JPS6048945A - シクロヘキシルビフエニルのフッ素化物 - Google Patents
シクロヘキシルビフエニルのフッ素化物Info
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- JPS6048945A JPS6048945A JP15693783A JP15693783A JPS6048945A JP S6048945 A JPS6048945 A JP S6048945A JP 15693783 A JP15693783 A JP 15693783A JP 15693783 A JP15693783 A JP 15693783A JP S6048945 A JPS6048945 A JP S6048945A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はシクロヘキシルビフェニルのフッ素化物および
その組成物に関するもので、より具体的な利用について
は液晶温度範囲の広い新規な液晶物質および該物質t゛
含有る液晶組成物に係わ尿ものである。
その組成物に関するもので、より具体的な利用について
は液晶温度範囲の広い新規な液晶物質および該物質t゛
含有る液晶組成物に係わ尿ものである。
液晶表示素子は液晶物質が有する光学異方性および誘電
異方性を利用したものである。該素子の光示方式として
′rN型(ねじれネマチック型)% D8型(動的散乱
型)、ゲスト・ホスト型、DAP型、ホワイト・テーラ
−型などの方式が用いられる。かかる衆示方式に応じて
液晶組成物の1vit異方性値(以下△eと略記する)
が正であるものを用いたり、負のものを用いたりする。
異方性を利用したものである。該素子の光示方式として
′rN型(ねじれネマチック型)% D8型(動的散乱
型)、ゲスト・ホスト型、DAP型、ホワイト・テーラ
−型などの方式が用いられる。かかる衆示方式に応じて
液晶組成物の1vit異方性値(以下△eと略記する)
が正であるものを用いたり、負のものを用いたりする。
いずれの方式においても液晶組成物は液晶表示素子を使
用する温度範囲で液晶相を示していることが要求され、
数種類の液晶化合物おるいは非液晶化合物を混合して実
用に供している。
用する温度範囲で液晶相を示していることが要求され、
数種類の液晶化合物おるいは非液晶化合物を混合して実
用に供している。
液晶表示素子についてより低電圧で駆動できるものが要
求されており、かつ液晶温度範囲を狭めないものが望ま
しい。
求されており、かつ液晶温度範囲を狭めないものが望ま
しい。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたもので、液晶組成
物の一成分として含有させることにより駆動電圧を低下
させ、高温度まで使用することができる化合物を提供す
る。
物の一成分として含有させることにより駆動電圧を低下
させ、高温度まで使用することができる化合物を提供す
る。
(上式中Rは水素又は炭素数1〜10の直鎖又は枝分れ
のアルキル基又はアルコキシ基を示し、R′は炭素数1
〜10の直鎖又は枝分れのアルキル基を示す。) ()9ンスー4−Itpシクロヘギシル)ビフェニルに
よるシクロヘキシルビフェニルのフッ素化物および該化
合物を含有する液晶組成物である。
のアルキル基又はアルコキシ基を示し、R′は炭素数1
〜10の直鎖又は枝分れのアルキル基を示す。) ()9ンスー4−Itpシクロヘギシル)ビフェニルに
よるシクロヘキシルビフェニルのフッ素化物および該化
合物を含有する液晶組成物である。
本発明の化合物はアルキル基がC3H7のもの#′11
20℃〜180℃の間で液晶相を示しかつ低粘性であり
、この化合物を含有する液晶組成物でつくった表示素子
の駆動電圧を低下させることができる。
20℃〜180℃の間で液晶相を示しかつ低粘性であり
、この化合物を含有する液晶組成物でつくった表示素子
の駆動電圧を低下させることができる。
次に本発明の化合物の製造法について述べる。
本発明の化合物は特開11f457−72924号公報
に示された方法で得られる3−フルオロ−1−(4−(
)9ンスー4−置換シクロヘキシル)シクロヘキセン−
1−イル〕ベンゼン(化合物(■))から製造すること
ができる。該化合物(II)の製法を述べると、4−(
トランス−4−置換シクロヘキシル)シクロヘキサノー
ルヲ無水クロム酸で酸化して4−(トランス−4−置換
シクロヘキシル)シクロヘキサノントスる。一方3−ブ
ロモフルオロベンゼンと金属マグネシウム全反応させて
3−フルオロフェニルマグネシウムプロミドとし、これ
全光に得られたシクロヘキサノンと反応させて3−C4
−()、l;ンスー4−置換シクロヘキシル)シクロヘ
キサン−1−オール〕フルオロベンゼンとする。次にこ
れt硫酸水素カリウム會触媒として脱水して化合物(■
)を得ることができる。
に示された方法で得られる3−フルオロ−1−(4−(
)9ンスー4−置換シクロヘキシル)シクロヘキセン−
1−イル〕ベンゼン(化合物(■))から製造すること
ができる。該化合物(II)の製法を述べると、4−(
トランス−4−置換シクロヘキシル)シクロヘキサノー
