JPH04139157A - 4―(1―カルバモイルシクロプロピル)安息香酸誘導体およびその塩並びに4―(1―アミノシクロプロピル)安息香酸誘導体またはその塩の新規製造法 - Google Patents

4―(1―カルバモイルシクロプロピル)安息香酸誘導体およびその塩並びに4―(1―アミノシクロプロピル)安息香酸誘導体またはその塩の新規製造法

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JPH04139157A
JPH04139157A JP2257669A JP25766990A JPH04139157A JP H04139157 A JPH04139157 A JP H04139157A JP 2257669 A JP2257669 A JP 2257669A JP 25766990 A JP25766990 A JP 25766990A JP H04139157 A JPH04139157 A JP H04139157A
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藤堂 洋三
Hiroyasu Takagi
高木 宏育
Fumihiko Iino
飯野 文彦
Makoto Takada
誠 高田
Hiroshi Kuroda
宏 黒田
Kazuya Hayashi
一也 林
Kaishu Momoi
桃井 海秀
Hirokazu Narita
成田 弘和
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    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、緑!!菌を含むグラム陰性菌のみならずグラ
ム陰性菌に対しても有効で広範囲の抗菌スペクトルを有
する、−数式[I] 「式中、R1は、水素原子またはカルボキシル保護基を
;R3は、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、保
護されていてもよいヒドロキシル基、保護されていても
よいアミノ基、保護されていてもよい低級アルキルアミ
ノ基またはシー低級アルキルアミノ基を;R4は、保護
されていてもよいアミノ基を;R5は、置換されていて
もよい低級アルキル、低級アルケニル、シクロアルキル
、アリールまたはアルキル基、ハロゲノ低級アルキル基
、保護されていてもよいヒドロキシ低級アルキル基、低
級アルキリデン基およびR7が結合する炭素原子ととも
にシクロアルカン環を形成する基から選ばれる1つ以上
の基を;およびBは、酸素原子もしくは硫黄原子または
低級アルキル基で置換されていてもよいイミノ基を示す
。)で表わされる基を示す。]を;並びにX1は、ハロ
ゲン原子をそれぞれ示す。」で表わされる7−(1−ア
ミノシクロプロピル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソ
−3−キノリンカルボン酸誘導体およびその塩の重要な
中間体である、−数式[II] 「式中、R1および×1は、前記したと同様のM味を有
し:X−は、ハロゲン原子を:並びにYlおよびY2は
、同一または異なって水素原子またはハロゲン原子をそ
れぞれ示す。fで表わされる化合物およびその塩並びに
それらを用いる下記製造法に関する。
ブなわち、−数式[II]で表わされる化合物またはそ
の塩をホフマン転位反応に付し、必要に応じて保護基を
脱離、保護基を導入または塩に変換させて、−数式II
]で表わされる化合物の中間体である一般式[I11] %式% (−式中、R、X  、X−1Y  およびY2は、前
記したと同様のM@を有し;並びにR2は、水素原子ま
たはアミン保護基を示す。」で衣すされる4−(1−ア
ミノシクロプロピル)安息香酸誘導体またはその塩を製
造する方法に関する。
[従来の技術] 一般式[IEで表わされる7−(1−アミノシクロプロ
ピル)−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリン
カルボン酸誘導体およびその塩は、特開平1−9357
3 @および同2−28178号において、緑膿菌を含
むグラム陰性菌のみならずグラム陰性菌に対しても有効
