JPH04139151A - βーケトカルボン酸誘導体 - Google Patents
βーケトカルボン酸誘導体Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(1)産業上の利用分野
本発明は、新規な液晶化合物、当該化合物を含有する液
晶組成物を提供するものである。本発明によって提供さ
れる液晶化合物は、単独でまたは他の液晶性化合物と配
合することにより強誘電性(キシルスメクチックC相)
を呈する化合物であり、電気光学的スイッチング素子と
して使用される強誘電性液晶表示素子の構成成分となり
得る新規液晶化合物に関するものである。
晶組成物を提供するものである。本発明によって提供さ
れる液晶化合物は、単独でまたは他の液晶性化合物と配
合することにより強誘電性(キシルスメクチックC相)
を呈する化合物であり、電気光学的スイッチング素子と
して使用される強誘電性液晶表示素子の構成成分となり
得る新規液晶化合物に関するものである。
(2)従来の技術
液晶表示素子の表示方式として、現在広く実用に供され
ているものにねじれネマチック(TN)型がある。これ
は、ネマチック液晶と呼ばれる液晶化合物を主成分とし
た液晶表示素子であるが、短所の一つに応答速度が遅く
、最高数ミリ秒のオーダーの応答速度しか得られないと
いうことがあげられる。そしてこのことが、ネマチック
液晶を用いる表示素子の大型化を制約する一因となって
いる。この様な従来型の液晶表示素子の欠点を改善する
ものとして、クラーク及びラガウエルにより提案された
双安定性を有する液晶を用いた液晶表示素子が注目され
ている(特開昭56−107216号参照)。この双安
定性を有する液晶は強誘電性液晶と呼ばれ、高速応答性
とメモリー性が得られることが注目され、特に近年にお
いて液晶テレビなどのデイスプレィ用のみならず、光プ
リンダーヘッド、ライトバルブ、光コンピユータ素子な
どオプトエレクトロニクス分野においても、その実用化
に向けた開発が急務になっている。
ているものにねじれネマチック(TN)型がある。これ
は、ネマチック液晶と呼ばれる液晶化合物を主成分とし
た液晶表示素子であるが、短所の一つに応答速度が遅く
、最高数ミリ秒のオーダーの応答速度しか得られないと
いうことがあげられる。そしてこのことが、ネマチック
液晶を用いる表示素子の大型化を制約する一因となって
いる。この様な従来型の液晶表示素子の欠点を改善する
ものとして、クラーク及びラガウエルにより提案された
双安定性を有する液晶を用いた液晶表示素子が注目され
ている(特開昭56−107216号参照)。この双安
定性を有する液晶は強誘電性液晶と呼ばれ、高速応答性
とメモリー性が得られることが注目され、特に近年にお
いて液晶テレビなどのデイスプレィ用のみならず、光プ
リンダーヘッド、ライトバルブ、光コンピユータ素子な
どオプトエレクトロニクス分野においても、その実用化
に向けた開発が急務になっている。
一般に、強誘電性液晶は光学活性部位を有する化合物で
、且つその分子長軸が層の法線方向からチルトした分子
配向を有する一連のスメクチック相において発現される
。中でもキラルスメクチツクC(以下Sc’と略記する
)相は、粘性が低く比較的低電圧動作性のため実用上優
位とされる。このような強誘電性液晶として、1975
年、マイヤー(R,B、Meyer)らにより合成され
た4−(4n−デシルオキシベンジリデンアミノ)桂皮
酸−2−メチルブチルエステル(以下DOBAMBCと
略記する。)が知られている(J、Physique
36L−69(1975)参照)。しかしこのDOB
AMBCは、シッフ塩基を構造として含むため、水や光
等に対する安定性に難がある。そこで強誘電性液晶材料
として物理的化学的に安定で、しかもSc’相を示す温
度範囲が広い材料系の実現が強く期待されている。
、且つその分子長軸が層の法線方向からチルトした分子
配向を有する一連のスメクチック相において発現される
。中でもキラルスメクチツクC(以下Sc’と略記する
)相は、粘性が低く比較的低電圧動作性のため実用上優
位とされる。このような強誘電性液晶として、1975
年、マイヤー(R,B、Meyer)らにより合成され
た4−(4n−デシルオキシベンジリデンアミノ)桂皮
酸−2−メチルブチルエステル(以下DOBAMBCと
略記する。)が知られている(J、Physique
36L−69(1975)参照)。しかしこのDOB
AMBCは、シッフ塩基を構造として含むため、水や光
等に対する安定性に難がある。そこで強誘電性液晶材料
として物理的化学的に安定で、しかもSc’相を示す温
度範囲が広い材料系の実現が強く期待されている。
更に自発分極の増大を狙い、環状分子(ベンゼン環、ピ
リミジン環、シクロヘキサン環など)を含むコア骨格と
キラル骨格の間の結合子(スペーサ部)の検討が盛んで
ある。特に最近、カルボニル基(C=○)が自発分極の
主たる寄与を与えるとの分子設計思想にもとづき、エス
テル化合物に代わり、カルボニル基を結合子とするケト
ン化合物が検討されている(特開平1−238557号
参照)。しかし、これら化合物は大きな自発分極を示す
ものの、液晶相やSc’相の温度範囲が狭く、現在まで
ケトン骨格をスペーサ部に導入することは、必ずしも強
誘電性液晶材料として有効とは言えなかった。
リミジン環、シクロヘキサン環など)を含むコア骨格と
キラル骨格の間の結合子(スペーサ部)の検討が盛んで
ある。特に最近、カルボニル基(C=○)が自発分極の
主たる寄与を与えるとの分子設計思想にもとづき、エス
テル化合物に代わり、カルボニル基を結合子とするケト
ン化合物が検討されている(特開平1−238557号
参照)。しかし、これら化合物は大きな自発分極を示す
ものの、液晶相やSc’相の温度範囲が狭く、現在まで
ケトン骨格をスペーサ部に導入することは、必ずしも強
誘電性液晶材料として有効とは言えなかった。
そこで既知のエステル系やケトン系強誘電性液晶に比べ
Sc’相の温度範囲が広く、自発分極の大きい強誘電性
液晶の開発が望まれていた。
Sc’相の温度範囲が広く、自発分極の大きい強誘電性
液晶の開発が望まれていた。
(3)本発明が解決しようとする課題
本発明の目的は強誘電性液晶材料に用いる液晶化合物と
して、 表し、構造からみて物理的化学的に安定な化合物2、広
い温度範囲でSc’相を示す化合物3、β位のカルボニ
ル基とエステルのカルボニル基に由来する、大きな自発
分極を有する化合物 4、他の強誘電性を示さない液晶化合物と混合すること
により強誘電性を付与する化合物5、印加電圧に対して
高速応答性を示す化合物を満たす化合物を見いだし、単
独で、あるいはこの少なくとも1種を成分とする組成物
で、実際に表示素子用の液晶として使用できる化合物を
提供することにある。
して、 表し、構造からみて物理的化学的に安定な化合物2、広
い温度範囲でSc’相を示す化合物3、β位のカルボニ
ル基とエステルのカルボニル基に由来する、大きな自発
分極を有する化合物 4、他の強誘電性を示さない液晶化合物と混合すること
により強誘電性を付与する化合物5、印加電圧に対して
高速応答性を示す化合物を満たす化合物を見いだし、単
独で、あるいはこの少なくとも1種を成分とする組成物
で、実際に表示素子用の液晶として使用できる化合物を
提供することにある。
