JPH04143924A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、非磁性支持体と、この支持体上に設けられた
磁性層とからなる基本構造を有する磁気記録媒体の製法
に関するものである。

（発明の背景） 一般にオーディオ用、ビデオ用あるいはコンピュータ用
等の磁気記録媒体として、強磁性粉末が結合剤中に分散
されている磁性層を非磁性支持体上に設けた磁気記録媒
体が用いられている。

このような磁気記録媒体は、樹脂成分などの結合剤成分
と強磁性粉末などの粒状成分とを溶剤に分散させた磁性
塗料を、非磁性支持体上に塗布して塗布層を形成し、こ
の塗布層に磁場配向処理、乾燥処理および表面平滑化処
理などの処理を施したのち、所望の形状に裁断すること
により製造されている。

一般に、このようにして製造された磁性層の表面は、粒
状成分が磁性層に強固に固定され、非常に平滑であると
考えられているが、本発明者の検討によれば、磁性層表
面には固定不充分な強磁性粉末などの粒状成分が存在す
ることが判明した。

このような固定不充分な粒状成分は、走行中に脱離して
磁気ヘッドに付着して磁気ヘッド目詰まりの原因となる
ことがあり、さらに例えばビデオテープなどにおいては
ドロップアウトの発生原因となることがある。そして、
こうした強磁性粉末の脱離により磁性層表面近傍にある
強磁性粉末の量が減少するので、走行を繰り返すことに
より電磁変換特性が低下（出力低下）するとの問題もあ
る。

本発明者は、こうしたドロップアウト、目詰まりおよび
出力低下の発生を軽減する方法として磁性層の表面を研
削する方法について発明をし、この発明については既に
出願済である（特開昭６２−１７２５３２号）。

すなわち、この発明は、表面平滑化された磁性層の表面
をダイヤモンドホイールあるいは固定式のサファイヤブ
レードなどの高硬度の研削具を用いて研削することによ
り、脱離し易い状態にある粒状成分あるいは磁性層表面
の付着物などを除去し、磁性層表面からの脱離物の量を
低減するものである。

このような背景から本発明者は、磁性層表面からの脱離
物の量を低減させる方法についてさらに検討した結果、
磁気記録媒体の磁性層の研削を行なう以外にも有効な方
法があることを見い出した。

それは、磁気記録媒体の磁性層を研磨テープにより研磨
処理を行なう方法で、この方法によりさらにドロップア
ウトおよび目詰まり発生の少ない、そして走行耐久性の
良好な磁気記録媒体を製造することができることが分か
った。

しかしながら、従来の方法では配向処理後、消磁処理を
していないために研磨処理や研削処理をした後拭き取り
処理を行なっても、発注した削れ粉やゴミがなかなか良
好に除去することができなかった。この理由はすでに磁
性層を配向処理をしているために個々の強磁性粉末が帯
磁しており、吸着しやすく、十分な除去ができなかった
ためと考えられる。そこで本発明者らは前記磁性層を配
向後、前記研磨処理や研削処理前に消磁処理をすること
によってクリーニングくずが吸着することがなく、ドロ
ップアウトが顕著に改良されることがわかり本発明に至
った。

（発明の目的） 本発明は、良好な走行耐久性を有する磁気記録媒体を製
造する方法を提供することを目的とする。

さらに詳しくは、本発明は、ドロップアウトおよび目詰
まりの発生が少ない新規な磁気記録媒体の製造する方法
を提供することを目的とする。

（発明の構成） すなわち本発明の上記目的は 非磁性支持体上に塗設された、強磁性粉末が結合剤に分
散されてなる磁性層を配向し、表面平滑化処理したのち
、前記磁性層の表面を研磨テープによる研磨処理及び／
又は研削処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法において、前記磁性層の配向後、前記研磨処理及び
研削処理の前の工程のいづれかで消磁することを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法によって達成できる。

更に好ましくは本発明の上記目的は 前記表面平滑化処理した磁性層の表面を前記研磨テープ
により研磨処理した後、ブレードまたは回転ブレードに
よって前記研削処理を行ない、次に前記磁性層を不織布
で拭き取り処理を行なうことを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法によって達成できる。

又本発明の上記目的は前記消磁を飽和へンド、次いで未
飽和ヘッド、最後に交流ヘッドを用いて行なうことを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法によって達成できる。