で、広範囲の抗菌スペクトルを有すると同時に、溶解性
に優れ、高い血中濃度を示し、かつ中枢神経への作用の
ないなど安全性が高い優れた性質を有すること、並びに
−数式iI[1]で表わされる化合物およびその塩が一
数式CI]で表わされる化合物およびその塩の有用な中
間体であることが示されている。
しかし、−数式[1[1]で表わされる化合物またはそ
の塩を製造する方法として、−数式[n]で表わされる
新規な化合物またはその塩を中間体として経由する方法
は全く知られていない。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、−数式[I]で表わされる7−(1−
アミノシクロプロピル)−1,4−ジヒドロ−4−オキ
ソ−3−キノリンカルボンW1誘導体またはその塩を製
造するための中間体でおる一般式[1[1]で表わされ
る4−(1−アミノシクロプロピル)安息香酸誘導体ま
たはその塩を工業的に容易に得る製造法およびその反応
の原料である一般式[II]で表わされる化合物および
その塩を提供することにおる。
[課題を解決するための手段] かかる状況下において、本発明者らは鋭意研究した結果
、−数式[II]の化合物またはその塩をホフマン転位
反応に付し、−数式[I[1]の4=(1−アミノシク
ロプロピル)安息香酸誘導体またはその塩を容易に得る
方法を見出し、本発明を冗成するに至った。
以下、本発明の詳細な説明する。
本明細書において特にことわらないかぎり、ハロゲン原
子とは、たとえば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子ま
たはヨウ素原子などを;アルキル基とは、たとえば、メ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチル、se叶アブチルtert−ブチル、ペ
ンチル、ヘキシルまたはオクチルなどのCアルキル基を
;低級アルキ1〜10 ル基とは、たとえば、上記したアルキル基のうちCアル
キル基を;低級アルケニル基とは、1〜5 たとえば、ビニル、アリル、1−プロペニルまたは1−
ブテニルなどのCアルケニル基を;2〜5 シクロアルキル基とは、たとえば、シクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチルまたはシクロヘキシルなど
のCシクロアルキル基を;ア3〜6 リール基とは、たとえば、フェニルまたはナフチルなど
を;複素環式基とは、酸素原子、窒素原子および硫黄原
子から選ばれる1つ以上の異項原子を含む5員もしくは
6員環またはそれらの縮合環式基、たとえば、フリル、
ピロリル、チエニル、オキサシリル、イミダゾリル、チ
アゾリル、1−ピロリジニル、ベンゾフリル、ベンゾチ
アゾリル、ピリジル、キノリル、ピリミジニルまたはモ
ルホリノなどを;アルコキシ基とは、たとえば、−〇−
アルキル蟇(アルキル基は、上記したC1〜1゜アルケ
ニル基を示す。)を:アルコキシカルボニル基とは、た
とえば、−CO−O−アルキル基(アルキル基は、上記
したC1〜1oアルキル基を示す。)を;アルコキシア
ルコキシ基とは、たとえば、−0−アルキル−O−アル
キル基(アルキル基は、上記した01〜1oアルキル基
を示す。)を;アシルアミノ基とは、たとえば、ホルミ
ルアミノ、アセチルアミノ、トリフルオロアセチルアミ
ノ、プロピオニルアミノまたはブチリルアミノなどのC
アシルアミノ基を;アシル−低級アルキ1〜4 ルアミノ基とは、たとえば、ホルミルメチルアミノ、ア
セチルメチルアミン、トリフルオロアセチルメチルアミ
ノ、プロピオニルエチルアミノまたはブチリルエチルア
ミノなどのCアシル−1〜4 Cアルキルアミノ基を;アシルオキシ基と1〜5 は、たとえば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、プロ
ピオニルオキシまたはブチリルオキシなどのCアシルオ
キシ基を;トリハロゲノ−低級1〜4 アルキル基とは、たとえば、トリフルオロメチルまたは
トリクロロメチルなどのトリハロゲノCアルキル基を;
低級アルキルアミノ基と1〜5 は、たとえば、メチルアミノ、エチルアミノまたはプロ
ピルアミノなとのCアルキルアミノ1〜5 基を;ジー低級アルキルアミノ基とは、たとえば、ジメ
