JPS6362862A - Ti及びTi合金のTiN被覆品の製造方法 - Google Patents

Ti及びTi合金のTiN被覆品の製造方法

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JPS6362862A
JPS6362862A JP20642086A JP20642086A JPS6362862A JP S6362862 A JPS6362862 A JP S6362862A JP 20642086 A JP20642086 A JP 20642086A JP 20642086 A JP20642086 A JP 20642086A JP S6362862 A JPS6362862 A JP S6362862A
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JP
Japan
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layer
work
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coating layer
tin
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JP20642086A
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Yasuyuki Yamada
保之 山田
Muneaki Tezaki
手崎 宗昭
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Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はTi及びTi合合材材料セラミック被覆技術に
係°す、特に耐摩耗部品等の母材表面に硬質のセラミッ
ク被覆層を密着性よく形成する技術に関する。
(従来の技術) Ti又はTi合金のチタン材料は、軽量で強度/重量比
が優れ、耐食性が優れている等の性質を利用して構造用
材料、耐食材料等として使用されているが、硬度がHv
200〜300と比較的低く。
また摩擦係数が0.5〜0.6と大きいため、特に摺動
部の機械部品に使用した場合、焼付きが発生し、摩耗も
大きいという問題がある。
そこで、焼付きを防止するため、表面硬化処理が実施さ
れている。例えば、チタン表面を窒化する方法として侵
入型元素硬化法があり、この方法は母材を窒化ガス中に
800〜1000℃の高温で長時間保持することにより
チタン表面を窒化処理する方法である。しかし、この窒
化法はチタンの変態点(純Tiの場合、882℃)前後
の高温で処理するために結晶構造が変態したり或いは変
形が生ずる等の問題がある。
一方、チタン材料を高温に保持する必要がない表面硬化
法として、低温プロセスであるイオン窒化や溶融蒸着型
イオンブレーティング法(HCD法)によりセラミック
コーティングする方法があるが、加熱すると高真空中で
あってもチタン表面が酸化しやすいためにコーティング
皮膜の密着性が悪く、剥離しやすく健全なコーテイング
膜を形成することが困難であった。
本発明は、上記従来技術の欠点を解消するためになされ
たものであって、チタン材料の結晶構造の変態や変形を
生ずることなく硬質被覆層を密着性よく形成し得る技術
を提供することを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段) 上記目的を達成するため、本発明者は、チタン材料の高
温処理を必要としない低温プロセスのイオンブレーティ
ングにより硬質皮膜であるTiN被覆層を形成する方法
について種々研究した結果、アーク蒸発法において、母
材のチタン材料と同一の金属であるTiイオンによりス
パッタリングするTiボンバードを行うことにより、T
iN被覆層の密着性を顕著に向上させることができるこ
とを見い出し1本発明をなしたものである。
すなわち、本発明に係るTi及びTi合金のセラミック
被覆品はTi又はTi合金からなる母材の表面にTi付
着層を介してTiN被覆層が形成されていることを特徴
とするものであり、その製造方法は、Ti又はTi合金
からなる母材表面に表面硬化層を形成するに際し、まず
アーク蒸発法にてTiボンバードを行って酸化膜等の表
層を除去すると共にTi付着層を形成し、次いでTiN
コーティングによりTiN被覆層を形成することを特徴
とするものである。
以下に本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。
(実施例) 本発明法におけるアーク蒸発法(又はアーク蒸発型イオ
ンブレーティング法)は物理蒸着法(PVD)の1種で
、第1図に示すような装置によりワーク表面に硬質被覆
層を形成する方法である。
同図において、1は真空槽であり、この真空槽内にワー
ク2を回転台4上に配置し、入口9より反応ガスを導入
しつつ蒸発させる金属(陰極)3とワーク2の間にアー