すなわち本発明は研磨処理及び／又は研削処理により発
生した塵埃は拭き取り処理を行なっても良好に除去でき
ないが、配向処理後で研磨処理及び／又は研削処理前の
いづれかの工程で消磁する工程を入れることにより、配
向処理によって磁化された削れ粉が研磨処理及び／又は
研削処理後に磁気記録媒体に再付着をしてドロップアウ
トや目詰まりが発生するのを顕著に改良することができ
る。この消磁の工程は配向処理し乾燥した後でも、その
後巻回した後でも、カレンダー処理前後途中でも、又サ
ーモ処理があればその前、後途中でもスリット前後途中
であっても、研磨処理及び／又は研削処理の前であれば
本発明の効果を良好に発揮する。消磁の時の磁場の強さ
はいくつかの磁石を用いることが行なわれ、例えば金属
磁性粉末の場合は前半が１７００〜２３００ガウスが好
ましく、後半は１３００〜１９００ガウスで行なうこと
が望ましい。

又酸化鉄磁性粉末の場合は前半が９００〜１５００ガウ
ス、後半が４００〜１１００ガウスであることが望まし
い。更に消磁について具体的に説明すると第１回におい
て磁性塗料及びハック要用塗料が塗布された昇磁支持体
４を磁性塗料が未乾燥の状態で磁石で磁場配向処理をし
く図示せず）、更に乾燥後消磁ゾーンの間を追加する。

最初に飽和ヘッド１を通過し、ウェブを一方向に磁化す
る。

飽和ヘッド１の磁場は前述の如く、好ましくは永久磁石
を用いて１７００〜２３００ガウスの磁場で行なうこと
が好ましい。次いで、未飽和ヘッド２を通過し、逆の方
向に磁化をする。この未飽和ヘッド２の磁場は前述の如
く、好ましくは永久磁石を用い、１３００〜１７００ガ
ウスの磁場で行なうのが好ましい、最後にウェブを交流
ヘッド３を通過し、帯電を０の状態にすることが好まし
い。

本発明は前述の如く、研磨処理及び／又は研削処理する
ことによって凸起を削り、得られた削れ粉が再付着する
ことなく、有効に除去できる。

本発明において研磨処理とは研磨テープを磁気テープ走
行方向と反対方向に摺動させて、磁性層表面の凸起や、
結合剤層を除去する処理を言う。

又研削処理とはサファイヤなどの固定ブレード、超硬刃
又はダイアモンドホイールなどを用いて磁性層表面を研
削する処理をいう。

さらに、磁性層表面から脱離する強磁性粉末の個数が少
なくなるので、繰り返し走行させても強磁性粉末の脱落
が少なく、従って、走行初期の再生出力と繰り返し走行
後の再生出力の差が少ない優れた磁気記録媒体を製造す
ることができる。

また、磁性層形成成分として硬化剤を使用した場合には
、磁性層表面の未反応硬化剤の大部分が除去されるので
、磁気記録媒体の製造後に粉塵などが磁性層に付着する
ことがない。従って、こうした付着物に起因するドロッ
プアウトの発生の少ない磁気記録媒体を製造することが
できる。さらに、磁気ヘッドが未反応硬化体などで汚染
されることが少ないので、磁気ヘッドへの粉塵の付着な
どによる磁気ヘッド目詰まりの発生が少ない磁気記録媒
体を製造することができる二 磁気記録媒体は、通常、非磁性支持体上に磁性塗料を塗
設し、磁場配向処理、硬化処理次いで表面平滑化処理な
どを行なったのち、所望の形状に裁断することにより製
造される。

磁気記録媒体は、非磁性支持体と、この支持体上に設け
られた磁性層からなる。磁性層は、強磁性粉末などの粒
状成分と、この粒状成分が分散している結合剤からなる
。結合剤は、樹脂成分と、さらに所望により配合される
硬化剤とにより構成されている。

磁性層の塗設は、通常の方法に従って行なうことができ
る。たとえば、樹脂成分および強磁性粉末並びに所望に
より配合される研磨材および硬化剤などの磁性層形成成
分と溶剤と共に混線分散して磁性塗料を調製し、この磁
性塗料を非磁性支持体上に塗布する方法を利用すること
ができる。