チルアミノまたはジエチルアミノなどのジーCアルキル
アミノ基を;ハロゲノ低級アル1〜5 キル基とは、たとえば、クロロメチル、ブロモメチル、
ジクロロメチル、トリクロロメチル、クロロエチル、ジ
クロロエチル、トリクロロエチルまたはクロロプロピル
などのハロゲノ−Cア1〜5 ルキル基を;ヒドロキシ低級アルキル基とは、たとえば
、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチルまたはヒドロキ
シプロピルなどのヒドロキシ〜Cアルキル基を;低級ア
ルキリデン基とは、1〜5 たとえば、メチレン、エチリデン、プロピリデンまたは
イソプロピリデンなどのCアルキリ1〜5 デン基を;シクロアルカン環とは、たとえば、シクロプ
ロパン、シクロブタン、シクロペンタンまたはシクロヘ
キサンなどのCシクロアルカ3〜6 ン環をそれぞれ意味する。
一般式rTlの化合物またはその塩において、R5の各
蟇は、ハロゲン原子;シアノ基;カルボキシル基;じド
ロキシル基;アミノ基;アルキル基;アルコキシ基;ア
ルコキシカルボニル基;アルコキシアルコキシ基;アリ
ール基;シクロアルキル基;アシルアミノ基;アシル−
低級アルキルアミノ基;アシルオキシ蟇;低級アルケニ
ル基ニトリハロゲノ−低級アルキル基;低級アルキルア
ミノ基;またはシー低級アルキルアミノ基などから選ば
れる一つ以上の置換基で置換されていてもよい。
カルボキシル保護基としては、たとえば、接触還元、化
学的還元もしくはその他の緩和条件で処理することによ
り脱離するエステル形成基;生体内において容易に脱離
するエステル形成基二または水もしくはアルコールで処
理することにより容易に脱離する有機シリル、有機リン
もしくは有機スズ蟇などの特開昭59−80665号に
記載されたカルボキシル保護基が挙げられる。
アミノ基および低級アルキルアミノ基の保護基としては
、通常当該分野で使用される保護基が挙げられ、たとえ
ば、ホルミル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベン
ジル、2,4−ジメトキシベンジル、メトキシカルボニ
ルおよび特開昭5980665号に記載された通常のア
ミノ保護基が挙げられる。
また、ヒドロキシル基の保護基としては、通常当該分野
で使用される保filが挙げられ、たとえば、水または
アルコールで処理することにより容易に1152離する
有機シリル基並びにホルミル、アセチル、ベンジル、ト
リチルおよびメトキシメチルなどの特開昭59−806
65号に記載された通常のヒドロキシル保護基が挙げら
れる。
また、−数式[I]、[n]および[I]の化合物の塩
としては、通常知られているアミン基などの塩基性基ま
たはヒドロキシルもしくはカルボキシル基などの酸性基
にあける塩を挙げることができる。
2基性基における塩としては、たとえば、塩酸、臭化水
素酸もしくは硫酸などの鉱酸との塩;酒石酸、キ酸、り
丁ン酸、トリクロロ酢酸もしくはトリフルオロ酢酸など
の有機カルホン酸との塩;またはメタンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、メシチレ
ンスルホン酸もしくはナフタレンスルホン酸などのスル
ホン酸との塩などを、また、酸性基にあける塩としては
、たとえば、ナトリウムもしくはカリウムなどのアルカ
リ金属との塩:カルシウムもしくはマグネシウムなどの
アルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;またはトリ
メチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、
ピリジン、N、N−ジメチルアニリン、\−メチルピペ
リジン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシ
クロヘキシルアミン、プロ力イン、ジベンジルアミン、
N−ベンジル−β−フェネチルアミン、1−エフエナミ
ンもしくはN、N−−ジベンジルエチレンジアミンなど
の含窒素有機塩基との塩などを挙げることができる。
つぎに、本発明の製造法について詳述する。
本発明の一般式[I[I]で表わされる4−(1−7ミ