ク直流電源7にてアーク放電を発生させることにより、
ワーク2の表面に被覆層が形成される。なお、図中、6
はバイアス直流電源、5はトリガー、8は赤外線表面温
度計、10は排気口、11はヒータである。
上記構成の装置により実施されるアーク蒸発法はTiボ
ンバード工程とTiNコーティング工程とからなり、そ
の手順の一例を示すと以下のとうりである。
(1)  まず、ワーク2としてTi又はTi合金から
なる加工物を取付け、真空槽1内を1×1O−4T o
rr以下に真空排気する。
(2)  また、ヒータ11をオンにしてワーク2を4
00℃に加熱し、10〜30分間保持して真空加熱する
。なお、この工程は省略してもよい。
(3)真空排気後又は真空加熱したときはヒータ11を
オフにして後、バイアス直流電源6によりワーク2に−
600〜−1000Vを印加し、Tiカソード3のトリ
ガー5を起動してアーク放電を開始するとTiイオンが
発生し、チタン又はチタン合金のワーク2の表面をTi
イオンにてスパッタクリーニングする。このときの真空
度は10″″S〜10 ”” T orrの高真空とし
、これによりワークの表面酸化膜等の表層を完全に除去
することができる。
表面温度計8にてワーク温度が450〜500℃に達し
たことを確認した後、アーク電源7をオフにする。この
とき、ワーク表層に非常に薄いTi付着層が形成される
。このTi付着層はワーク表面下500A程度の深さで
Tiミキシング部を有し、ミキシングされたTiがワー
ク表面及び表面下の酸素をトラップし、極めてクリーン
なボンバード層が形成される。
(4)  スパッタクリーニング後、バイアス電圧を−
50〜−300vに下げ、入口9がらN2ガスを0.0
1〜0.04Torrまで導入する。そしてTiカソー
ド3のアーク放電を発生させる。これによりワーク2の
表面にTiN被覆層が付着ヵよく形成される。
(5)  所定の時間後、全てをオフにし、ワーク2を
冷却する。
以上の工程により、Ti又はTi合金加工物の表面にT
i付着層(ミキシング層)を介してTiN被覆層が形成
されるのでTiN被覆層の付着性は非常に優れており、
また処理温度が従来の窒化法よりも低温であるのでTi
又はTi合金母材の結晶構造の変態や変形なども発生し
ない。
なお、比較のために、従来のHCD法によってTiN被
覆層を形成したチタン加工物について剥離試験を行い、
目視検査したところ、剥離率は70〜80%であったの
に対し、本実施例によるチタン加工物については剥離率
は0%であった。これは、従来のHCD法等の場合には
、本発明の場合のように母材とTiN被覆層の間に母材
と同一金属のTi付着層乃至ミキシング部が存在せず。
母材表層の酸化膜等を完全に除去できないためである。
(発明の効果) 以上詳述したように1本発明によれば、アーク蒸発法に
よりTi付着層を介してT i Nの硬質被覆層をTi
又はTi合金母材の表面に形成するので、T i N被
覆層の付着力が極めて優れており、しかも母材の結晶構
造の変態や変形等も発生しないので、耐摩耗部品として
のTi及びTi合金のコーテイング品の製造に好適であ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明法の実施に用いるアーク蒸発型イオンブ
レーティング装置の一例を示す説明断面図である。 1・・・真空槽、2・・・ワーク(Ti又はTi合金)
、3・・・蒸発させる金属(Tiカソード)、4・・・
回転台。 5・・・トリガー、6・・・バイアス直流電源、7・・
・アーク直流電源、8・・・赤外線表面温度計、9・・
・反応ガス入口、1o・・・排気口。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)Ti又はTi合金からなる母材の表面にTi付着
    層を介してTiN被覆層が形成されていることを特徴と
    するTi及びTi合金のセラミック被覆品。
  2. (2)Ti又はTi合金からなる母材表面に表面硬化層
    を形成するに際し、まずアーク蒸発法にてTiボンバー
    ドを行って酸化膜等の表層を除去すると共にTi付着層
    を形成し、次いでTiNコーティングによりTiN被覆
    層を形成することを特徴とするTi及びTi合金のセラ
    ミック被覆品の製造方法。
JP20642086A 1986-09-02 1986-09-02 Ti及びTi合金のTiN被覆品の製造方法 Granted JPS6362862A (ja)

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JPS6362862A true JPS6362862A (ja) 1988-03-19
JPH029104B2 JPH029104B2 (ja) 1990-02-28

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ID=16523080

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