本発明は、この様な要求に応じるため、現在まで考慮さ
れていなかったβ−ケトカルボン酸の物性である。炭素
、酸素の電気陰性度に由来する炭素酸素原子間の大きな
双極子モーメント、およびβ−ケトカルボン酸エステル
のケト−エノール互変異性に基づく液晶の熱安定性に着
目し、これを利用し大きな自発分極を持ち、単独でまた
は他の液晶と配合することにより、低い温度で幅広いS
c°相を持つ化合物を提供することにある。更に。
れていなかったβ−ケトカルボン酸の物性である。炭素
、酸素の電気陰性度に由来する炭素酸素原子間の大きな
双極子モーメント、およびβ−ケトカルボン酸エステル
のケト−エノール互変異性に基づく液晶の熱安定性に着
目し、これを利用し大きな自発分極を持ち、単独でまた
は他の液晶と配合することにより、低い温度で幅広いS
c°相を持つ化合物を提供することにある。更に。
ジケテンとキラルアルコールとからアセト酢酸アルキル
エステルを合成し、これを中間体とすることでコア骨格
の変換や構造修飾を容易にし、発現する液晶相の種類や
温度範囲を容易に制御することが可能な液晶化合物を提
供することにある。
エステルを合成し、これを中間体とすることでコア骨格
の変換や構造修飾を容易にし、発現する液晶相の種類や
温度範囲を容易に制御することが可能な液晶化合物を提
供することにある。
(4)課題を解決するための手段
本発明の化合物は、上述の目的を達成するためになされ
たものであり、β−ケトカルボン酸エステルを骨格とし
て含み、以下に示す一般式(1)%式% 1)下記一般式(1) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、Qo
は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表
す。
たものであり、β−ケトカルボン酸エステルを骨格とし
て含み、以下に示す一般式(1)%式% 1)下記一般式(1) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、Qo
は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表
す。
)で表されることを特徴とする光学
活性β−ケトカルボン酸誘導体、または、2)下記一般
式(2) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、Qo
は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表
す。)で表されることを特徴とする光学活性β−ケトカ
ルボン酸誘導体、または、3)下記一般式(3) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、Qo
は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表
す。)で表されることを特徴とする9光学活性β−ケト
カルボン酸誘導体、または、4)下記一般式(4) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、Qo
は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表
す。)で表されることを特徴とする光学活性β−ケトカ
ルボン酸誘導体である。
式(2) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、Qo
は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表
す。)で表されることを特徴とする光学活性β−ケトカ
ルボン酸誘導体、または、3)下記一般式(3) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、Qo
は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表
す。)で表されることを特徴とする9光学活性β−ケト
カルボン酸誘導体、または、4)下記一般式(4) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、Qo
は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表
す。)で表されることを特徴とする光学活性β−ケトカ
ルボン酸誘導体である。
本発明では、ベンゼン環などから成るコア骨格とキラル
骨格 −Qo とをケトン基とエステル基を含むβ−ケ
トカルボン酸エステル −C0−CH2−Co。
骨格 −Qo とをケトン基とエステル基を含むβ−ケ
トカルボン酸エステル −C0−CH2−Co。
で結合したことにより、ケトン基の大きな双極子モーメ
ントを、高速応答速度を実現するために必要な自発分極
の増大に寄与させることが可能になった。さらに、β−
ケトカルボン酸は、ケト−エノール互変異性を持つこと
が知られ、ある温度条件下では、ケト型とエノール型が
共存する効果が期待でき、これを液晶温度範囲やSc’
相の拡大などに利用した。下記一般式 (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、表し
、nは1または2の整数を表し、mはOまたは1の整数
を表し、Qoは不斉炭素原子を有する光学的に活性なア
ルキル基を表す) で示される化合物について表し、m、 nを種々に変
えた誘導体を合成し、その液晶性を調べた結果、mの値
にかかわらず(1,n) = (1,0)の化合物は液
晶性を示さないし、 (1,n)=(2,2)は液晶
性を示すものの液晶温度範囲が非常に高く実用的ではな
い。また(1. n) = (2、O)の場合m=1
は液晶性を示さない。このような理由から液晶化合物と
して有用な表し、m、 n、の組合せとしては(表し
、m、n)=(1,1,1)、(1,1,2)、 (2
,1,1)、 (1,011)であることがわかり、し
たがって本発明は一般式(1)〜(4)の物質に限定し
た。コア部分のベンゼン環において、環の数は2または
3個であり。
ントを、高速応答速度を実現するために必要な自発分極
の増大に寄与させることが可能になった。さらに、β−
ケトカルボン酸は、ケト−エノール互変異性を持つこと
が知られ、ある温度条件下では、ケト型とエノール型が
共存する効果が期待でき、これを液晶温度範囲やSc’
相の拡大などに利用した。下記一般式 (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、表し
、nは1または2の整数を表し、mはOまたは1の整数
を表し、Qoは不斉炭素原子を有する光学的に活性なア
ルキル基を表す) で示される化合物について表し、m、 nを種々に変
えた誘導体を合成し、その液晶性を調べた結果、mの値
にかかわらず(1,n) = (1,0)の化合物は液
晶性を示さないし、 (1,n)=(2,2)は液晶
性を示すものの液晶温度範囲が非常に高く実用的ではな
い。また(1. n) = (2、O)の場合m=1
は液晶性を示さない。このような理由から液晶化合物と
して有用な表し、m、 n、の組合せとしては(表し
、m、n)=(1,1,1)、(1,1,2)、 (2
