JPH0414090B2 - - Google Patents
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- JPH0414090B2 JPH0414090B2 JP15693783A JP15693783A JPH0414090B2 JP H0414090 B2 JPH0414090 B2 JP H0414090B2 JP 15693783 A JP15693783 A JP 15693783A JP 15693783 A JP15693783 A JP 15693783A JP H0414090 B2 JPH0414090 B2 JP H0414090B2
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Landscapes
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はシクロヘキシルビフエニルのフツ素化
物およびその組成物に関するもので、より具体的
な利用については液晶温度範囲の広い新規な液晶
物質および該物質を含有する液晶組成物に係わる
ものである。
物およびその組成物に関するもので、より具体的
な利用については液晶温度範囲の広い新規な液晶
物質および該物質を含有する液晶組成物に係わる
ものである。
液晶表示素子は液晶物質が有する光学異方性お
よび誘電異方性を利用したものである。該素子の
表示方式としてTN型(ねじれネマチツク型)、
DB型(動的散乱型)、ゲスト・ホスト型、DAP
型、ホワイト・テーラー型などの方式が用いられ
る。かかる表示方式に応じて液晶組成物の誘電異
方性値(以下△εと略記する)が正であるものを
用いたり、負のものを用いたりする。いずれの方
式においても液晶組成物は液晶表示素子を使用す
る温度範囲で液晶相を示していることが要求さ
れ、数種類の液晶化合物あるいは非液晶化合物を
混合して実用に供している。
よび誘電異方性を利用したものである。該素子の
表示方式としてTN型(ねじれネマチツク型)、
DB型(動的散乱型)、ゲスト・ホスト型、DAP
型、ホワイト・テーラー型などの方式が用いられ
る。かかる表示方式に応じて液晶組成物の誘電異
方性値(以下△εと略記する)が正であるものを
用いたり、負のものを用いたりする。いずれの方
式においても液晶組成物は液晶表示素子を使用す
る温度範囲で液晶相を示していることが要求さ
れ、数種類の液晶化合物あるいは非液晶化合物を
混合して実用に供している。
液晶表示素子についてより低電圧で駆動できる
ものが要求されており、かつ液晶温度範囲を狭め
ないものが望ましい。
ものが要求されており、かつ液晶温度範囲を狭め
ないものが望ましい。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたもので、
液晶組成物の一成分として含有させることにより
駆動電圧を低下させ、高温度まで使用することが
できる化合物を提供する。
液晶組成物の一成分として含有させることにより
駆動電圧を低下させ、高温度まで使用することが
できる化合物を提供する。
すなわち本発明は一般式
(上式中Rは炭素数1〜10のアルキル基を示し、
R′は炭素数1〜10のアルキル基を示す。)で表わ
される3−フルオロ−4−アシル−4′(トランス
−4−アルキルシクロヘキシル)ビフエニルから
なるシクロヘキシルビフエニルのフツ素化物およ
び該化合物を含有する液晶組成物である。
R′は炭素数1〜10のアルキル基を示す。)で表わ
される3−フルオロ−4−アシル−4′(トランス
−4−アルキルシクロヘキシル)ビフエニルから
なるシクロヘキシルビフエニルのフツ素化物およ
び該化合物を含有する液晶組成物である。
本発明の化合物はアルキル基がC3H7のものは
120℃〜180℃の間で液晶相を示しかつ低粘性であ
り、この化合物を含有する液晶組成物でつくつた
表示素子の駆動電圧を低下させることができる。
120℃〜180℃の間で液晶相を示しかつ低粘性であ
り、この化合物を含有する液晶組成物でつくつた
表示素子の駆動電圧を低下させることができる。
次に本発明の化合物の製造法について述べる。
本発明の化合物は特開昭57−72924号公報に示
された方法で得られる3−フルオロ−1〔4−(ト
ランス−4−置換シクロヘキシル)シクロヘキセ
ン−1−イル〕ベンゼン(化合物())から製
造することができる。該化合物()の製法を述
べると、4−(トランス−4−置換シクロヘキシ
ル)シクロヘキサノールを無水クロム酸で酸化し
て4−(トランス−4−置換シクロヘキシル)シ
クロヘキサノンとする。一方3−プロモフルオロ
ベンゼンと金属マグネシウムを反応させて3−フ
ルオロフエニルマグネシウムブロミドとし、これ
を先に得られたシクロヘキサノンと反応させて3
−〔4−(トランス−4−置換シクロヘキシル)シ
クロヘキサン−1−オール〕フルオロベンゼンと
する。次にこれを硫酸水素カリウムを触媒として
脱水して化合物()を得ることができる。
された方法で得られる3−フルオロ−1〔4−(ト
ランス−4−置換シクロヘキシル)シクロヘキセ
ン−1−イル〕ベンゼン(化合物())から製