非磁性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート（
ＰＥＴ）　、ポリエチレンナフタレート等のポリエステ
ル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロー
ストリアセテート、セルロースジアセテート等のセルロ
ース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の
ビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリア
ミドイミド、ポリイミドなどの合成樹脂からなるフィル
ムもしくはシート；アルミニウム、銅等の非磁性金属箔
ニステンレス箔などの金属箔；紙、セラミンクシート等
から選ばれる。

樹脂成分は、通常磁性塗料の樹脂成分として使用されて
いる樹脂から選ばれる。樹脂成分の例としては、塩化ビ
ニル系共重合体（例、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体
、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体
、塩化ビニル・酢酸ビニル・アクリル酸共重合体、塩化
ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル・アクリ
ロニトリル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、
５ＯｘＮａまたは−Ｓｏ、Ｎａなどの極性基およびエポ
キシ基が導入された塩化ビニル系共重合体）、ニトロセ
ルロース樹脂などのセルロース誘導体、アクリル樹脂、
ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂
、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン系樹脂
（例、ポリエステルポリウレタン樹脂、−３Ｏｚ　Ｎａ
または一３０２Ｎａなどの極性基が導入されたポリウレ
タン系樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂）を挙
げることができる。

また、硬化剤を使用する場合、通常は、ポリイソシアネ
ート化合物が用いられる。ポリイソシアネート化合物は
、通常ポリウレタン系樹脂等の硬化剤成分として使用さ
れているもののなかから選択される。ポリイソシアネー
ト化合物の例としては、トリレンジイソシアネートとト
リメチロールプロパン１モルとの反応生成物（例、デス
モジュールＬ−７５（バイエル社製））、キシリレンジ
イソシアネートあるいはへキサメチレンジイソシアネー
トなどのジイソシアネート３モルとトリメチロールプロ
パン１モルとの反応生成物、ヘキサメチレンジイソシア
ネート３モルのビューレット付加化合物、トリレンジイ
ソシアネート５モルのイソシアヌレート化合物、ビリレ
ンジイソシアネート３モルとへキサメチレンジイソシア
ネート２モルのイソシアヌレート付加化合物、イソホロ
ンジイソシアネートおよびジフェニルメタンジイソシア
ネートのポリマーを挙げることができる。

また、電子線照射による硬化処理を行なう場合には、反
応製二重結合を有する化合物（例、ウレタンアクリレー
ト）を使用することができる。

本発明においては、樹脂成分として塩化ビニル系共重合
体のような硬度の高い樹脂とポリウレタン系樹脂のよう
な柔軟性を有する樹脂とを組合わせて使用することが好
ましい。

塩化ビニル系共重合体のような硬度の高い樹脂とポリウ
レタン系樹脂のような柔軟性を有する樹脂とを組合わせ
て使用する場合、前者と後者との配合重量比は通常は９
：１〜５：５の範囲内（好ましくは９：ｌ〜６：４）と
する、そして、硬化剤を使用する場合には、通常、上記
樹脂成分と硬化剤との配合重量比は、９：１〜５：５（
好ましくは９：１〜６：４）の範囲内に設定される。

一般に、強磁性粉末として、強磁性金属微粉末のような
硬度の低いものを使用する場合には、７−Ｆｅ、Ｏ，な
どの硬度の高いものを用いる場合よりも多量の結合剤を
使用する。そして、この場合、通常は、ポリウレタン系
樹脂のように柔軟性を有する樹脂の使用量を増加させる
。

こうしたポリウレタン系樹脂の使用量の増加によって結
合剤が軟化する傾向があるので、通常は、ポリイソシア
ネート化合物のような硬化剤を増量して結合剤の硬度を
維持する方法が利用されている。

樹脂成分として、ポリウレタン系樹脂を使用し硬化剤と
してポリイソシアネート化合物を使用する場合、ポリウ
レタン系樹脂とポリイソシアネート化合物との配合重量
比は、通常１：０．８〜１：２（好ましくは１；１〜１
：１．５）の範囲内に設定される。このようにすること
により硬度の低い強磁性金属微粉末を使用した場合にも
、ポリウレタン系樹脂を使用することに伴なう結合剤の
軟化を有効に防止することができるようになる。