,1,1)、 (1,011)であることがわかり、し
たがって本発明は一般式(1)〜(4)の物質に限定し
た。コア部分のベンゼン環において、環の数は2または
3個であり。
1個の場合は液晶性を示さず、4個以上の場合は液晶性
は示すが温度域が高く実用的ではない。ベンゼン環が2
個の2環系化合物はエステル基の有無にかかわらずSc
’相を示さないことが多く、示した場合でもモノドロピ
ンクなSc’相を示し温度範囲も狭い場合が多い。ベン
ゼン環が3個の3環系化合物はエステル基の位置にかか
わらず幅広い液晶相を示しSc’相の温度範囲も広いが
、2環系に比べると温度域が高い。自発分極は2環系、
3環系でほとんど変わらない。
は示すが温度域が高く実用的ではない。ベンゼン環が2
個の2環系化合物はエステル基の有無にかかわらずSc
’相を示さないことが多く、示した場合でもモノドロピ
ンクなSc’相を示し温度範囲も狭い場合が多い。ベン
ゼン環が3個の3環系化合物はエステル基の位置にかか
わらず幅広い液晶相を示しSc’相の温度範囲も広いが
、2環系に比べると温度域が高い。自発分極は2環系、
3環系でほとんど変わらない。
一般式(1)〜(4)で示される化合物において、置換
基Rは炭素数1〜18のアルキル基であり、好ましくは
、 メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、ノナニル、デシル、ウン
デシル、 ドデシル、 トリデシル、テトラデシル、ペ
ンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシ
ル等があげられる。炭素数が19以上であると液晶性を
示さなくなるので好ましくない。置換基Q°は、不斉炭
素を含むアルキル基であり、好ましくは光学活性−2−
メチルブチル基、光学活性−1−メチルブチル基、光学
活性−1−メチルヘプチル基等があげられるシ 一般式(1)〜(4)で示される化合物の具体例として
は、 4− (4−(p−アルキルオキシフェニル)
ベンゾイルオキシ)ベンゾイルmW/1(s)−1−メ
チルヘプチルエステル、 4−(4−(p−アルキル
オキシフェニル)ベンゾイルオキシ)ベンゾイル酢酸(
s)−2−メチルブチルエステル、4− (4−(P−
アルキルオキシフェニル)ベンゾイルオキシ)ベンゾイ
ル#1l(s)−1−メチルブチルエステル−4−(p
−アルキルオキシベンゾイルオキシ)ベンゾイル酢酸(
s) −2−メチルブチルエステル、4− (p−アル
キルオキシベンゾイルオキシ)ベンゾイル#1m (S
) −1−メチルヘプチルエステル−4−(p−アルキ
ルオキシベンゾイルオキシ)ベンゾイル#1l(s)−
1−メチルブチルエステル+ 4− (4−(p−ア
ルキルオキシベンゾイルオキシ)フェニル)ベンゾイル
酸1t(s)−2−メチルブチルエステル。
基Rは炭素数1〜18のアルキル基であり、好ましくは
、 メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、ノナニル、デシル、ウン
デシル、 ドデシル、 トリデシル、テトラデシル、ペ
ンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシ
ル等があげられる。炭素数が19以上であると液晶性を
示さなくなるので好ましくない。置換基Q°は、不斉炭
素を含むアルキル基であり、好ましくは光学活性−2−
メチルブチル基、光学活性−1−メチルブチル基、光学
活性−1−メチルヘプチル基等があげられるシ 一般式(1)〜(4)で示される化合物の具体例として
は、 4− (4−(p−アルキルオキシフェニル)
ベンゾイルオキシ)ベンゾイルmW/1(s)−1−メ
チルヘプチルエステル、 4−(4−(p−アルキル
オキシフェニル)ベンゾイルオキシ)ベンゾイル酢酸(
s)−2−メチルブチルエステル、4− (4−(P−
アルキルオキシフェニル)ベンゾイルオキシ)ベンゾイ
ル#1l(s)−1−メチルブチルエステル−4−(p
−アルキルオキシベンゾイルオキシ)ベンゾイル酢酸(
s) −2−メチルブチルエステル、4− (p−アル
キルオキシベンゾイルオキシ)ベンゾイル#1m (S
) −1−メチルヘプチルエステル−4−(p−アルキ
ルオキシベンゾイルオキシ)ベンゾイル#1l(s)−
1−メチルブチルエステル+ 4− (4−(p−ア
ルキルオキシベンゾイルオキシ)フェニル)ベンゾイル
酸1t(s)−2−メチルブチルエステル。
4− (4−(p−アルキルオキシベンゾイルオキシ)
フェニル)ベンゾイル酢酸(s)−1−メチルヘプチル
エステル、4− (4−(p−フルキルオキシベンゾイ
ルオキシ)フェニル)ベンゾイル#酸(s)−1−メチ
ルブチルエステル、4−(P−アルキルオキシフェニル
)ベンゾイル酸11(s)−2−メチルブチルエステル
、4−(p−アルキルオキシフェニル)ベンゾイル酸1
1(s)−1−メチルヘプチルエステル、4− (p−
アルキルオキシフェニル)ベンゾイル酢酸(s) −1
メチルブチルエステル、 (但し上記名称中のアルキル
は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、ノナニル、デシル、ウン
デシル、 ドデシル、 トリデシル、テトラデシル、ペ
ンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシ
ルを表し、8体、R体の両方を含む)等があげられる。
フェニル)ベンゾイル酢酸(s)−1−メチルヘプチル
エステル、4− (4−(p−フルキルオキシベンゾイ
ルオキシ)フェニル)ベンゾイル#酸(s)−1−メチ
ルブチルエステル、4−(P−アルキルオキシフェニル
)ベンゾイル酸11(s)−2−メチルブチルエステル
、4−(p−アルキルオキシフェニル)ベンゾイル酸1
1(s)−1−メチルヘプチルエステル、4− (p−
アルキルオキシフェニル)ベンゾイル酢酸(s) −1
メチルブチルエステル、 (但し上記名称中のアルキル
は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、ノナニル、デシル、ウン
デシル、 ドデシル、 トリデシル、テトラデシル、ペ
ンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシ
ルを表し、8体、R体の両方を含む)等があげられる。
本発明に係る一般式(1)〜(4)の化合物は次の(a
)または(b)の製造法に従って製造することができる
。すなわち、 (a)まず第一の方法は、一般式(5)%式%(5) (式中、Qoは不斉炭素原子を有する光学的に活性なア
ルキル基を表す)で表される化合物と、一般式(6) (式中、Aはベンジル基を表し、nはl又は2の整数を
表す、)で表される化合物とを常法により反応させ、 一般式(7) (式中、Aはベンジル基を表し、nは1または2の整数
を表し、Qoは不斉炭素原子を有する光学的に活性なア
ルキル基を表す)で表される化合物を得、これを適宜溶
媒中、接触還元して脱ベンジル化し、 −数式 (式中、nは1または2の整数を表し、Qoは不斉炭素
原子を有する光学的に活性なアルキル基を表す)で表さ
れる化合物を得た後、これを常法により得られた一般式
