JPH0413859A - 装飾用反応性スパッタ装置 - Google Patents
装飾用反応性スパッタ装置Info
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- JPH0413859A JPH0413859A JP2116579A JP11657990A JPH0413859A JP H0413859 A JPH0413859 A JP H0413859A JP 2116579 A JP2116579 A JP 2116579A JP 11657990 A JP11657990 A JP 11657990A JP H0413859 A JPH0413859 A JP H0413859A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、金属やセラミックなどの素材の表面に金属性
被膜を形成して、素材を装飾する装飾用反応性スパッタ
装置に関する。
被膜を形成して、素材を装飾する装飾用反応性スパッタ
装置に関する。
第4図は従来の装飾用反応性スパッタ装置の構成を概略
的に示し、この図において、1,2.3は前処理室、成
膜室、後処理室で、シリンダ4によって開閉されるゲー
トバルブ5によって区画され、各室1,2.3にはロー
クリポンプ6、メカニカルブースターポンプ7、ターボ
分子ポンプ8などを有する真空排気ライン9がそれぞれ
接続しである。また、各室1,2.3内、前処理室1の
入口側および後処理室3の出口側には、コーティング対
象である金属やセラミックなどの素材(以下、被加工材
と云う)を収容したトレイ(図外)を搬送するためのコ
ンベヤ10が設けである。
的に示し、この図において、1,2.3は前処理室、成
膜室、後処理室で、シリンダ4によって開閉されるゲー
トバルブ5によって区画され、各室1,2.3にはロー
クリポンプ6、メカニカルブースターポンプ7、ターボ
分子ポンプ8などを有する真空排気ライン9がそれぞれ
接続しである。また、各室1,2.3内、前処理室1の
入口側および後処理室3の出口側には、コーティング対
象である金属やセラミックなどの素材(以下、被加工材
と云う)を収容したトレイ(図外)を搬送するためのコ
ンベヤ10が設けである。
そして、前処理室1内には被加工材を予備加熱するため
のヒータ(図外)やエツチングを施すための装置(図外
)が設けである。11は高周波電源である。また、成膜
室2内には例えばチタン(Ti)よりなる金属ターゲッ
ト12および成膜室2内を加熱保温するためのヒータ(
図外)が設けであると共に、成膜室2内にアルゴン(A
r)ガスを導入する管13と、ガス混合器14を介して
窒素(N2)ガス供給管工5およびメタン(CH4)ガ
ス供給管16とに接続された反応ガス導入管17とが接
続しである。
のヒータ(図外)やエツチングを施すための装置(図外
)が設けである。11は高周波電源である。また、成膜
室2内には例えばチタン(Ti)よりなる金属ターゲッ
ト12および成膜室2内を加熱保温するためのヒータ(
図外)が設けであると共に、成膜室2内にアルゴン(A
r)ガスを導入する管13と、ガス混合器14を介して
窒素(N2)ガス供給管工5およびメタン(CH4)ガ
ス供給管16とに接続された反応ガス導入管17とが接
続しである。
なお、18はマスフローコントローラである。
而して、上記構成の装飾用反応性スパッタ装置において
は、適宜の前処理を施した被加工材を成膜室2内に収容
し、成膜室2内を例えば2X10−’〜l0XIO−3
Torr程度の真空度に維持し、その状態で、Arガス
および反応性ガス(N2ガスとCH。
は、適宜の前処理を施した被加工材を成膜室2内に収容
し、成膜室2内を例えば2X10−’〜l0XIO−3
Torr程度の真空度に維持し、その状態で、Arガス
および反応性ガス(N2ガスとCH。
ガスとの混合ガス)を導入して、Arガスのプラズマに
よって金属ターゲット12をスパッタし、そのとき金属
ターゲラ目2から叩き出されるTiイオンと反応性ガス
に含まれる窒素(N)イオン、炭素(C)イオンとの化
合物であるTi化合物(TiN、TiC,T1CNなど
)を被加工材の表面に付着させ、その後、後処理室3に
おいて金属性被膜形成処理後の被加工材を冷却させて、
被加工材の表面に金属性被膜を形成するのである。
よって金属ターゲット12をスパッタし、そのとき金属
ターゲラ目2から叩き出されるTiイオンと反応性ガス
に含まれる窒素(N)イオン、炭素(C)イオンとの化
合物であるTi化合物(TiN、TiC,T1CNなど
)を被加工材の表面に付着させ、その後、後処理室3に