樹脂成分と硬化剤との合計の重量は、強磁性粉末１００
重量部に対して、通常１０〜１００重量部（１５〜４０
重量部）の範囲内にある。

本発明で用いる強磁性粉末の例としては、γ−ＦｅｚＯ
＝のような金属化合物系の強磁性粉末、コバルト等の他
の成分を含有するγ−Ｆｅ２０ｓのような異種金属・金
属酸化物系の強磁性粉末、および鉄、コバルトあるいは
ニッケルなどの強磁性金属を含む強磁性金属微粉末を挙
げることができる。

特に本発明は、強磁性金属微粉末を用いた磁気記録媒体
の製法として利用すると有利である。すなわち、強磁性
金属微粉末の使用に伴なって硬化剤を多量に使用した場
合であっても、磁性層あるいは磁気ヘッドへの付着物の
量を低減することができるので、ドロンプアウトおよび
磁気ヘッド目詰まりの少ない磁気記録媒体を製造するこ
とができる。

強磁性金属微粉末を使用する場合には、鉄、コバルトあ
るいはニッケルを含む強磁性金属微粉末であって、その
比表面積が４２ｍ／ｇ以上（特に好ましくは４５ポ／ｇ
以上）の強磁性金属微粉末であることが好ましい。

この強磁性金属微粉末の例としては、強磁性金ｒｒ４微
粉末中の金属分が７５重量％以上であり、そして金属分
の８０重量％以上が少なくとも一種類の強磁性金属ある
いは合金（例、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ１５Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−
Ｎｉ、、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｆｅ）であり、該金
属分の２０重量％以下の範囲内で他の成分（例、Ａｊ２
．Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、、ＴｉＸＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚ
ｎ、、Ｙ。

Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、ｂ Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、ＨｇＸＰｂ、Ｐ、、Ｌａ。

Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｔｅ、Ｂｉ）を含むことのある合金
を挙げることができる。また、上記強磁性金属分が少量
の水、水酸化物または酸化物を含むものなどであっても
よい。

これらの強磁性粉末の製法は既に公知である、本発明で
用いる強磁性粉末についても公知の方法に従って製造す
ることができる。

強磁性粉末き形状に特に制限はないが、通常は針状、粒
状、サイコロ状、米粒状および板状のものなどが使用さ
れる。特に針状の強磁性粉末を使用することが好ましい
。

上記の樹脂成分、硬化剤および強磁性粉末を、通常磁性
塗料の調製の際に使用されている溶剤（例、メチルエチ
ルケトン、ジオキサン、シクロヘキサノン、酢酸エチル
）と共に混線分散して磁性塗料とする。混線分散は通常
の方法に従って行なうことができる。

なお、磁性塗料中は、上記成分以外に、研磨材（例、ａ
　　Ａ１１ｚ　０３　、Ｃｒｚ　Ｏｓ　）　、帯電防止
剤（例、カーボンブランク）、潤滑剤（例、脂肪酸、脂
肪酸エステル、シリコーンオイル）、分散剤など通常使
用されている添加剤あるいは充填材（剤）を含むもので
あってもよいことは勿論である。特に潤滑剤として、炭
素数が１０〜２２の飽和脂肪酸を用いた場合、後述の回
転ブレード体を用いて研削を行なうことにより飽和脂肪
酸が磁性層表面に層状に配向する傾向があり、このよう
に配向した脂肪酸膜は強度が高く、さらに潤滑性も良好
であるので、磁気記録媒体の走行性が向上するとの利点
がある。

このようにして調製した磁性塗料を非磁性支持体上に塗
布する。塗布の方法は、リバースロールを用いる方法な
どの通常の塗布方法を利用して行なうことができる。

磁性塗料の塗布層は、得られた磁気記録媒体の磁性層の
厚さが通常０．５〜１０ｔｔｍの範囲内となるように塗
布される。

非磁性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート（
ＰＥＴ）　、ポリエチレンナフタレートのポリエステル
類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロース
トリアセテート、セルロースジアセテート等のセルロー
ス誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビ
ニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリアミ
ドイミド、ポリイミドなどの合成樹脂からなるフィルム
もしくはノート；アルミニウム、銅等の非磁性金属箔；
ステンレス箔などの金ＩＩ箔；紙、セラミンクノート等
から選ばれる。