(9) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、1は
1または2の整数を表す)で表される化合物と反応させ
、−数式(10) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し。
)または(b)の製造法に従って製造することができる
。すなわち、 (a)まず第一の方法は、一般式(5)%式%(5) (式中、Qoは不斉炭素原子を有する光学的に活性なア
ルキル基を表す)で表される化合物と、一般式(6) (式中、Aはベンジル基を表し、nはl又は2の整数を
表す、)で表される化合物とを常法により反応させ、 一般式(7) (式中、Aはベンジル基を表し、nは1または2の整数
を表し、Qoは不斉炭素原子を有する光学的に活性なア
ルキル基を表す)で表される化合物を得、これを適宜溶
媒中、接触還元して脱ベンジル化し、 −数式 (式中、nは1または2の整数を表し、Qoは不斉炭素
原子を有する光学的に活性なアルキル基を表す)で表さ
れる化合物を得た後、これを常法により得られた一般式
(9) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、1は
1または2の整数を表す)で表される化合物と反応させ
、−数式(10) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し。
■、nは1または2の整数を表し+ Q’は不斉炭素
原子を有する光学的に活性なアルキル基を表す)で表さ
れる化合物を得ることを特徴とする光学活性β−ケトカ
ルボン酸誘導体の製造方法であり、(b)もう一つの方
法は、−数式(5)%式%(5) (式中、Qoは不斉炭素原子を有する光学的に活性なア
ルキル基を表す)で表される化合物と、−数式(11) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表す。
原子を有する光学的に活性なアルキル基を表す)で表さ
れる化合物を得ることを特徴とする光学活性β−ケトカ
ルボン酸誘導体の製造方法であり、(b)もう一つの方
法は、−数式(5)%式%(5) (式中、Qoは不斉炭素原子を有する光学的に活性なア
ルキル基を表す)で表される化合物と、−数式(11) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表す。
)で表される化合物とを反応させ、
−数式(12)
(式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、Qo
は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表
す) で表される化合物を得ることを特徴とする光学活性β−
ケトカルボン酸誘導体の製造方法である。
は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表
す) で表される化合物を得ることを特徴とする光学活性β−
ケトカルボン酸誘導体の製造方法である。
ここで(a)の製造方法は、−数式(1)〜(3)で表
される化合物が得られ、 (b)の製造方法は、−数式
(4)で表される化合物が得られる。
される化合物が得られ、 (b)の製造方法は、−数式
(4)で表される化合物が得られる。
−数式(5)で示されるアセト酢酸エステルは、トリエ
チルアミンなどの塩基存在下、廉価なジケテンとキラル
アルコールを、直接反応させて製造することができる(
Organic 5yntheses Vol、42゜
p28−29参照)、今回、容易に光学活性基の異なる
アセト酢酸エステルを取得するこの方法を用いることで
、β−ケトカルボン酸骨格を、初めて液晶骨格に取り入
れることが可能になった。
チルアミンなどの塩基存在下、廉価なジケテンとキラル
アルコールを、直接反応させて製造することができる(
Organic 5yntheses Vol、42゜
p28−29参照)、今回、容易に光学活性基の異なる
アセト酢酸エステルを取得するこの方法を用いることで
、β−ケトカルボン酸骨格を、初めて液晶骨格に取り入
れることが可能になった。
−数式(5)で表される化合物の具体例としては、 (
S)−アセト#a−2−メチルブチルエステル、 (S
)−アセト#!It−1−メチルヘプチルエステル、
(S)−アセト酢a−1−メチルブチルエステル等(2
体も含む)があげられる。
S)−アセト#a−2−メチルブチルエステル、 (S
)−アセト#!It−1−メチルヘプチルエステル、
(S)−アセト酢a−1−メチルブチルエステル等(2
体も含む)があげられる。
−数式(6)で示される化合物は市販の化合物が使用出
来、−数式(5)で示される化合物と常法により反応す
ることにより一般式(7)で示される化合物が得られる
。−数式(7)示される化合物の具体例としては、 p−ベンジルオキシベンゾイル酸# (S)−2−メチ
ルブチルエステル、P−ベンジルオキシベンゾイル酢酸
(s)−1−メチルヘプチルエステル、p−ベンジルオ
キシベンゾイル#IF(S)−1メチルブチルエステル
、4−(p−ベンジルオキシフェニル)ベンゾイル酢酸
(s)−2−メチルブチルエステル−4−(p−ベンジ
ルオキシフェニル)ベンゾイル酢酸(s)−1−メチル
ヘプチルエステル、4−(p−ベンジルオキシフェニル
)ベンゾイル酸![1(s)−1−メチルブチルエステ
ル等(2体も含む)があげられる。
来、−数式(5)で示される化合物と常法により反応す
ることにより一般式(7)で示される化合物が得られる
。−数式(7)示される化合物の具体例としては、 p−ベンジルオキシベンゾイル酸# (S)−2−メチ
ルブチルエステル、P−ベンジルオキシベンゾイル酢酸
(s)−1−メチルヘプチルエステル、p−ベンジルオ
キシベンゾイル#IF(S)−1メチルブチルエステル
、4−(p−ベンジルオキシフェニル)ベンゾイル酢酸
(s)−2−メチルブチルエステル−4−(p−ベンジ
ルオキシフェニル)ベンゾイル酢酸(s)−1−メチル
ヘプチルエステル、4−(p−ベンジルオキシフェニル
)ベンゾイル酸![1(s)−1−メチルブチルエステ
ル等(2体も含む)があげられる。
式(8)と式(9)で示される化合物の反応は適宜溶媒
中(例えば、酢酸エチル、トルエン、エチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、ヘキサン等)、
縮合剤の存在下で行うか、式(6)で示される化合物の
反応誘導体を使用して行う。その際の縮合剤としては−
ジシクロヘキジルカルボジイミド等が挙げられ1反応
誘導体を使用する場合における反応誘導体としては、酸
クロライド等の酸ハライド等があげられる。
中(例えば、酢酸エチル、トルエン、エチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、ヘキサン等)、
縮合剤の存在下で行うか、式(6)で示される化合物の
反応誘導体を使用して行う。その際の縮合剤としては−
ジシクロヘキジルカルボジイミド等が挙げられ1反応
誘導体を使用する場合における反応誘導体としては、酸
クロライド等の酸ハライド等があげられる。
本発明の化合物は、まず一般式(5)で示される光学活