ノシクロプロピル)安息香酸誘導体またはその塩は、−
数式[n]で表わされる化合物またはその塩をホフマン
転位反応に付すことによって得ることができる。
この反応を溶媒中で行う場合、使用される溶媒としては
、反応に悪影響をあよぼざない溶媒でおれば特に限定さ
れないが、たとえば、水;並びにメタノールおよびエタ
ノールなどのアルコール類などが挙げられ、これらの溶
媒を2種以上混合して使用してもよい。
また、この反応では、通常ホフマン転位反応において使
用されるN−ハロアミド化剤および塩基が使用され、ヘ
ーハロアミド化剤としては、たとえば、次亜ハロゲン酸
(次亜塩素酸メチル、次亜塩素酸エチルおよび次亜塩素
酸t−ブチルなどの次亜塩素酸エステル;並びに次亜塩
素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム、次亜臭素酸ナト
リウムおよび次亜臭素酸カリウムなどの次亜ハロゲンM
塩)が挙げられる。
また、次亜ハロゲン酸は反応系内で、たとえば、ハロゲ
ンと塩基から調製することもできる。
また、塩基としては、たとえば、水酸化ナトリウムおよ
び水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ;並びにナトリ
ウムメトキシドおよびナトリウムエトキシドなどの金属
アルコキシドなどが挙げられる。
次亜ハロゲン酸の使用量は、−数式[■]の化合物また
はその塩に対して、それぞれ、等モル以上、好ましくは
、1.0〜2.0倍モルでおる。
また、塩基の使用量は、−数式[I]の化合物またはそ
の塩に対して、それぞれ、等モル以上、好ましくは、2
.0〜5.0倍モルである。
この反応は、通常、O〜100’Cで、5分〜30時間
実施すればよい。
これらの反応条件はこれに限定されるものではなく、反
応試剤により適宜選択される。
上記した反応によって得られる一般式[I[1]の化合
物またはその塩は、所望により公知方法により、保護基
の脱離反応、保護基の導入または塩形成反応に付すこと
により、それぞれ対応する化合物に誘導することができ
る。
本発明化合物であり、かつ本発明方法の出発原料である
一般式[I[]の化合物またはその塩は、新規化合物で
あり、通常、公知の反応を組み合わせることによって得
ることができるが、たとえば、つぎに示す製造ルートに
したがって製造することができる。
(以下余白) 「式中、R1、Xl、X2、YlおよびY2は、前記し
たと同様の意味を有し;Rlaは、R1と同様のカルホ
キシル保護基を;R8は、水素原子またはカルボキシル
保護基を;X3は、ハロゲン原子を;並びにX および
X5は、同一または異なって脱離基をそれぞれ示す。」
−数式[■]の化合物におけるX およびX5の脱離基
としては、たとえば、塩素、臭素およびヨウ累などのハ
ロゲン原子;メタンスルホニルオキシなどのアルカンス
ルホニルオキシ基;並びにトルエンスルホニルオキシな
どのアレーンスルホニルオキシ基などが挙げられる。
一般式[IV]、[V1]、[VI[]、[IX]aよ
び[X]の化合物の塩としては、−数式[工]の化合物
の塩で説明したと同様の塩が挙げられる。
また、−数式[V]および[V[]の化合物の活性メチ
レンの塩としては、たとえば、ナトリウム、カリウムお
よびリチウムなどのアルカリ金属との塩が挙げられる。
以下、各工程について詳述する。
(1)  −数式cvh:の化合物またはその塩は、数
式[IV]の化合物またはその塩を米国特許第3、59
0.036号に記載の方法に準じて、−数式[VIまた
はその塩と反応させることによって、−数式IvIlの
化合物またはその塩に誘導し、これを通常の方法によっ
て、脱保護および脱炭酸反応を行うことによって得るこ
とができる。
(2)  −数式[IX]の化合物またはその塩は、塩
基および触媒の存在下または不存在下、−数式:v■]
の化合物またはその塩と一般式[■]の化合物を反応さ
せることによって得ることができる。
この反応を溶媒中で行う場合、使用される溶媒としては
、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定され
ないが、たとえば、水;メタノール、エタノールおよび