また、非磁性支持体は、一般には厚さが３〜５０μｍ（
好ましくは５〜３０　ｔＩｍ）のものが使用される。

本発明で用いる非磁性支持体の磁性塗料が塗布されてい
ない面にバック層（バッキング層）が設けられていても
よい０通常バンク層は、非磁性支持体の磁性塗料が塗布
されていない面に、研磨材、帯電防止剤などの粒状成分
と結合側とが有機溶剤に分散してなるバンク層形成塗料
を塗布して設けられた層である。

なお、非磁性支持体の磁性塗料およびバック層形成塗料
の塗設面に接着剤層が付設されていてもよい。

通常、塗布された磁性塗料の塗布層は、磁性塗料の塗布
層中に含まれる強磁性粉末を配向させる処理、すなわち
磁場配向処理を施した後、乾燥される。

このようにして乾燥された後、塗布層に表面平滑化処理
を施す。表面平滑化処理には、たとえばスーパーカレン
ダロールなどが利用される０表面平滑化処理を行なうこ
とにより、乾燥時の溶削の除去によって生じた空孔が消
滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、電
磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。

本発明の製法においては、消磁処理された磁性層の表面
、または磁性層の表面およびハック層の表面を研磨テー
プにより研磨処理を行なう。特に、研磨テープにより研
磨処理された表面を回転ブレード体等で研削した後、不
織布による拭き取り処理を行なう方が好ましい、但し、
研磨処理、研削処理および拭き取り処理を行なう順序は
、上記の順序に限定するものではない。

前記の表面平滑化処理された段階では、結合剤の形成成
分として硬化剤を使用した場合、磁性層に含まれる硬化
剤のうち、通常９０重量％以上が未反応の状態で磁性層
に含有されているので、硬化処理を行なって、少なくと
も硬化剤の５０重量％（特に好ましくは８０重量％以上
）を反応させたのちに、その次の処理を行なうことが好
ましい。

硬化処理には、加熱硬化処理と電子線照射硬化処理とが
あり、本発明においては、いずれの方法であっても利用
することができる。

この硬化処理により表面平滑化処理された磁性層に含有
される未反応の硬化剤が、たとえば塩化ビニル系共重合
体およびポリウレタン系樹脂のような樹脂成分と三次元
網状の架橋構造を形成するように反応する。

加熱処理の工程自体は既に公知であり、本発明において
もこれらの方法に準じて加熱処理を行なうことができる
。

たとえば、加熱処理は、加熱時間を通常４０°Ｃ以上（
好ましくは５０〜８０°Ｃの範囲内）、加熱時間を通常
２０時間以上（好ましくは２４時間〜７日間）に設定し
て行なわれる。また、電子線照射による硬化処理の工程
自体も既に公知であり、本発明においてもこれらの方法
に準じて加熱処理を行なうことができる。

このようにして硬化処理された積層体を次に所望の形状
に裁断する。

裁断はスリッターなどの通常の裁断機などを使用して通
常の条件で行なうことができる。

このように硬化処理され、裁断された積層体の磁性層の
表面、または磁性層の表面とバンク層の表面は研磨テー
プのベルトをゆっくり回転させることによって研磨処理
が行なわれる。その際、ベルトの周速度を磁気記録媒体
のテープの巻き取り方向と逆方向に１〜３　ｃｍ　７分
の速さで研磨処理を行なう。

第１圓は、本発明に従う消磁処理、第２図は研磨処理、
研削処理および拭き取り処理工程の一例を示す概略図で
ある。

第１図に示すように飽和へンド１において１７００〜２
３００ガウスの永久磁石を用いて、最大の残留磁束密度
にまで磁化され、続いて未飽和ヘッド２において１３０
０〜１９００ガウスの永久磁石を用いて残留磁束密度が
殆どＯになるように逆方向に磁化される。そして最後に
９００〜１５００ガウスの交流を源６を持つｔ磁石であ
る交流ヘッド３により振幅が減衰するような交流磁場を
与えられ、はぼ完全に残留磁束密度がＯになるように処
理する。

第２図に示すように、送りだしロール１４よりテープが
送りだされ、研磨テープ１５で研磨され、固定ブレード
１６で研削され、そして不織布７で拭き取られ、さらに
巻きとりロール８で巻きとられて処理は完了する。１３
は送りロールでテープの送りを円滑にしている。

研磨テープ１６は、回転ロール１１によってテープの送
りと反対方向に１〜３ｃｍＺ分の速さで移動し、バッド
９によって研磨テープ１６はおさえられ、磁性層表面と
接触し研磨処理を行なう。