性基の異なるアセト酢酸アルキルエステルを得たのち、
2環系、3環系のベンゼン環をはしめ、任意の位置がカ
ルボキシル基で置換されたピリミジン環、シクロヘキサ
ン環、ナフタレン環などの環状分子を酸クロライド化す
ることによって前記一般式(5)の化合物と容易に反応
させ、任意の骨格をコア骨格として導入することが出来
る。このようにして環の種類、結合子の位置等の異なる
コア骨格に変更することによって発現する液晶相の種類
、温度範囲などを容易に変更することが可能になった。
性基の異なるアセト酢酸アルキルエステルを得たのち、
2環系、3環系のベンゼン環をはしめ、任意の位置がカ
ルボキシル基で置換されたピリミジン環、シクロヘキサ
ン環、ナフタレン環などの環状分子を酸クロライド化す
ることによって前記一般式(5)の化合物と容易に反応
させ、任意の骨格をコア骨格として導入することが出来
る。このようにして環の種類、結合子の位置等の異なる
コア骨格に変更することによって発現する液晶相の種類
、温度範囲などを容易に変更することが可能になった。
本発明のβ−ケトカルボン酸誘導体は、新規な液晶化合
物であり、広い温度範囲で強誘電性を示すと共に、印加
電圧に対して高速応答性を示す。
物であり、広い温度範囲で強誘電性を示すと共に、印加
電圧に対して高速応答性を示す。
たとえば本発明の実施例1の化合物において自発分極を
測定した結果、80°Cにおいて60nC/Cm2 と
いう高い値を示し、このとき20μsecの速い応答速
度が得られた。
測定した結果、80°Cにおいて60nC/Cm2 と
いう高い値を示し、このとき20μsecの速い応答速
度が得られた。
また、本発明の化合物は単独でSc’相を示さない化合
物でも他のSa相を示す液晶化合物、たとえばフェニル
ピリミジン環系液晶等と配合することによりSc°相を
示し、強誘電性を付与することが出来る点で有用である
。
物でも他のSa相を示す液晶化合物、たとえばフェニル
ピリミジン環系液晶等と配合することによりSc°相を
示し、強誘電性を付与することが出来る点で有用である
。
(5)発明の作用
本発明における化合物は、メチレン基を介してケトン基
とエステル基を有するβ−ケトカルボン酸エステルを結
合子としたβ−ケトカルボン酸誘導体の液晶化合物であ
る。
とエステル基を有するβ−ケトカルボン酸エステルを結
合子としたβ−ケトカルボン酸誘導体の液晶化合物であ
る。
今回、β−ケトカルボン酸エステル骨格を有したことに
より、既知のエステル結合と同様に広い温度範囲で強誘
電性を示すと同時に、カルボニル基の大きな双極子モー
メントを、高速応答速度を実現するために必要な自発分
極の増大に寄与させることが可能になった。すなわち、
メチレン基を介してケトン基とエステル基を配すること
で、不斉炭素原子の近傍に位置することが必要とされる
双極子モーメントの増大に利用した。さらに、β−ケト
カルボン酸は、ケト−エノール互変異性を持つことが知
られ、ある温度条件下では、ケト型とエノール型が共存
する効果が期待でき、液晶温度範囲やSc−相の拡大な
どに、この効果を利用した。
より、既知のエステル結合と同様に広い温度範囲で強誘
電性を示すと同時に、カルボニル基の大きな双極子モー
メントを、高速応答速度を実現するために必要な自発分
極の増大に寄与させることが可能になった。すなわち、
メチレン基を介してケトン基とエステル基を配すること
で、不斉炭素原子の近傍に位置することが必要とされる
双極子モーメントの増大に利用した。さらに、β−ケト
カルボン酸は、ケト−エノール互変異性を持つことが知
られ、ある温度条件下では、ケト型とエノール型が共存
する効果が期待でき、液晶温度範囲やSc−相の拡大な
どに、この効果を利用した。
本発明の化合物は、上記理由により、応答性、メモリー
性に優れた液晶表示素子の利用可能性を有する強誘電性
液晶材料を提供することができる。
性に優れた液晶表示素子の利用可能性を有する強誘電性
液晶材料を提供することができる。
(6)実施例
以下、実施例により本発明の化合物について更に詳細に
説明するが1本発明はこれらの実施例により限定される
ものでない。以下、記号c、sb、Sx’、Sc’、S
a、■は、それぞれ、結晶、スメクチックB相、同定で
きないスメクチック相。
説明するが1本発明はこれらの実施例により限定される
ものでない。以下、記号c、sb、Sx’、Sc’、S
a、■は、それぞれ、結晶、スメクチックB相、同定で
きないスメクチック相。
キシルスメクチックC相、スメクチックA相1等方相を
表す。本発明化合物の精製は、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー及び再結晶にて行った。
表す。本発明化合物の精製は、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー及び再結晶にて行った。
以下に示す相転移点の測定値は、物質の純度により、若
干の影響を受けることもある。
干の影響を受けることもある。
°なお、以下の実施例においては、原料の光学活性体と
して8体のものを使用した例のみを記載するが、R体を
原料にした場合にも夫々同一の相転移温度、自発分極の
絶対値、応答速度が得られることは、理論上から明らか
である。
して8体のものを使用した例のみを記載するが、R体を
原料にした場合にも夫々同一の相転移温度、自発分極の
絶対値、応答速度が得られることは、理論上から明らか
である。
実施例1
4− (4−(p−7”シルオキシフェニル)ベンゾイ
ルオキシ)ベンゾイル#*(s)−1−メチルヘプチル
エステルの合成; (1−1) (S)−アセト酸[1−1−メチルヘ
プチルエステルの合成: かき混ぜ機1滴下ロートおよび還流冷却器を取り付けた
内容100 m Mの三つロフラスコに、 (s)−1
−メチルヘプチルアルコール13.0gおよびトリエチ
ルアミン0.10gを加え60℃に加熱する。次に、反
応液の温度を60℃に保ちかき混ぜながら、ジケテン9
.25gを滴下ロートから徐々に加える0滴下終了後、
引続きそのまま1時間かき混ぜながら同温度に保つ。反
応物を放冷後、減圧下で蒸留を行う。低沸点留分を除い
た後、b、p、130℃/ 2 m m Hgの無色透
明の液体14.8gを得た(収率69%)。 取得物
についてIH−NMRlIRにより構造を確認した。
ルオキシ)ベンゾイル#*(s)−1−メチルヘプチル
エステルの合成; (1−1) (S)−アセト酸[1−1−メチルヘ
プチルエステルの合成: かき混ぜ機1滴下ロートおよび還流冷却器を取り付けた
内容100 m Mの三つロフラスコに、 (s)−1
−メチルヘプチルアルコール13.0gおよびトリエチ
ルアミン0.10gを加え60℃に加熱する。次に、反
応液の温度を60℃に保ちかき混ぜながら、ジケテン9
.25gを滴下ロートから徐々に加える0滴下終了後、
引続きそのまま1時間かき混ぜながら同温度に保つ。反
応物を放冷後、減圧下で蒸留を行う。低沸点留分を除い
た後、b、p、130℃/ 2 m m Hgの無色透
明の液体14.8gを得た(収率69%)。 取得物
についてIH−NMRlIRにより構造を確認した。
’HNMR; (ppm)
0.90〜1.50.2.30.3,494.00
rR;(。□−I)
2860.2845.1735.1680.1630.