おいて金属性被膜形成処理後の被加工材を冷却させて、
被加工材の表面に金属性被膜を形成するのである。
そして、この装置によれば、前記T1化合物の組成が変
化するので、被加工材の表面に形成された金属性被膜が
ゴールド ブラウン、グレーなどの色を呈し、被加工材
の表面を所望の色でコーティングすることができる。
化するので、被加工材の表面に形成された金属性被膜が
ゴールド ブラウン、グレーなどの色を呈し、被加工材
の表面を所望の色でコーティングすることができる。
しかしながら、前記Arガスのプラズマによって金属タ
ーゲット12をスパッタすることにより、金属ターゲラ
目2の表面が徐々に窒化したり、炭化し、反応性ガスの
流量を同じにしても被加工材の表面を同一の色相に装飾
することができないというように、コーティング色の再
現性が悪いといった欠点がある。
ーゲット12をスパッタすることにより、金属ターゲラ
目2の表面が徐々に窒化したり、炭化し、反応性ガスの
流量を同じにしても被加工材の表面を同一の色相に装飾
することができないというように、コーティング色の再
現性が悪いといった欠点がある。
これに対して、成膜室2内にプラズマモニターを設け、
このモニター結果に基づいて、Tiのプラズマ発生ピー
クをArガスのみのとき(ベースライン)のある一定の
割合になるようにN2ガスの導入量を制御することが考
えられるが、ベースラインがドリフトするなど不安定に
なるため、上記再現性を向上させることが困難であると
共に、反応性ガスがN2ガスとCH4ガスとの混合ガス
であるときは、この方法は採用することができないとい
った欠点がある。
このモニター結果に基づいて、Tiのプラズマ発生ピー
クをArガスのみのとき(ベースライン)のある一定の
割合になるようにN2ガスの導入量を制御することが考
えられるが、ベースラインがドリフトするなど不安定に
なるため、上記再現性を向上させることが困難であると
共に、反応性ガスがN2ガスとCH4ガスとの混合ガス
であるときは、この方法は採用することができないとい
った欠点がある。
本発明は、上述の事柄に留意してなされたもので、その
目的とするところは、被加工材の表面に所望の色を再現
性よくコーティングすることができる装飾用反応性スパ
ッタ装置を提供することにある。
目的とするところは、被加工材の表面に所望の色を再現
性よくコーティングすることができる装飾用反応性スパ
ッタ装置を提供することにある。
上述の目的を達成するため、本発明に係る装飾用反応性
スパッタ装置は、成膜室内に被加工材と同一素材または
これと同等の性質を有するモニター材を配置すると共に
、このモニター材に光を照射してそのときの反射光に基
づいて前記モニター材に形成される金属性被膜の色相や
明度を測定する色差計を設け、この色差計の出力に基づ
いて前記成膜室内の真空度、アルゴンガスまたは反応性
ガスの流量、スパッタ用電源の出力、被加工材に対する
印加電圧などのプロセス条件の少なくとも一つを調整す
るようにした点に特徴がある。
スパッタ装置は、成膜室内に被加工材と同一素材または
これと同等の性質を有するモニター材を配置すると共に
、このモニター材に光を照射してそのときの反射光に基
づいて前記モニター材に形成される金属性被膜の色相や
明度を測定する色差計を設け、この色差計の出力に基づ
いて前記成膜室内の真空度、アルゴンガスまたは反応性
ガスの流量、スパッタ用電源の出力、被加工材に対する
印加電圧などのプロセス条件の少なくとも一つを調整す
るようにした点に特徴がある。
上記構成の装飾用反応性スパッタ装置においては、被加
工材の表面に金属性化合物が付着すると同時に、被加工
材と同一素材またはこれと同等の性質を有するモニター
材の表面にも金属性化合物が付着する。そして、このモ
ニター材の表面に形成される金属性被膜の色相や明度を
測定し、その測定結果に基づいて、成膜室内の真空度、
アルゴンガスまたは反応性ガスの流量、スパッタ用電源
の出力、被加工材に対する印加電圧などのプロセス条件
の少なくとも一つを調整することができるので、被加工
材の表面に所望の色を再現性よくコーティングすること
ができる。
工材の表面に金属性化合物が付着すると同時に、被加工
材と同一素材またはこれと同等の性質を有するモニター
材の表面にも金属性化合物が付着する。そして、このモ
ニター材の表面に形成される金属性被膜の色相や明度を
測定し、その測定結果に基づいて、成膜室内の真空度、
アルゴンガスまたは反応性ガスの流量、スパッタ用電源
の出力、被加工材に対する印加電圧などのプロセス条件
の少なくとも一つを調整することができるので、被加工