第２図において、研磨テープによる研磨箇所は２つ以上
あっても良い、また磁性層の表面だけでなくバンク層表
面も研磨す場合は反対側にも同様の研磨テープによる研
磨箇所を備え付ける。

研削処理用の固定ブレード１６は、使用しなくても良い
し、固定ブレードの代わりに回転ブレードを使用するこ
ともできる。また固定ブレードと回転ブレードの両方を
使用しても良い。

さらに磁性層の表面だけでなくバンク層表面も研削処理
を行なう場合は反対側にも固定ブレードおよび／または
回転ブレードを備え付ける。

不織布７は、回転ロール１２によってテープの送りと反
対方向に０．　５〜ｌ０ＣＩ／分の速さで移動し、パッ
ド１０によって不織布７はおさえられ、磁性層表面と接
触し拭き取り処理を行なう。

また、不織布による拭き取り箇所は２つ以上あっても良
いし、磁性層の表面だけでなくバック層表面も拭き取り
処理を行なう場合は反対側にも同様の不織布による拭き
取り箇所を備え付ける。

本発明の研磨処理に使用される研磨テープは、カセット
デツキ、ビデオデツキ等のヘッドを研磨するためのテー
プであることが好ましい。この研磨テープの主な目的は
、ヘッド面を仕上げる、ヘッドの先端形状を作りだす、
およびヘッドのチッピングをなくすこと等である。

これらの研磨処理に使用される研磨テープは、研磨材の
硬度が、モース硬度で５〜９の範囲内にあるもので、例
えばα−Ａ　１　ｔ　Ｏｓ　、Ｓ　ｉ　Ｏ！、Ｃｒｔ　
Ｏ３、ｔｘ　　Ｆｅｔ　ＯＨ、ダイアモンド、Ｚ　ｎ　
ＯｚおよびＴ　ｉ　Ｏｚの群より選ばれる少なくとも一
種の研磨材を含んでいる。

本発明に使用される研磨テープは、例えば以下のように
製造される。上記研磨材が結合剤、添加剤等を含むバイ
ンダーに分散され、支持体に塗布され、次いで乾燥後所
定の大きさに裁断される。

結合剤としては、熱硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、および
反応型樹脂が単独または混合して用いられる。研磨材と
結合剤との混合割合は、研磨材１００重量部に対して結
合剤が１０〜２００重量部の範囲で使用される。支持体
の素材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ
）等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフ
ィン類、セルロース誘導体、ビニル系樹脂、ポリカーボ
ネート、ポリアミドなどの合成樹脂からなるフィルムも
しくはシート；アルミニウム、銅等の非磁性金属箔；ス
テンレス箔などの金属箔；紙、セラミックシート等から
選ばれる。

また、上記本発明に使用した研磨テープの表面粗さ（中
心線平均粗さ）Ｒａは、０．０７〜０゜９の範囲内にあ
ることが好ましい、研磨テープの表面粗さ（中心線平均
粗さ）Ｒａの測定条件は以下の通りである。

中心線平均粗さ測定機サフコム４００Ｂ、４０３Ｂ、４
０４Ｂシステムを使用して、カットオフ値：０．８閣、
稼動速度：０．３ｍ、針圧：０゜０７ｇ、針径：２μＲ
、レンジ＝２０に１０．５の条件で測定した。

上記の性能を有する研磨テープであれば、特に研磨テー
プを限定するものではな（、市販の研磨テープを使用す
ることもできる。

上記のような研磨テープを用いた研磨処理により、磁性
層の表面から突出している強磁性粉末あるいは研磨材の
ような粒状成分、さらには磁性層の表面に存在する未反
応の硬化材、表面の付着物（例えば、磁気記録媒体を製
造する際に表面に付着した空気中の粉塵）などは、磁性
層表面近傍（一般には０．０１〜５μｍの高さ）の結合
剤と共に削り取られ、磁性層表面が平滑化される。

そして、バック層も研磨処理した場合は、バック層を研
磨することにより非磁性粉末などの粒状成分の脱離が少
なくなるので、たとえば、テープ状に裁断した磁気記録
媒体を巻いた状態で使用しても、バンク層の表面から脱
離した粒状成分が磁性層の表面に付着してドロップアウ
トあるいは目詰まりの原因となることが少なくなる。