1600.1400.1280、(1−2) p−ベ
ンジルオキシベンゾイル酢酸(s)−1−メチルヘプチ
ルエステルの合成;かき混ぜ機、滴下ロートおよび還流
冷却器を取り付けた内容300 m Mの三つロフラス
コに、マグネシウムバンド1.68g、無水エタノール
1.59gおよび四塩化炭素5m9.を加え、室温に2
〜3分放置し水素ガスと発熱の発生を確認した後、適度
の沸騰が継続するように注意しながら脱水したテトラヒ
ドロフ9250m父を徐々に加える。続いて、前記(1
−1)で合成した(s)アセト酢11−1−メチルヘプ
チルエステル14.8g、無水エタノール4.78g、
および脱水テトラヒドロフラン50m2の混液を滴下ロ
ートから徐々に加える。混液の滴下の終わり頃からフラ
スコを静かに加熱し始め、マグネシウムが完全に溶解す
るまで3時間加熱を続けた後、−度室温にまで温度を下
げてから反応温度を50℃に保ち、攪はんしなからP−
ベンジルオキシ安息香酸クロライド18.7gを脱水ト
ルエン50 m Qに溶がした溶液を滴下ロートから1
時間を要して徐々に滴下する。滴下終了後引き続いて2
時間かき混ぜながら同温度を保つ。反応物を放冷抜水で
うすめ、50%硫酸でリドマス酸性とし室温で2時間攪
はんする。次に、エーテルl OOm flを用い3回
に分けて抽出し、抽出した有機層は2回水洗いし、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後有機層を減圧留去し、粗製物を
得た。得られた粗製物を、300gのシリカゲルを用い
てヘキサン/酢酸エチル混合溶媒でカラムクロマトグラ
フィーを行い、p−ベンジルオキシベンゾイル#酸(s
)−1−メチルヘプチルエステル8−5gCRR率32
%)を得た。得られた取得物について’H−NMRによ
り構造を確認した。
1600.1400.1280、(1−2) p−ベ
ンジルオキシベンゾイル酢酸(s)−1−メチルヘプチ
ルエステルの合成;かき混ぜ機、滴下ロートおよび還流
冷却器を取り付けた内容300 m Mの三つロフラス
コに、マグネシウムバンド1.68g、無水エタノール
1.59gおよび四塩化炭素5m9.を加え、室温に2
〜3分放置し水素ガスと発熱の発生を確認した後、適度
の沸騰が継続するように注意しながら脱水したテトラヒ
ドロフ9250m父を徐々に加える。続いて、前記(1
−1)で合成した(s)アセト酢11−1−メチルヘプ
チルエステル14.8g、無水エタノール4.78g、
および脱水テトラヒドロフラン50m2の混液を滴下ロ
ートから徐々に加える。混液の滴下の終わり頃からフラ
スコを静かに加熱し始め、マグネシウムが完全に溶解す
るまで3時間加熱を続けた後、−度室温にまで温度を下
げてから反応温度を50℃に保ち、攪はんしなからP−
ベンジルオキシ安息香酸クロライド18.7gを脱水ト
ルエン50 m Qに溶がした溶液を滴下ロートから1
時間を要して徐々に滴下する。滴下終了後引き続いて2
時間かき混ぜながら同温度を保つ。反応物を放冷抜水で
うすめ、50%硫酸でリドマス酸性とし室温で2時間攪
はんする。次に、エーテルl OOm flを用い3回
に分けて抽出し、抽出した有機層は2回水洗いし、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後有機層を減圧留去し、粗製物を
得た。得られた粗製物を、300gのシリカゲルを用い
てヘキサン/酢酸エチル混合溶媒でカラムクロマトグラ
フィーを行い、p−ベンジルオキシベンゾイル#酸(s
)−1−メチルヘプチルエステル8−5gCRR率32
%)を得た。得られた取得物について’H−NMRによ
り構造を確認した。
H−NMR; (ppm)
0.82〜1.50、3.96、4.125.15−
7.02、7.40、7.92(13) p−ヒド
ロキシベンゾイル#a(S)−1−メチルヘプチルエス
テルの合成;前記(1−2)で合成したP−ベンジルオ
キシベンゾイルall Cb)−1−メチルヘプチルエ
ステル8.5 g te8酸エチエチル10 m Qに
溶解し、シクロヘキセン6.75g及びパラジウムブラ
ック0.85gの存在下、1時間加熱還流した。反応液
を渡過しパラジウムブラックを除いた後、#酸エチル及
びシクロヘキセンを留去して得られる無色油状物をトル
エン80.0m12に溶解させ、水100 、 Om
Qで洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後、トルエンを留
去し、p−ヒドロキシベンゾイル酢酸(s)−1−メチ
ルヘプチルエステル7.5gを得た(収率87%)。
7.02、7.40、7.92(13) p−ヒド
ロキシベンゾイル#a(S)−1−メチルヘプチルエス
テルの合成;前記(1−2)で合成したP−ベンジルオ
キシベンゾイルall Cb)−1−メチルヘプチルエ
ステル8.5 g te8酸エチエチル10 m Qに
溶解し、シクロヘキセン6.75g及びパラジウムブラ
ック0.85gの存在下、1時間加熱還流した。反応液
を渡過しパラジウムブラックを除いた後、#酸エチル及
びシクロヘキセンを留去して得られる無色油状物をトル
エン80.0m12に溶解させ、水100 、 Om
Qで洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾燥後、トルエンを留
去し、p−ヒドロキシベンゾイル酢酸(s)−1−メチ
ルヘプチルエステル7.5gを得た(収率87%)。
F(−NMR; (ppm)
0.88〜1.50.3.98.4.O06,90、7
,85 (1〜4)4−(4−(p−デシルオキシフェニル)ベ
ンゾイルオキシ)ベンゾイル$9(s)−1−メチルヘ
プチルエステルの合成;前記(1−3)で得られたp−
ヒドロキシベンゾイル酢酸(s)−1−メチルヘプチル
エステル7.5gと、常法により製造した4−テトラデ
シルオキシビフェニル−1−カルボンfi11.6gを
、ジクロロメタン100 m 2中、5.69gのジシ
クロへキシルカルボジイミドと 0.042gの4−ピ
ロリジノピリジンを加え、室温で12時間攪はんした。
,85 (1〜4)4−(4−(p−デシルオキシフェニル)ベ
ンゾイルオキシ)ベンゾイル$9(s)−1−メチルヘ
プチルエステルの合成;前記(1−3)で得られたp−
ヒドロキシベンゾイル酢酸(s)−1−メチルヘプチル
エステル7.5gと、常法により製造した4−テトラデ
シルオキシビフェニル−1−カルボンfi11.6gを
、ジクロロメタン100 m 2中、5.69gのジシ
クロへキシルカルボジイミドと 0.042gの4−ピ
ロリジノピリジンを加え、室温で12時間攪はんした。
溶媒を減圧留去し、酢酸エチル100m2を加え、しば
らく攪はんし不溶物を渡過後、この#酸エチル層を水1
00 m 9.ついで飽和食塩水100 m Mで洗っ
たのち、無水硫酸ナトリウムを入れ乾燥させた。#酸エ
チルを溜去して、これをn−へキサン:酢酸エチル=5
= 1混合物を溶離液としてシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより分離し、無色結晶を得た。さらに、こ
の結晶を#酸エチルより再結晶し、4− (4−(p
−デシルオキシフェニル)ベンゾイルオキシ)ベンゾイ
ル酸1m(S)−1−メチルヘプチルエステル]、90
gを得た(収率39%)。取得物について以下の測定に
より構造を確認した。
らく攪はんし不溶物を渡過後、この#酸エチル層を水1
00 m 9.ついで飽和食塩水100 m Mで洗っ
たのち、無水硫酸ナトリウムを入れ乾燥させた。#酸エ
チルを溜去して、これをn−へキサン:酢酸エチル=5
= 1混合物を溶離液としてシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより分離し、無色結晶を得た。さらに、こ
の結晶を#酸エチルより再結晶し、4− (4−(p
−デシルオキシフェニル)ベンゾイルオキシ)ベンゾイ
ル酸1m(S)−1−メチルヘプチルエステル]、90
gを得た(収率39%)。取得物について以下の測定に
より構造を確認した。
H−NMR; (pPm)
0.88〜1.85.3,95.4.034.98.7
.00〜8.22 実施例2 4−(p−デシルオキシベンゾイルオキシ)ベンゾイル
酢酸(s)−2−メチルブチルエステルの合成; (2,−1) (S)−アセト酢酸−2−メチルブ
チルエステルの合成; かき混ぜ機、滴下ロートおよび還流冷却器を取り付けた
内容100 m Qの三つロフラスコに、 (s)−2
−メチルブチルアルコール4−41gおよびトリエチル
アミン0.05gを加え60℃に加熱する。次に1反応
液の温度を60℃に保ちかき混ぜながら、ジケテン4.