ルヲ無水クロム酸で酸化して4−(トランス−4−置換
シクロヘキシル)シクロヘキサノントスる。一方3−ブ
ロモフルオロベンゼンと金属マグネシウム全反応させて
3−フルオロフェニルマグネシウムプロミドとし、これ
全光に得られたシクロヘキサノンと反応させて3−C4
−()、l;ンスー4−置換シクロヘキシル)シクロヘ
キサン−1−オール〕フルオロベンゼンとする。次にこ
れt硫酸水素カリウム會触媒として脱水して化合物(■
)を得ることができる。
次いで該化合物(n) tキシレン中のクロルアニルで
脱水素して3−フルオロ−4’−(トランス−4−置換
シクロヘキシル)ビフェニル(化合物(2)とし、これ
を二硫化炭素中で塩化アルミニウムの存在下にアシルク
ロリドを滴下して目的の3−フルオロ−4−アシル−4
’−():>ンスー4−ff換シクロヘキシル)ビフェ
ニル(化合物(1) > ft得ることができる。
脱水素して3−フルオロ−4’−(トランス−4−置換
シクロヘキシル)ビフェニル(化合物(2)とし、これ
を二硫化炭素中で塩化アルミニウムの存在下にアシルク
ロリドを滴下して目的の3−フルオロ−4−アシル−4
’−():>ンスー4−ff換シクロヘキシル)ビフェ
ニル(化合物(1) > ft得ることができる。
以上を化学式で示すと次のようになる。
(If) ・ (4)
5−
(1)
(上式中R,RIは前記と同じである。)以下、本発明
を実施例によりさらに詳細に説明する。
を実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例1−3−フルオロ−4−アセチル−4/−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキ シル)ビフェニルの製造 3−フルオロ−(4−()?ンスー4−プロピルシクロ
ヘキシル)シクロヘキセン−1−イル〕ベンゼン(化合
物(II))1o t (0,0’33モル)をキシレ
ン250−に溶解し、クロルアニル1’ 8 ? (0
,0’73モル)を加え、40時間還流した。冷却後1
00−の2 N−NaOHで2回洗浄し、 3N−HC
lで1回洗った後油層を洗液が中性になるまで水洗した
。溶媒を減圧留去した後、新しいトルエンで再結晶して
、3−フルオロ−4’−()ランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)ビフェニル(化合物(I[D)の6− 結晶を得た。該化合物(Ill)2.Ofを二硫化炭素
150−に溶かし、つぎに無水塩化アルミニウム0.9
5 tを加え、これを10℃以下に保ち、攪拌しながら
塩化アセチル0.63 fをゆっくり滴下した。滴下後
室温にもどじ1時間から35℃で加熱攪拌を4時間行な
った。つぎに水冷しながら、6N−塩酸20m1に氷水
20+affiを加えた液を加えた。反応液にクロロホ
ルム50−を加えた後、油層が中性になるまで水洗した
。溶媒を減圧留去した後、残った油状物をn−へブタン
で再結晶して目的の3−フルオロ−4−アセチル−4’
−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)ビフェニ
ル(化合物(I))の結晶を得た。該結晶の赤外線吸収
スペクトルを第1図に示す。このもののC−N点(結晶
−ネマチック点)は119.5〜120.2℃、N−1
点(ネマチック−透明点)は183℃で、収量は0.2
1であった。
ンス−4−プロピルシクロヘキ シル)ビフェニルの製造 3−フルオロ−(4−()?ンスー4−プロピルシクロ
ヘキシル)シクロヘキセン−1−イル〕ベンゼン(化合
物(II))1o t (0,0’33モル)をキシレ
ン250−に溶解し、クロルアニル1’ 8 ? (0
,0’73モル)を加え、40時間還流した。冷却後1
00−の2 N−NaOHで2回洗浄し、 3N−HC
lで1回洗った後油層を洗液が中性になるまで水洗した
。溶媒を減圧留去した後、新しいトルエンで再結晶して
、3−フルオロ−4’−()ランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)ビフェニル(化合物(I[D)の6− 結晶を得た。該化合物(Ill)2.Ofを二硫化炭素
150−に溶かし、つぎに無水塩化アルミニウム0.9
5 tを加え、これを10℃以下に保ち、攪拌しながら
塩化アセチル0.63 fをゆっくり滴下した。滴下後
室温にもどじ1時間から35℃で加熱攪拌を4時間行な
った。つぎに水冷しながら、6N−塩酸20m1に氷水
20+affiを加えた液を加えた。反応液にクロロホ
ルム50−を加えた後、油層が中性になるまで水洗した
。溶媒を減圧留去した後、残った油状物をn−へブタン
で再結晶して目的の3−フルオロ−4−アセチル−4’
−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)ビフェニ
ル(化合物(I))の結晶を得た。該結晶の赤外線吸収
スペクトルを第1図に示す。このもののC−N点(結晶
−ネマチック点)は119.5〜120.2℃、N−1
点(ネマチック−透明点)は183℃で、収量は0.2