造することができる。該化合物()の製法を述
べると、4−(トランス−4−置換シクロヘキシ
ル)シクロヘキサノールを無水クロム酸で酸化し
て4−(トランス−4−置換シクロヘキシル)シ
クロヘキサノンとする。一方3−プロモフルオロ
ベンゼンと金属マグネシウムを反応させて3−フ
ルオロフエニルマグネシウムブロミドとし、これ
を先に得られたシクロヘキサノンと反応させて3
−〔4−(トランス−4−置換シクロヘキシル)シ
クロヘキサン−1−オール〕フルオロベンゼンと
する。次にこれを硫酸水素カリウムを触媒として
脱水して化合物()を得ることができる。
次いで該化合物()をキシレン中のクロルア
ニルで脱水素して3−フルオロ−4′−(トランス
−4−置換シクロヘキシル)ビフエニル(化合物
()とし、これを二硫化炭素中で塩化アルミニ
ウムの存在下にアシルクロリドを滴下して目的の
3−フルオロ−4−アシル−4′−(トランス−4
−置換シクロヘキシル)ビフエニル(化合物
()を得ることができる。
ニルで脱水素して3−フルオロ−4′−(トランス
−4−置換シクロヘキシル)ビフエニル(化合物
()とし、これを二硫化炭素中で塩化アルミニ
ウムの存在下にアシルクロリドを滴下して目的の
3−フルオロ−4−アシル−4′−(トランス−4
−置換シクロヘキシル)ビフエニル(化合物
()を得ることができる。
以上を化学式で示すと次のようになる。
(上式中R、R′は前記と同じである。)
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。
する。
実施例 1
3−フルオロ−4−アセチル−4′−(トランス
−4−プロピルシクロヘキシル)ビフエニルの
製造 3−フルオロ−〔4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)シクロヘキセン−1−イル〕ベ
ンゼン(化合物()10g(0.033モル)をキシ
レン250mlに溶解し、クロルアニル18g(0.073モ
ル)を加え、40時間還流した。冷却後100mlの2N
−NaOHで2回洗浄し、3N−HClで1回洗つた
後油層を洗液が中性になるまで水洗した。溶媒を
減圧留去した後、新しいトルエンで再結晶して、
3−フルオロ−4′−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)ビフエニル(化合物())の結
晶を得た。該化合物()2.0gを二硫化炭素150
mlに溶かし、つぎに無水塩化アルミニウム0.95g
を加え、これを10℃以下に保ち、撹拌しながら塩
化アセチル0.63gをゆつくり滴下した。滴下後室
温にもどし1時間から35℃で加熱撹拌を4時間行
なつた。つぎに水冷しながら、6N−塩酸20mlに
氷水20mlを加えた液を加えた。反応液にクロロホ
ルム50mlを加えた後、油層が中性になるまで水洗
した。溶媒を減圧留去した後、残つた油状物をn
−ヘプタンで再結晶して目的の3−フルオロ−4
−アセチル−4′−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)ビフエニル(化合物())の結晶
を得た。該結晶の赤外線吸収スペクトルを第1図
に示す。このもののc−N点(結晶−ネマチツク
点)は119.5〜120.2℃、N−I点(ネマチツク−
透明点)は183℃で、収量は0.2gであつた。
−4−プロピルシクロヘキシル)ビフエニルの
製造 3−フルオロ−〔4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)シクロヘキセン−1−イル〕ベ
ンゼン(化合物()10g(0.033モル)をキシ
レン250mlに溶解し、クロルアニル18g(0.073モ
ル)を加え、40時間還流した。冷却後100mlの2N
−NaOHで2回洗浄し、3N−HClで1回洗つた
後油層を洗液が中性になるまで水洗した。溶媒を
減圧留去した後、新しいトルエンで再結晶して、
3−フルオロ−4′−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)ビフエニル(化合物())の結
晶を得た。該化合物()2.0gを二硫化炭素150
mlに溶かし、つぎに無水塩化アルミニウム0.95g
を加え、これを10℃以下に保ち、撹拌しながら塩
化アセチル0.63gをゆつくり滴下した。滴下後室
温にもどし1時間から35℃で加熱撹拌を4時間行
なつた。つぎに水冷しながら、6N−塩酸20mlに
氷水20mlを加えた液を加えた。反応液にクロロホ
ルム50mlを加えた後、油層が中性になるまで水洗
した。溶媒を減圧留去した後、残つた油状物をn
−ヘプタンで再結晶して目的の3−フルオロ−4
−アセチル−4′−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)ビフエニル(化合物())の結晶
を得た。該結晶の赤外線吸収スペクトルを第1図
に示す。このもののc−N点(結晶−ネマチツク
点)は119.5〜120.2℃、N−I点(ネマチツク−
透明点)は183℃で、収量は0.2gであつた。
応用例 1