2−プロパツールなどのアルコール類;ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフランおよびジオキサンなどのエーテ
ル類;ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族
炭化水素類;\、N−ジメチルホルムアミドおよびN。
\−ジメチルアセトアミドなどのアミド類:並びにジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ
、これらの溶媒を二種類以上混合して使用してもよい。
また、この反応で使用される塩基としては、たとえば、
水酸化アルカリ、炭酸水素アルカリおよび炭酸アルカリ
などの無@塩基;水素化ナトリウムおよび水素化カリウ
ムなどの金属水素化物;ナトリウムエトキシドおよびナ
トリウムメトキシドなどの金属アルコキシド:並びに1
,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エ
ンなどの有機塩基が挙げられる。
また、この反応で使用される触媒としては、たとえば、
18−クラウン−6およびジベンゾ−18クラウン−6
などのクラウンエーテル類:並びにテトラメチルアンモ
ニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムク
ロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド
、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド、テトラ
ブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニ
ウムハイドロジエンサルフェート、トリオクチルメチル
アンモニウムクロライドおよびN−ラウリルピリジニウ
ムクロライドなどの相間移動触媒類が挙げられる。
一般式[■]の化合物の使用量は、−数式[v■]の化
合物またはその塩に対して、等モル以上、好ましくは、
1〜5倍モルである。
塩基の使用量は、−数式[Vm]の化合物またはその塩
に対して、等モル以上である。
触媒の使用量は、−数式[VI[]の化合物またはその
塩に対して、触媒量以上である。
この反応は、0℃から使用される溶媒の沸点まで、好ま
しくは、10〜60℃で、通常5分から20時間実施す
ればよい。
(3)  −数式[X]の化合物またはその塩は、数式
[lv]の化合物またはその塩を特開平228178号
に記載の方法にしたがって得ることができる。
(4)  −数式In]の化合物またはその塩は、股式
rrx:の化合物またはその塩を公知の方法、たとえば
、新実験化学講座、第14巻(第1151〜1154頁
)に記載の方法に準じて加水分解反応を行うことによっ
て得ることができる。
また別法として、−数式[■]の化合物またはその塩は
、−数式EX]の化合物またはその塩を公知の方法、た
とえば、新実験化学講座、第14巻(第1136〜11
51頁)に記載の方法に準じて酸アミド化することによ
って得ることもできる。
以上説明したそれぞれの反応によって得られる化合物は
、常法によって、単離または分離することなくつぎの反
応に使用することもできる。
上記のようにして得られる一般式[I[1]の化合物ま
たはその塩は、たとえば、特開平’l −93573号
および同2−28178号に記載の方法にしたがって一
般式[11の化合物またはその塩に誘導することができ
る。
[実施例] つぎに本発明を実施例を挙げて説明するが、本発明はこ
れに限定されるものではない。
実施例1 (1)  2,3,4.5−テトラフルオロ安息香酸エ
チルエステル10.07をジメチルスルホキシド60i
に溶解させ、炭酸カリウム14.99およびシアノ酢酸
℃−ブチルエステル7.629を加え、70℃で2時間
撹拌する。反応液を水200 dおよびトルエン100
 @jの混合液に加え、6N塩酸でpH3に調整した後
、有@層を分取する。分取した有機層を水および飽和食
塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥さ
せる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラム
クロマトグラフィー[溶離液;n−ヘキサン:酢酸エチ
ル=10: 1 (V/V)]で精製すれば、4−(シ
アノ−tert−1トキシ力ルボニルーメチル)−2,
3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル14.0
9 (収率90.6%)を得る。
IRに−ト) cm−1; v   1735C=0 (2)  4−(シアノ−tert−ブトキシ力ルホニ
ルーメチル)−2,3,5−トリフルオロ安息@酸エチ
ルエステル10.07をトルエン60rnlに溶解させ
、p−トルエンスルホン酸・1水和物50/Qを加え、
6時間速流する。反応液に水20dを加え、有機層を分
取した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。
減圧下に溶媒を留去し、得られた残留物をカラムクロマ
トグラフィー[溶@液;n−ヘキサン:酢酸エチル=5
 : 1 (V/V)って精製すれば、4−シアンメチ
ル−2,3,5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル
6.40g(、収率90.3%)を得る。
IRに−ト’)am−’ニジ  1730C:0 (3)4−シアンメチル−2,3,5−トリフルオロ安
息香酸エチルエステル10.09を1,2−ジブロモエ
タン16.29に溶解させ、水冷下、ベンジルトリエチ
ルアンモニウムクロライド9.37g#よび1ON水酸
化ナトリウム80dを加え、下部で2時間撹拌する。反
応液にトルエン130 WJf!および酢酸エチル50
rlJ1を加え、6Nm酸でpH1に調整した後、有機
層を分取する。分取した有機層に水130dを加え、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液でpH7,5に調整した後
、水層を分取する。分取した水層を6N塩酸でDI−1
1に調整し、析出結晶を枦取すれば、4−(1−シアノ
シクロプロピル)−2,3,5トリフルオロ安息香酸8
.99 (収率89.7%)を得る。
IR(KBr) :rn−’ ニジ 1700C:0 1.2−ブロモエタンの代りに1−ブロモ−2クロロエ
タンを用い、同様に反応を行えば、収率85.0%で目
的物を得る。
(4)  4−(1−シアノシクロプロピル)−2゜3
.5−トリフルオロ安息香酸1.09を#!塩@4ml
に懸濁させ、40〜45℃で6時間撹拌した後、さらに
#l塩酸4dを加え、40〜45°Cで6時間撹拌する
。反応液に水12dを加え、析出結晶を枦取すれば、4
−(1−力ルバモイルシクロプロピル〉2.3.5−ト
リフルオロ安息香酸0.979 (収率90.3%)を
得る。
IR(KBr) cm−’ ; シ1700,1675
C:O 実施例2 4−(1−シアノシクロプロピル)−2,3゜5−トリ
フルオロ安息香酸9.949を1N水酸化ナトリウム水
溶液82.4.dに溶解させ、下部て、35%過酸化水
素水8.41 ’jを1時間を要して滴下し、同温度で
30分間撹拌する。反応液を6N塩酸でDH2に調整し
た後、析出結晶をン戸取すれば、4−(1カルバモイル
シクロプロピル トリフルオロ安息香酸9.619 (収率90.0%)
を得る。
この化合物の物性は、実施例1(4)で得られた化合物
の物性と一致した。
実施例3 CI)  4−(1−カルボキシシクロプロビル)2、
3.5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル5.84
gをアセトン58mI!に溶解させ、トリエチルアミン
2.46gを加える。ついで、−20〜−15℃で、ク
ロル炭酸エチル2.647を5分間を要して滴下し、同
温度で2時間撹拌した後、25%アンモニア水3、79
を加えた後、反応液を下部まで昇温する。
反応液に水180 1Flil!を加え、析出結晶をン
戸取すれば、4−(1−カルバモイルシクロプロピル3
、5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル4、989
 (収率85,5%)を得る。
−1゜ IR(にBr)cm、νc=o 1700,1670(
2)  4−(1−力ルバモイルシクロプロピル)2.