1であった。
応用例1
(トランス−4−プロピル−(4′−シアノフなる組成
物(A)のN−1点は52.1℃であり、組成物(A)
k透明電極を有する厚さ10μmのTllセルに封入
したときのしきい電圧は1.54v1飽和電圧は2.1
3Vであった。
物(A)のN−1点は52.1℃であり、組成物(A)
k透明電極を有する厚さ10μmのTllセルに封入
したときのしきい電圧は1.54v1飽和電圧は2.1
3Vであった。
#組成物(A)90重量%と本発明の実施例1で得た3
−フルオロ−4−アセテルー47−(ト7ンスー4−プ
ロピルシクロヘキシル)ビフェニル10 N蓋%による
液晶組成物のN−1点は60・0℃に上昇し、上記セル
に封入したときのしきい電圧は1゜55v、飽和電圧は
2.05Vと低下することができた。
−フルオロ−4−アセテルー47−(ト7ンスー4−プ
ロピルシクロヘキシル)ビフェニル10 N蓋%による
液晶組成物のN−1点は60・0℃に上昇し、上記セル
に封入したときのしきい電圧は1゜55v、飽和電圧は
2.05Vと低下することができた。
第1図は実施例1で得た3−フルオロ−4−アセチル−
4’−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)ビフ
ェニルの赤外線吸収スベクトルである。 以上 9− 31
4’−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)ビフ
ェニルの赤外線吸収スベクトルである。 以上 9− 31
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (上式中Rは水素又は炭素数1〜10の直鎖又は枝分れ
のアルキル基又はアルコキシ基金示し、R/は炭素数1
〜10の直鎖又は枝分れのアルキル基を示す。) で表わされる3−フルオロ−4−アシル−4′−()ラ
ンス−4−置換シクロヘキシル)ビフェニルによるシク
ロヘキシルビフェニルのフッ素化物。 (上式中Rは水素又は炭素数1〜10の直鎖又は枝分れ
のアルキル基又はアルコキシ基を示し、R′は炭素数1
〜10の直鎖又は枝分れのアルキル基を示す。) で表わされる3−フルオロ−4−アシル−4′−(トラ
ンス−4−11換シクロヘキシル)ビフエニ′ルによる
シクロヘキシルビフェニルのフッ素化物音含有すること
を特徴とする液晶組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15693783A JPS6048945A (ja) | 1983-08-27 | 1983-08-27 | シクロヘキシルビフエニルのフッ素化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15693783A JPS6048945A (ja) | 1983-08-27 | 1983-08-27 | シクロヘキシルビフエニルのフッ素化物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6048945A true JPS6048945A (ja) | 1985-03-16 |
| JPH0414090B2 JPH0414090B2 (ja) | 1992-03-11 |
Family
ID=15638603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15693783A Granted JPS6048945A (ja) | 1983-08-27 | 1983-08-27 | シクロヘキシルビフエニルのフッ素化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048945A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6069045A (ja) * | 1983-01-26 | 1985-04-19 | イギリス国 | ジ置換エタン並びに液晶材料及び装置に於けるその使用 |
| JPH04186227A (ja) * | 1990-11-20 | 1992-07-03 | Nec Corp | アクティブマトリックス液晶表示素子 |
-
1983
- 1983-08-27 JP JP15693783A patent/JPS6048945A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6069045A (ja) * | 1983-01-26 | 1985-04-19 | イギリス国 | ジ置換エタン並びに液晶材料及び装置に於けるその使用 |
| JPH04186227A (ja) * | 1990-11-20 | 1992-07-03 | Nec Corp | アクティブマトリックス液晶表示素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0414090B2 (ja) | 1992-03-11 |
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