材の表面に所望の色を再現性よくコーティングすること
ができる。
以下、本発明の一実施例を図面を参照しながら説明する
。なお、以下において、第4図における符号と同一符号
は同一物であるので、その説明は省略する。
。なお、以下において、第4図における符号と同一符号
は同一物であるので、その説明は省略する。
第1図は本発明に係る装飾用反応性スパッタ装置の成膜
室2の構成を概略的に示し、この図において、19は図
外のトレイに収容され、所定の状態に保持された被加工
材で、例えば金属板である。
室2の構成を概略的に示し、この図において、19は図
外のトレイに収容され、所定の状態に保持された被加工
材で、例えば金属板である。
20は成膜室2内に設けられるモニター材で、被加工材
19と同一素材またはこれと同等の性質を有する素材か
らなるもので、例えばドーナツ状の円板に形成しである
。そして、このモニター材20は、被加工材19の姿勢
に合わせるようにして設けられており、例えば垂直面に
おいて回転する円板21の表面に適宜の手段で着脱自在
に保持されており、その上半分20aがTiターゲット
12の一部に臨むようにしてあって、被加工材19の表
面に金属性化合物が付着して金属性被膜が形成されると
き、前記上半分20aの表面において金属性化合物が同
様に付着して金属性被膜が形成されるようにしである。
19と同一素材またはこれと同等の性質を有する素材か
らなるもので、例えばドーナツ状の円板に形成しである
。そして、このモニター材20は、被加工材19の姿勢
に合わせるようにして設けられており、例えば垂直面に
おいて回転する円板21の表面に適宜の手段で着脱自在
に保持されており、その上半分20aがTiターゲット
12の一部に臨むようにしてあって、被加工材19の表
面に金属性化合物が付着して金属性被膜が形成されると
き、前記上半分20aの表面において金属性化合物が同
様に付着して金属性被膜が形成されるようにしである。
22は成膜室2内で所定のスパッタが行われるとき、円
板21を所定の回転数で回転するモータで、成膜室2の
外部に設けられており、回転軸23が適宜のシールを施
して成膜室2内に挿設されており、前記円板21は回転
軸23に対して着脱できるようにしである。
板21を所定の回転数で回転するモータで、成膜室2の
外部に設けられており、回転軸23が適宜のシールを施
して成膜室2内に挿設されており、前記円板21は回転
軸23に対して着脱できるようにしである。
24は前記モニター材20の表面に形成される金属性被
膜の色相や明度を観察する色差計で、色を明度(L)、
赤み(a)、黄み(b)の三要素で測定するものである
。この色差計24の構成を説明する前に、色相表示につ
いて簡単に説明すると、基本的な色としては、赤、黄、
青、緑があり、これらの色は、第2図に示すように、赤
と緑を原点○を中心に横軸において対称配置され、赤み
aは−60〜+60で、また、黄と青は原点0を中心に
縦軸において対称配置され、黄みbは−60〜+60と
なる。このとき、明度りは原点O位置において紙面に垂
直な方向に表され、θ〜100となる。従って、aの値
が大きければ赤みが強く、小さければ緑色であり、また
、bの値が大きければ黄みが強く、小さければ青みが強
くなる。そして、Lが大きいと明るく(白っぼい)、小
さければ暗い(黒っぽい)のである。
膜の色相や明度を観察する色差計で、色を明度(L)、
赤み(a)、黄み(b)の三要素で測定するものである
。この色差計24の構成を説明する前に、色相表示につ
いて簡単に説明すると、基本的な色としては、赤、黄、
青、緑があり、これらの色は、第2図に示すように、赤
と緑を原点○を中心に横軸において対称配置され、赤み
aは−60〜+60で、また、黄と青は原点0を中心に
縦軸において対称配置され、黄みbは−60〜+60と
なる。このとき、明度りは原点O位置において紙面に垂
直な方向に表され、θ〜100となる。従って、aの値
が大きければ赤みが強く、小さければ緑色であり、また
、bの値が大きければ黄みが強く、小さければ青みが強
くなる。そして、Lが大きいと明るく(白っぼい)、小
さければ暗い(黒っぽい)のである。
而して、色差計24はモニター材20の表面に形成され
る金属性被膜のり、a、bを測定するもので、次のよう
に構成されている。すなわち、25はタングステンラン
プまたはキセノンランプよりなる光源、26はこの光源
25から発せられる光を成膜室2内に導きモニター材2
0の下半分20bの表面(より詳しくは、金属性被膜表
面)を照射するように、その先端が成膜室2内に挿設さ