3.5−トリフルオロ安息香酸エチルエステル4.9g
をエタノール25dに懸濁させ、1N水酸化ナトリウム
水溶液20.5dを加え、下振で1時間撹拌する。反応
液を2N塩酸でpH2,5に調整した後、析出結晶をン
戸取すれば、4−(1−力ルバモイルシクロプロピル)
−2,3,5−トリフルオロ安息香酸4.20!7 (
収率95.0%)を得る。
この化合物の物性は、実施例1(4)で冑られた化合物
の物性と一致した。
実施例4 13%次亜塩素酸ナトリウム水溶液2.219を2.5
N水酸化ナトリウム水溶液7.7mlに溶解させ、4−
(1−カルバモイルシクロプロピル 5−トリフルオロ安息香酸1.09を加え、下振で1時
間撹拌する。ついで、反応液を50℃まで昇温し、同温
度で2時間撹拌する。反応液を6N塩酸でpH5に調整
した後、析出結晶を枦取すれば、4(1−7ミノシクロ
プロピル)−2.3.5−トリフルオロ安息香酸0.8
29 (収率91.9%)を得る。
−1。
IR(KBr) cut  、νc=o 1620芙施
例5 (1)  3N水酸化ナトリウム水溶液2.61nIl
に、水冷下、臭素220IRgを加えた後、4−(1−
カルバモイルシクロプロピル)−2.3.5−トリフル
オロ安息香酸300 IRgを加え、下振で30分間撹
拌する。ついで、反応液を50℃まで昇温し、同温度で
2時間撹拌する。反応液を2N塩酸でpH7に調整した
後、析出結晶を炉取すれば、4−(1−アミノシクロプ
ロピル)−2.3.5−トリフルオロ安息香酸160I
ftg(収率59.8%)を得る。
この化合物の物性は、実施例4で得られた化合物の物性
と一致した。
(2)  4−(1−アミノシクロプロピル〉−2。
3、5−トリフルオロ安息香酸1.O gを2N*酸化
ナトリウム水溶13.24dl,:溶解させ、下振で、
無水酢酸0.579および2N水酸化ナトリウム水溶液
2.50−をI)Hを11.5〜12.0に保ちながら
30分間を要して滴下し、同温度で30分間撹拌する。
反応液を6N塩酸でl)I′Ilに調整した後、析出結
晶をン戸取すれば、4−(1−アセチルアミノシクロプ
ロピル)−2.3.5−トリフルオロ安息香酸i.i5
g(収率97.3%)を得る。
IR(KBr) cm−1: シ1700C二〇 実施例6 4−(1−カルバモイルシクロプロピル)−2。
3、5−トリフルオロ安息香11.0 9をメタノール
20mlに懸濁させ、水冷下、ナトリウムメトキシド1
.04gおよび臭素0.749を加え、60℃で3時間
撹拌する。反応液にトルエン90dおよび水100 d
を加え、6N塩酸でDHlに調整した後、有機層を分取
する。分取した有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄
した後、無水Vt酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下
に溶媒を留去し、得られた残留物にn−ヘキサンおよび
ジエチルエーテルを加えて結晶を枦取すれば、2.3.
5−トリフルオロ−4−(1−メトキシカルボニルアミ
ノシクロプロピル)安息香!!O、259(収率22.
3%)を得る。
IR(KBr) にy−’ ;ν 1720 1670
C:O

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 「式中、R^1は、水素原子またはカルボキシル保護基
    を;X^1およびX^2は、同一または異なってハロゲ
    ン原子を;並びにY^1およびY^2は、同一または異
    なって水素原子またはハロゲン原子をそれぞれ示す。」 で表わされる化合物およびその塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 「式中、R^1は、水素原子またはカルボキシル保護基
    を;X^1およびX^2は、同一または異なつてハロゲ
    ン原子を;並びにY^1およびY^2は、同一または異
    なつて水素原子またはハロゲン原子をそれぞれ示す。」 で表わされる化合物またはその塩をホフマン転位反応に
    付し、必要に応じて保護基を脱離、保護基を導入または
    塩に変換させることを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 「式中、R^1、X^1、X^2、Y^1およびY^2
    は、前記したと同様の意味を有し;並びにR^2は、水
    素原子またはアミノ保護基を示す。」 で表わされる4−(1−アミノシクロプロピル)安息香
    酸誘導体またはその塩の製造法。
JP2257669A 1990-09-27 1990-09-27 4―(1―カルバモイルシクロプロピル)安息香酸誘導体およびその塩並びに4―(1―アミノシクロプロピル)安息香酸誘導体またはその塩の新規製造法 Expired - Lifetime JP2811364B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2019085350A (ja) * 2017-11-02 2019-06-06 三菱瓦斯化学株式会社 脂肪族ジアミンの製造方法

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