴中で冷却しな
がら攪拌した。得られた溶液に塩化メチレン5 m l
にオギザリルクロリド1.4mlを溶かして得られた溶
液を滴下し、10分間攪拌した。1α、3β−ジアセト
キシ−20−メチルプレグナ−5,7−ジエン−21−
オール1.0gを塩化メチレン20 m lに溶かして
上記で調製した溶液に滴下し、30分間攪拌したのち、
得られた混合液にトリエチルアミン9.3mlを加えて
5分間攪拌した0反応混合液を水にあけ、酢酸エチルで
抽出した。抽出液を水、食塩水で順次洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥したのち、減圧下に濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、下記
の物性を有する1α。
カルブアルデヒドを831mg得た。
’s、 T M S 、 δ:0.60(s、3H)
、 0.98(s、3H)。
39(m、1f()。
B)2−メチル−4−(フェニルスルホニル)−2(テ
トラヒドロビラン−2−イルオキシ)ブタン640 m
gをテトラヒドロフラン10 m lに溶解し、窒素
雰囲気下、ドライアイス−アセトン浴中で冷却しながら
攪拌した。得られた溶液にn−ブチルリチウムのヘキサ
ン溶液(1,53mol/1)を1.4ml加え、その
まま20分間攪拌した1次いで、1α、3β−ジアセト
キシプレグナ5.7−ジエン−20−カルブアルデヒド
831mgをテトラヒドロフラン5 m lに溶かして
得られた溶液を加え、冷却したまま1.5時間攪拌した
。反応混合液に氷冷した塩化アンモニウム水溶液を加え
、酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥したのち、濃縮した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、下記の
物性を有する1α、3β−ジアセトキシ−23−(フェ
ニルスルホニル)−25−(テトラヒドロビラン−2イ
ルオキシ)コレスタ−5,7−ジエン−22=オールを
703mg得た。
a、 TM S 、 δ:0.62(s、3H)、
1.00(s、3F()。
1)。
)。
(m、 28)。
70(m、IH)。
9(m、2)1)参考例1 (24S)−1α、3β−ビス(メトキシカルボニルオ
キシ)−24−メチル−23−(フェニルスルホニル)
−25−(テトラヒドロフラン−2−イルオキシ)コレ
スタ−5,7〜ジエン−22−オール300 m gを
テトラヒドロフラン40m1に溶解し、得られた溶液に
リン酸水素二ナトリウムの飽和メタノール溶液40 m
l及びリン酸水素二ナトリウム6gを加え、室温で3
0分間攪拌した6反応混合液を氷冷し、5%ナトリウム
アマルガム5gを加えて、冷却したまま24時間攪拌し
た0反応混合液にヘキサンを加えてデカンテーションを
行い(5回)、溶液を集めて食塩水で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥したのち、濃縮した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにより精製し、(24R,2
2E)−1αメトキシカルボニルオキシ−25−(テト
ラヒドロフラン−2−イルオキシ)エルゴスタ−5゜7
.22−トリエン−3β−オールを70.2mg得た。
シ−25−(テトラヒドロフラン−2−イルオキシ)エ
ルゴスタ−5,7,22−トリエン−3β−オール17
3.5mgをメタノール10m1に溶解し、得られた溶
液にピリジニウム−p−トルエンスルホネート6 m
gを加え、室温で30分間攪拌した0反応混合液を1i
lF水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗し
、次いで食塩水で洗浄したのち、硫酸ナトリウム上で乾
燥後、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーを用いて精製し、(24R,22E)1α−メト
キシカルボニルオキシエルゴスタ5.7.22−トリエ
ン−3β、25−ジオールを144.2mg得た。
エルゴスタ−5,7,22−トリエン3β、25−ジオ
ール275゜2 m gをテトラヒドロフラン2 m
l及びメタノール10 m lに溶解し、得られた溶液
に炭酸カリウム10 m gを加え、50℃で24時間
攪拌した0反応混合物を希塩酸で中和し、エーテル及び
テトラヒドロフランで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄
したのち、硫酸ナトリウム上で乾燥後、濃縮した。残渣
をシリカゲルカラムグロマトグラフイーを用いて精製し
、(24R,22E)−エルゴスタ−5,7,22トリ
エン−1α、3β、25−トリオールを222.3mg
得た。
エン−1α、3β、25−トリオール100mgをエタ
ノール500 m lに溶解し、氷水冷し、得られた溶
液に窒素気流下、パイレックスフィルターを用い、高圧
水銀灯で10分間光照射した。
した。残渣をシリカゲル力ラムグロマトグラフィー及び
高速液体グロマトグラフイーを用いて精製し、24−エ