トランス−4−プロピル−(4′−シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 28重量% トランス−4−ベンチル−(4′−シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 42重量% トランス−4−ヘプチル−(4′−シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 30重量% なる組成物(A)のN−I点は52.1℃であり、組成物
(A)を透明電極を有する厚さ10μmのTNセルに封
入したときのしきい電圧は1.54V、飽和電圧は
2.13Vであつた。
ル)シクロヘキサン 28重量% トランス−4−ベンチル−(4′−シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 42重量% トランス−4−ヘプチル−(4′−シアノフエニ
ル)シクロヘキサン 30重量% なる組成物(A)のN−I点は52.1℃であり、組成物
(A)を透明電極を有する厚さ10μmのTNセルに封
入したときのしきい電圧は1.54V、飽和電圧は
2.13Vであつた。
該組成物(A)90重量%と本発明の実施例1で得た
3−フルオロ−4−アセチル−4′−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)ビフエニル10重量
%による液晶組成物のN−I点は600℃に上昇し、
上記セルに封入したときのしきい電圧は1.55V、
飽和電圧は2.05Vと低下することができた。
3−フルオロ−4−アセチル−4′−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)ビフエニル10重量
%による液晶組成物のN−I点は600℃に上昇し、
上記セルに封入したときのしきい電圧は1.55V、
飽和電圧は2.05Vと低下することができた。
第1図は実施例1で得た3−フルオロ−4−ア
セチル−4′−(トランス−4−プロピルシクロヘ
キシル)ビフエニルの赤外線吸収スペクトルであ
る。
セチル−4′−(トランス−4−プロピルシクロヘ
キシル)ビフエニルの赤外線吸収スペクトルであ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (上式中Rは炭素数1〜10のアルキル基を示し、
R′は炭素数1〜10のアルキル基を示す。)で表わ
される3−フルオロ−4−アシル−4′(トランス
−4−アルキルシクロヘキシル)ビフエニルから
なるシクロヘキシルビフエニルのフツ素化物。 2 一般式 (上式中Rは炭素数1〜10のアルキル基を示し、
R′は炭素数1〜10のアルキル基を示す。)で表わ
される3−フルオロ−4−アシル−4′−(トラン
ス−4−アルキルシクロヘキシル)ビフエニルか
らなるシクロヘキシルビフエニルのフツ素化物を
含有することを特徴とする液晶組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15693783A JPS6048945A (ja) | 1983-08-27 | 1983-08-27 | シクロヘキシルビフエニルのフッ素化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15693783A JPS6048945A (ja) | 1983-08-27 | 1983-08-27 | シクロヘキシルビフエニルのフッ素化物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6048945A JPS6048945A (ja) | 1985-03-16 |
| JPH0414090B2 true JPH0414090B2 (ja) | 1992-03-11 |
Family
ID=15638603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15693783A Granted JPS6048945A (ja) | 1983-08-27 | 1983-08-27 | シクロヘキシルビフエニルのフッ素化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048945A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8302119D0 (en) * | 1983-01-26 | 1983-03-02 | Secr Defence | Disubstituted ethanes |
| JP2643587B2 (ja) * | 1990-11-20 | 1997-08-20 | 日本電気株式会社 | アクティブマトリックス液晶表示素子 |
-
1983
- 1983-08-27 JP JP15693783A patent/JPS6048945A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6048945A (ja) | 1985-03-16 |
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