62gを滴下ロートから徐々に加える。滴下終了後、引
続きそのまま1時間かき混ぜながら同温度に保つ。反応
物を放冷後、減圧下で蒸留を行う。低沸点留分を除いた
後、b、p、90℃72 m m HHの無色透明の液
体6.28gを得た(収率又3%)。
.00〜8.22 実施例2 4−(p−デシルオキシベンゾイルオキシ)ベンゾイル
酢酸(s)−2−メチルブチルエステルの合成; (2,−1) (S)−アセト酢酸−2−メチルブ
チルエステルの合成; かき混ぜ機、滴下ロートおよび還流冷却器を取り付けた
内容100 m Qの三つロフラスコに、 (s)−2
−メチルブチルアルコール4−41gおよびトリエチル
アミン0.05gを加え60℃に加熱する。次に1反応
液の温度を60℃に保ちかき混ぜながら、ジケテン4.
62gを滴下ロートから徐々に加える。滴下終了後、引
続きそのまま1時間かき混ぜながら同温度に保つ。反応
物を放冷後、減圧下で蒸留を行う。低沸点留分を除いた
後、b、p、90℃72 m m HHの無色透明の液
体6.28gを得た(収率又3%)。
(2−2)p−ベンジルオキシベンゾイル#酸(s)−
2−メチルブチルエステルの合成;前記(1−2)にお
いて、 (S)−アセト酢酸1−メチルヘプチルエステ
ルに換えて、 (S)−アセト酢酸−2−メチルブチル
エステル6.28gを用いて、同様の反応を行った。得
られた3、48g(収率28%)のP−ベンジルオキシ
ベンゾイル酸IE (s) −2−メチルブチルエステ
ルについて’H−NMRで構造を確認した。
2−メチルブチルエステルの合成;前記(1−2)にお
いて、 (S)−アセト酢酸1−メチルヘプチルエステ
ルに換えて、 (S)−アセト酢酸−2−メチルブチル
エステル6.28gを用いて、同様の反応を行った。得
られた3、48g(収率28%)のP−ベンジルオキシ
ベンゾイル酸IE (s) −2−メチルブチルエステ
ルについて’H−NMRで構造を確認した。
H−NMR; (ppm)
0.80−1.70.3.95.4.00.5.12.
7.00.7.38.7.90(2−3)p−ヒドロキ
シベンゾイル酸!1(S)2−メチルブチルエステルの
合成; 前記(1−3)において、p−ベンジルオキシベンゾイ
ル酸* (S)−1−メチルヘプチルエステルに換えて
、p−ベンジルオキシベンゾイル酢酸(s)−2−メチ
ルブチルエステル3.48gを用いて、同様の反応を行
った。得られた2、38g(収率93%)のp−ヒドロ
キシベンゾイル酢酸(s)−2−メチルブチルエステル
はIH−NMRにより構造を確認した。
7.00.7.38.7.90(2−3)p−ヒドロキ
シベンゾイル酸!1(S)2−メチルブチルエステルの
合成; 前記(1−3)において、p−ベンジルオキシベンゾイ
ル酸* (S)−1−メチルヘプチルエステルに換えて
、p−ベンジルオキシベンゾイル酢酸(s)−2−メチ
ルブチルエステル3.48gを用いて、同様の反応を行
った。得られた2、38g(収率93%)のp−ヒドロ
キシベンゾイル酢酸(s)−2−メチルブチルエステル
はIH−NMRにより構造を確認した。
’ HN M R; (p p m )0.80−1
.70.3.95.4.006.87− 7.88 (2−4)4−(p−デシルオキシベンゾイルオキシ)
ベンゾイル酢酸(s)−2−メチルブチルエステルの合
成; 前記(1−3)で得られたp−ヒドロキシベンゾイル酸
a (s)−2−メチルブチルエステル2.38gと、
常法により製造したP−デシルオキシ安息香酸2.91
gを、ジクロロメタン20mM中2.16gのジシクロ
へキシルカルボジイミドと0.02gの4−ピロリジノ
ピリジンを加え、室温で12時間攪はんした。溶媒を減
圧留去し、酢酸エチル100m9.を加え、しばらく攪
はんし不溶物を渡過後、この#酸エチル層を水100
m Mついで飽和食塩水100 m Qで洗ったのち、
無水硫酸ナトリウムを入れ乾燥させた。酢酸エチルを留
去して、これをn−ヘキサン:酢酸エチル=5=1混合
物を溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィー
により分離し、無色結晶を得た。さらに、この結晶を#
酸エチルより再結晶し、4−(p−デシルオキシベンゾ
イルオキシ)ベンゾイル酢酸(s)−2−メチルブチル
エステル1.65gを得た(収率34%)。
.70.3.95.4.006.87− 7.88 (2−4)4−(p−デシルオキシベンゾイルオキシ)
ベンゾイル酢酸(s)−2−メチルブチルエステルの合
成; 前記(1−3)で得られたp−ヒドロキシベンゾイル酸
a (s)−2−メチルブチルエステル2.38gと、
常法により製造したP−デシルオキシ安息香酸2.91
gを、ジクロロメタン20mM中2.16gのジシクロ
へキシルカルボジイミドと0.02gの4−ピロリジノ
ピリジンを加え、室温で12時間攪はんした。溶媒を減
圧留去し、酢酸エチル100m9.を加え、しばらく攪
はんし不溶物を渡過後、この#酸エチル層を水100
m Mついで飽和食塩水100 m Qで洗ったのち、
無水硫酸ナトリウムを入れ乾燥させた。酢酸エチルを留
去して、これをn−ヘキサン:酢酸エチル=5=1混合
物を溶離液としてシリカゲルカラムクロマトグラフィー
により分離し、無色結晶を得た。さらに、この結晶を#
酸エチルより再結晶し、4−(p−デシルオキシベンゾ
イルオキシ)ベンゾイル酢酸(s)−2−メチルブチル
エステル1.65gを得た(収率34%)。
’ H−N M R; (p p m )0.80〜
1.70. 6.90.7.30. 3.95. 8.08. 4.00 8.12 実施例3〜5 上述の方法にて、以下の一般式(13)(式中、Rは炭
素数1〜18のアルキル基を表し、表し、nは1または
2の整数を表し、mはOまたは1の整数を表し、Qoは
不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表す
) において、アルキル鎖長(R)、ベンゼン環数(表し、
n)、エステル結合数(m)、光学活性基((1)の異
なる化合物を合成した。この様にして得られた化合物に
ついて相転移温度を測定した結果を第1表に示す、第1
表より、実施例1.4の化合物は幅広い液晶相を示しS
c’相の温度範囲も広く、実施例2の化合物は低い温度
域でSc゛相を示すことが判る。実施例3.5の化合物
は、Sc’は示さないが他のベースとなる液晶に加える
ことによって、ベース液晶の相系列、相転移温度を変え
ることなくSc相をSc’相に変換することが出来る点
で有用である。
1.70. 6.90.7.30. 3.95. 8.08. 4.00 8.12 実施例3〜5 上述の方法にて、以下の一般式(13)(式中、Rは炭
素数1〜18のアルキル基を表し、表し、nは1または
2の整数を表し、mはOまたは1の整数を表し、Qoは
不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を表す
) において、アルキル鎖長(R)、ベンゼン環数(表し、
n)、エステル結合数(m)、光学活性基((1)の異
なる化合物を合成した。この様にして得られた化合物に
ついて相転移温度を測定した結果を第1表に示す、第1
表より、実施例1.4の化合物は幅広い液晶相を示しS
c’相の温度範囲も広く、実施例2の化合物は低い温度
域でSc゛相を示すことが判る。実施例3.5の化合物
は、Sc’は示さないが他のベースとなる液晶に加える
ことによって、ベース液晶の相系列、相転移温度を変え
ることなくSc相をSc’相に変換することが出来る点
で有用である。
(以下余白)
(自発分極の測定)
実施例1で得られた4 −(4−(p−デシルオキシフ
ェニル)ベンゾイルオキシ)ベンゾイル酢酸(s)−1
−メチルヘプチルエステルを加熱し、等方性液体とした
。これを、ポリイミドを塗布しラビング処理を施した透
明電極付きガラス板からなる厚さ3.3ミクロンのセル
に注入し、しかる後、1分間に0. 5℃の割合で冷却
し、SC本相が均一に配向したモノドメイン薄膜セルを
作成した。このセルに±30ボルト、50ヘルツの三角
波電圧を印加し自発分極を測定した。測定結果を第1図
に示す。
ェニル)ベンゾイルオキシ)ベンゾイル酢酸(s)−1
−メチルヘプチルエステルを加熱し、等方性液体とした
。これを、ポリイミドを塗布しラビング処理を施した透
明電極付きガラス板からなる厚さ3.3ミクロンのセル
に注入し、しかる後、1分間に0. 5℃の割合で冷却
し、SC本相が均一に配向したモノドメイン薄膜セルを
作成した。このセルに±30ボルト、50ヘルツの三角
波電圧を印加し自発分極を測定した。測定結果を第1図
に示す。