ビ−1α、25−ジヒドロキシビタミンD2を19.5
mg得た。
ンの保護及びその脱保護の工程を経由することなく、カ
ルシウム代謝の欠陥症の治療薬として有効なことが知ら
れている1α−ヒドロキシビタミンD2.1α、25−
ジヒドロキシビタミンD2.24−エビ−1α、25−
ジヒドロキシビタミンD2などを製造することができる
方法を与えるステロイド誘導体(I)が提供される。
容易に製造することができる方法が提供される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、R^1及びR^2はそれぞれ水素原子、アシル
基、低級アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は
置換基を有していてもよいアルコキシメチル基を表し、
R^3は水素原子又はメチル基を表し、Xは水素原子又
は−OY基を表し、ここで、Yは水素原子、アシル基、
三置換シリル基又は置換基を有していてもよいアルコキ
シメチル基を表し、Zはアリールスルホニル基を表す。 ] で示されるステロイド誘導体。 2、一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、R^1及びR^2は請求項1記載の定義のとお
りである。] で示されるステロイド誘導体と一般式(IV)▲数式、化
学式、表等があります▼(IV) [式中、R^3、X及びZは請求項1記載の定義のとお
りである。] で示されるスルホンを塩基性物質の存在下に反応させる
ことを特徴とする請求項1記載の一般式( I )で示さ
れるステロイド誘導体の製造方法。 3、一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、R^1^1及びR^2^1はそれぞれアシル基
、低級アルコキシカルボニル基、三置換シリル基又は置
換基を有していてもよいアルコキシメチル基を表す。] で示されるステロイド誘導体をジメチルスルホキシド中
で、アミンの存在下にオキザリルクロリドを用いて酸化
することにより一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、R^1及びR^2は請求項1記載の定義のとお
りである。] で示されるステロイド誘導体を得、該一般式(II)で示
されるステロイド誘導体と一般式▲数式、化学式、表等
があります▼(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) [式中、R^3、X及びZは請求項1記載の定義のとお
りである。] で示されるスルホンを塩基性物質の存在下に反応させる
ことを特徴とする請求項1記載の一般式( I )で示さ
れるステロイド誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11546490A JP2826168B2 (ja) | 1990-04-30 | 1990-04-30 | ステロイド誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11546490A JP2826168B2 (ja) | 1990-04-30 | 1990-04-30 | ステロイド誘導体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0413692A true JPH0413692A (ja) | 1992-01-17 |
| JP2826168B2 JP2826168B2 (ja) | 1998-11-18 |
Family
ID=14663191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11546490A Expired - Fee Related JP2826168B2 (ja) | 1990-04-30 | 1990-04-30 | ステロイド誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2826168B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001079284A (ja) * | 1999-07-09 | 2001-03-27 | Janome Sewing Mach Co Ltd | 刺繍縫い可能なミシン |
-
1990
- 1990-04-30 JP JP11546490A patent/JP2826168B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001079284A (ja) * | 1999-07-09 | 2001-03-27 | Janome Sewing Mach Co Ltd | 刺繍縫い可能なミシン |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2826168B2 (ja) | 1998-11-18 |
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