れた光ファイバーよりなる照射光導入路である。27R
,27G、 27Bは前記下半分20bの表面において
反射される光を導出するようにその先端が成膜室2内に
挿設された光ファイバーよりなる反射光導出路で、赤、
緑。
る金属性被膜のり、a、bを測定するもので、次のよう
に構成されている。すなわち、25はタングステンラン
プまたはキセノンランプよりなる光源、26はこの光源
25から発せられる光を成膜室2内に導きモニター材2
0の下半分20bの表面(より詳しくは、金属性被膜表
面)を照射するように、その先端が成膜室2内に挿設さ
れた光ファイバーよりなる照射光導入路である。27R
,27G、 27Bは前記下半分20bの表面において
反射される光を導出するようにその先端が成膜室2内に
挿設された光ファイバーよりなる反射光導出路で、赤、
緑。
青に対応したフィルタ28R,28G、 28Bをそれ
ぞれ備えている。
ぞれ備えている。
29は受光部で、反射光導出路27R,27G、 27
Bからの光をそれぞれ受ける受光素子30R,30G、
30Bと、赤、緑、青にそれぞれ対応したフィルタ3
1R131G、 31Bを備えた光ファイバーよりなる
比較光伝送路32R,32G、 32Bを介して前記光
源25の光を比較光として受ける受光素子33R,33
G、 33Bとを備えている。34は受光部29から
の信号に基づいて演算を行う演算部で、受光素子30R
,30G、 30Bからの反射光および受光素子33
R,33G、 33Bからの比較光からそれぞれの光強
度を検出し、光源強度の変化をキャンセルしながら、各
色における光強度からり、a、bの値を算出し、この結
果に基づいて所定の出力信号を出力する。なお、35は
前記照射光導入路26および反射光導出路27R,27
G、 27Bの成膜室2内の先端部分への金属性化合物
の付着を防止する保護筒部である。
Bからの光をそれぞれ受ける受光素子30R,30G、
30Bと、赤、緑、青にそれぞれ対応したフィルタ3
1R131G、 31Bを備えた光ファイバーよりなる
比較光伝送路32R,32G、 32Bを介して前記光
源25の光を比較光として受ける受光素子33R,33
G、 33Bとを備えている。34は受光部29から
の信号に基づいて演算を行う演算部で、受光素子30R
,30G、 30Bからの反射光および受光素子33
R,33G、 33Bからの比較光からそれぞれの光強
度を検出し、光源強度の変化をキャンセルしながら、各
色における光強度からり、a、bの値を算出し、この結
果に基づいて所定の出力信号を出力する。なお、35は
前記照射光導入路26および反射光導出路27R,27
G、 27Bの成膜室2内の先端部分への金属性化合物
の付着を防止する保護筒部である。
36は制御部で、前記色差計24の演算部34からの出
力に基づいて、N2ガス供給管15.CH4ガス供給管
16にそれぞれ設けられたマスフローコントローラ18
の開閉を制御する指令を出力する。
力に基づいて、N2ガス供給管15.CH4ガス供給管
16にそれぞれ設けられたマスフローコントローラ18
の開閉を制御する指令を出力する。
ところで、被加工材19に形成される金属性被膜の色相
を決定する要因(プロセス条件)としては、成膜室2内
の真空度、成膜室2内に導入されるアルゴンガスの流量
、成膜室2内に導入される反応性ガスの流量、スパッタ
用電源の出力、被加工材19に対する印加電圧などがあ
るが、これらのプロセス条件のうちで、成膜室2内に導
入される反応性ガスの流量が色相に与える影響が最も大
きく、例えばN2ガスの流量およびその他のプロセス条
件を一定にしておいて、CH,ガスの流量を増加させる
と、第3図に示すように、明度(L)および赤み(a)
は余り変化しないのに、黄み(b)が急激に減少する。
を決定する要因(プロセス条件)としては、成膜室2内
の真空度、成膜室2内に導入されるアルゴンガスの流量
、成膜室2内に導入される反応性ガスの流量、スパッタ
用電源の出力、被加工材19に対する印加電圧などがあ
るが、これらのプロセス条件のうちで、成膜室2内に導
入される反応性ガスの流量が色相に与える影響が最も大
きく、例えばN2ガスの流量およびその他のプロセス条
件を一定にしておいて、CH,ガスの流量を増加させる
と、第3図に示すように、明度(L)および赤み(a)
は余り変化しないのに、黄み(b)が急激に減少する。
このような反応性ガスの流量とり、a、bとの相関関係
を表すデータを予めとっておき、目的とする色(L、a
、b)からずれた場合、N2ガスとCH,ガスとの何れ
を増加させるのかを制御部36にインプットしておく。