第1図においてグラフの縦軸は自発分極を、横軸は温度
を表す。このグラフより80℃において、自発分極(P
s)60nC/cm2を示し、このとき20μ5ec(
±30ボルト、50ヘルツ、矩形波)の速い応答速度が
得られた。
を表す。このグラフより80℃において、自発分極(P
s)60nC/cm2を示し、このとき20μ5ec(
±30ボルト、50ヘルツ、矩形波)の速い応答速度が
得られた。
実施例2〜5の化合物についても同様に自発分極および
応答速度を測定したところほぼ同じ結果が得られた。
応答速度を測定したところほぼ同じ結果が得られた。
(7)発明の効果
本発明の化合物は物理化学的に安定であり、単独にある
いは他の液晶と配合することによって広範な温度領域に
おいて強誘電性を呈すると同時に、印加電圧に対して高
速応答性を示す新規な化合物である。従って、実用温度
領域において電気光学効果を応用した液晶表示素子の材
料として、有用な新規な化合物を簡単に廉価に提供する
ことができる。
いは他の液晶と配合することによって広範な温度領域に
おいて強誘電性を呈すると同時に、印加電圧に対して高
速応答性を示す新規な化合物である。従って、実用温度
領域において電気光学効果を応用した液晶表示素子の材
料として、有用な新規な化合物を簡単に廉価に提供する
ことができる。
第1図は本発明の実施例1により得られた化合物の自発
分極を測定した結果を示す。
分極を測定した結果を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)下記一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、Q^
*は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を
表す。)で表されることを特徴とする光学活性β−ケト
カルボン酸誘導体。 2)下記一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、Q^
*は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を
表す。)で表されることを特徴とする光学活性β−ケト
カルボン酸誘導体。 3)下記一般式(3) ▲数式、化学式、表等があります▼(3) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、Q^
*は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を
表す。)で表されることを特徴とする光学活性β−ケト
カルボン酸誘導体。 4)下記一般式(4) ▲数式、化学式、表等があります▼(4) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、Q^
*は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル基を
表す。)で表されることを特徴とする光学活性β−ケト
カルボン酸誘導体。 5)下記一般式(5) CH3−CO−CH2−COO−Q^*(5)(式中、
Q^*は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル
基を表す)で表される化合物と、一般式(6) ▲数式、化学式、表等があります▼(6) (式中、Aはベンジル基を表し、nは1または2の整数
を表す。)で表される化合物とを反応させ、一般式(7
) ▲数式、化学式、表等があります▼(7) (式中、Aはベンジル基を表し、nは1または2の整数
を表し、Q^*は不斉炭素原子を有する光学的に活性な
アルキル基を表す)で表される化合物を得、これを適宜
溶媒中、接触還元し、 一般式(8) ▲数式、化学式、表等があります▼(8) (式中、nは1または2の整数を表し、Q^*は不斉炭
素原子を有する光学的活性なアルキル基を表す)で表さ
れる化合物を得た後、これを 一般式(9) ▲数式、化学式、表等があります▼(9) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、lは
1または2の整数を表す)で表される化合物と反応させ
、一般式(10) ▲数式、化学式、表等があります▼(10) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し、l、
nは1または2の整数を表し、Q^*は不斉炭素原子を
有する光学的に活性なアルキル基を表す)で表される化
合物を得ることを特徴とする光学活性β−ケトカルボン
酸誘導体の製造方法。 6)下記一般式(5) CH3−CO−CH2−COO−Q^*(5)(式中、
Q^*は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル
基を表す)で表される化合物と、一般式(11) ▲数式、化学式、表等があります▼(11) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表す。 )で表される化合物とを反応させ、 一般式(12) ▲数式、化学式、表等があります▼(12) (式中、Rは炭素数1〜18のアルキル基を表し。 Q^*は不斉炭素原子を有する光学的に活性なアルキル
基を表す)で表される化合物を得ることを特徴とする光
学活性β−ケトカルボン酸誘導体の製造方法。 7)請求項1〜5記載の光学活性化合物の少なくとも1
種を成分として含有することを特徴とする液晶組成物。 8)請求項1〜5記載の光学活性化合物、あるいはこの
化合物の少なくとも1種を成分として含有する液晶組成
物を使用して構成されることを特徴とする光スイッチン
グ素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2260241A JP2854406B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | βーケトカルボン酸誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2260241A JP2854406B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | βーケトカルボン酸誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04139151A true JPH04139151A (ja) | 1992-05-13 |
| JP2854406B2 JP2854406B2 (ja) | 1999-02-03 |
Family
ID=17345317
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2260241A Expired - Fee Related JP2854406B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | βーケトカルボン酸誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2854406B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8481595B2 (en) | 2008-01-15 | 2013-07-09 | Wellstat Therapeutics Corporation | Compounds for the treatment of metabolic disorders |
-
1990
- 1990-09-28 JP JP2260241A patent/JP2854406B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8481595B2 (en) | 2008-01-15 | 2013-07-09 | Wellstat Therapeutics Corporation | Compounds for the treatment of metabolic disorders |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2854406B2 (ja) | 1999-02-03 |
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|---|---|---|---|
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