を表すデータを予めとっておき、目的とする色(L、a
、b)からずれた場合、N2ガスとCH,ガスとの何れ
を増加させるのかを制御部36にインプットしておく。
この場合、各プロセス条件は、初期設定状態で20秒〜
10分間スパッタを行い、このときに形成される金属性
被膜の色と目的の色との差から条件を変えるようにする
。
10分間スパッタを行い、このときに形成される金属性
被膜の色と目的の色との差から条件を変えるようにする
。
而して、上記構成の装飾用反応性スパッタ装置によれば
、被加工材19の表面に金属性化合物が付着すると同時
に、モニター材20の表面にも金属性化合物が付着する
。そして、このモニター材20の表面に形成された金属
性被膜の色相や明度を測定し、その測定結果に基づいて
、成膜室2へ導入される反応性ガスの流量を加減するこ
とにより、被加工材19の表面に形成される金属性被膜
の色を所望の色にすることができ、再現性よくコーティ
ングすることができる。
、被加工材19の表面に金属性化合物が付着すると同時
に、モニター材20の表面にも金属性化合物が付着する
。そして、このモニター材20の表面に形成された金属
性被膜の色相や明度を測定し、その測定結果に基づいて
、成膜室2へ導入される反応性ガスの流量を加減するこ
とにより、被加工材19の表面に形成される金属性被膜
の色を所望の色にすることができ、再現性よくコーティ
ングすることができる。
本発明は上記実施例に限られるものではなく、被加工材
19はセラミックなど非金属物質であってもよい。そし
て、金属ターゲット12は上記Tiの他に、Hf、Cr
、Ti −A1などの金属を用いることができる。また
、反応性ガスはC系としてCH4ガスの他に、C,N2
ガス、CzHaガス、アルコール1アセトン1芳香族炭
化水素を用いてもよい。さらに、C系、N系だけでなく
、02ガスを反応性ガスとして導入して酸化膜を形成す
るようにしたり、N2ガスを導入してもよい。
19はセラミックなど非金属物質であってもよい。そし
て、金属ターゲット12は上記Tiの他に、Hf、Cr
、Ti −A1などの金属を用いることができる。また
、反応性ガスはC系としてCH4ガスの他に、C,N2
ガス、CzHaガス、アルコール1アセトン1芳香族炭
化水素を用いてもよい。さらに、C系、N系だけでなく
、02ガスを反応性ガスとして導入して酸化膜を形成す
るようにしたり、N2ガスを導入してもよい。
また、スパッタを行うときの成膜室2内の真空度により
金属性被膜の明度が変化し、例えば成膜室2内の圧力を
上げると明度が下がるなど、反応性ガスの流量以外の他
のプロセス条件を変えることにより、金属性被膜の色相
や明度が変わるので、色差計24の出力に基づいて前記
他のプロセス条件を設定するようにしてもよい。
金属性被膜の明度が変化し、例えば成膜室2内の圧力を
上げると明度が下がるなど、反応性ガスの流量以外の他
のプロセス条件を変えることにより、金属性被膜の色相
や明度が変わるので、色差計24の出力に基づいて前記
他のプロセス条件を設定するようにしてもよい。
本発明は以上のように構成されるので、被加工材の表面
に所望の色を再現性よくコーティングすることができる
。そして、従来においては、コーティングする色をブラ
ウンからグレーと云うように変更した場合や装置を長期
間使用しなかった場合、装置を30分〜半日もの間、慣
らし運転する必要があったが、本発明装置によればこの
ような慣らし運転が不要であり、生産性が向上する。
に所望の色を再現性よくコーティングすることができる
。そして、従来においては、コーティングする色をブラ
ウンからグレーと云うように変更した場合や装置を長期
間使用しなかった場合、装置を30分〜半日もの間、慣
らし運転する必要があったが、本発明装置によればこの
ような慣らし運転が不要であり、生産性が向上する。
第1図は本発明に係る装飾用反応性スパッタ装置の成膜
室の構成を概略的に示す図、第2図は色相を表示する図
、第3図はCH,ガスの流量を変化したときの金属性被
膜の色相変化を示す特性図である。 第4図は従来の装飾用反応性スパッタ装置を示す構成図
である。 2・・・成膜室、12・・・金属ターゲット、19・・
・被加工材、20・・・モニター材、24・・・色差計
。
室の構成を概略的に示す図、第2図は色相を表示する図
、第3図はCH,ガスの流量を変化したときの金属性被
膜の色相変化を示す特性図である。 第4図は従来の装飾用反応性スパッタ装置を示す構成図
である。 2・・・成膜室、12・・・金属ターゲット、19・・
・被加工材、20・・・モニター材、24・・・色差計
。
Claims (1)
- 内部を所定の真空度に保持した成膜室内に被加工材を
収容すると共に、アルゴンガスおよび反応性ガスを導入
して、アルゴンガスのプラズマによって金属ターゲット
をスパッタし、そのとき金属ターゲットから叩き出され
る金属イオンと前記反応性ガスに含まれる元素イオンと
からなる金属性化合物を被加工材の表面に付着させて金
属性被膜を形成し、前記表面を所望の色にコーティング
する装飾用反応性スパッタ装置において、前記成膜室内
に前記被加工材と同一素材またはこれと同等の性質を有
するモニター材を配置すると共に、このモニター材に光
を照射してそのときの反射光に基づいて前記モニター材
に形成される金属性被膜の色相や明度を測定する色差計
を設け、この色差計の出力に基づいて前記成膜室内の真
空度,アルゴンガスまたは反応性ガスの流量,スパッタ
用電源の出力,被加工材に対する印加電圧などのプロセ
ス条件の少なくとも一つを調整するようにしたことを特
徴とする装飾用反応性スパッタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2116579A JPH0413859A (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | 装飾用反応性スパッタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2116579A JPH0413859A (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | 装飾用反応性スパッタ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0413859A true JPH0413859A (ja) | 1992-01-17 |
Family
ID=14690617
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2116579A Pending JPH0413859A (ja) | 1990-05-01 | 1990-05-01 | 装飾用反応性スパッタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0413859A (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5897203A (ja) * | 1981-12-02 | 1983-06-09 | 株式会社日立製作所 | 透明導電膜の形成方法 |
| JPS62196370A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-08-29 | Nec Corp | スパツタリング方法 |
| JPS63202806A (ja) * | 1987-02-17 | 1988-08-22 | 松下電器産業株式会社 | 透明導電膜の製造方法 |
| JPH01230774A (ja) * | 1988-03-10 | 1989-09-14 | Matsushita Electric Works Ltd | 真空蒸着方法及び装置 |
| JPH01240655A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-26 | Fuji Electric Co Ltd | 薄膜形成装置 |
| JPH01283357A (ja) * | 1988-01-09 | 1989-11-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 酸化金属薄膜被覆透明導電性フィルム製造方法 |
-
1990
- 1990-05-01 JP JP2116579A patent/JPH0413859A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5897203A (ja) * | 1981-12-02 | 1983-06-09 | 株式会社日立製作所 | 透明導電膜の形成方法 |
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| JPH01240655A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-26 | Fuji Electric Co Ltd | 薄膜形成装置 |
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