拭き取り処理に使用する材料の例としては、ポリウレタ
ンなどの結合成分を実質的に含むことなくポリエステル
繊維が結束されてなる繊維の束が緻密にからみ合った一
層構造のスェード調不織布（例、エクセーヌ（商品名）
、東し■製；クラリーノ１品名）、クラレ■製）および
ポリエステル繊維などをポリウレタンなどの結合成分で
結合してなる不織布（例、ハイリーン（商品名）、日本
バイリーン■製）等を挙げることができる。

この拭き取り処理によって、磁性層および／またはバッ
ク層の付着物および有機物質の除去が完全に行なわれる
ことになり、ドロップアウトあるいは目詰まりが低下す
る。

前記の不織布の拭き取り処理を行なう前に、研削処理を
行なった方がより好ましい、研削処理方法については、
特願昭６１−１３１８４号に記載されている。すなわち
使用する研削具の例としては、固定ブレード、ダイヤモ
ンドホイールおよび回転ブレードを挙げることができる
。

ここで、固定ブレードとは、研削対象の磁性層もしくは
バック層の表面に接触する部分が高硬度の物質からなる
ブレードである。ブレードは、通常は、サファイヤ、ア
ルミナ、サーメット、ジルコニア（酸化ジルコニウム）
、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ダイヤモンドおよび超硬合
金などの素材で形成されている。

また、ダイアモンドホイールとは、周囲にダイヤモンド
を焼結した回転する円筒状の研削具をいう。

さらに、回転ブレード体とは、回転体と、この回転体の
回転軸に沿ってこの回転体の外周部に備えられた少なく
とも一枚のブレードとからなる研削具である。

上記のような処理により、研磨テープを用いた研磨処理
の効果をさらに高めることができる。

なお、以上は表面平滑化処理が施された積層体を裁断し
た後、磁性層の表面、または磁性層およびバック層の表
面を研磨テープによって研磨処理を行なう方法を主に記
載したが、本発明は、この順序に限定されるものではな
く、たとえば、裁断しながら研磨処理する方法、あるい
は裁断する前に研磨処理する方法などを利用することが
できる。

さらに、硬化処理を行なわなくとも徐々に硬化反応が進
行するので、表面平滑化試料後、特に硬化処理を行なう
ことなく磁性層の表面、または磁性層およびバック層の
表面を研磨テープによる研磨処理を行なうことも可能で
ある。

（発明の効果） 本発明は、磁性層の配向後であって、研磨処理又は研削
処理前に消磁する工程を設けることにより、発生した削
れ粉が磁化されていないため、磁気記録媒体に再付着す
ることがなく、顕著にドロップアウトが改善される。

（実施例） 次に、本発明に実施例および比較例を示す。なお、実施
例および比較例中の「部」との表示は、「重量部」を示
すものである。

〔実施例１〕 下記の磁性塗料組成物をボールミルで均一になるまで混
線分散して磁性塗料を調製した。

得られた磁性塗料の粘度を調整した後、磁性層の厚さが
３．０μｍになるように、厚さＩＯａｍのポリエチレン
テレフタレート支持体の表面にリバースロールを用いて
塗布した。

■二里料組底 強磁性金属微粉末（組成：　Ｆｅ９６ｗｔＸ、Ｎｉ４ｗ
ｔχ、比表面積＝４５ポ／ｇ）　　　１００部塩化ビニ
ル／酢酸ビニル・無水マ レイン酸共重合体（４００Ｘ１１０Ａ、日本ゼオン■製
）　　　　　　　　　　１４部ポリウレタン系樹脂にツ
ボラン Ｎ−２３０４、日本ポリウレタン■製）　　　１２部ポ
リイソシアネート化合物（デス モジュールＬ−７５、バイエル社製）　　　　１２部α
−アルミナ　　　　　　　　　　　１０部ステアリン酸
　　　　　　　　　　　　　５部ステアリン酸ブチル　
　　　　　　　　　６部カーボンブランク　　　　　　
　　　　　　１部メチルエチルケトン　　　　　　　　
３２５部別に下記のバック層形成塗料組成物をボールミ
ルで均一になるまで混線分散してバック層形成塗料を調
製した。

得られたバック層形成塗料の粘度を調整した後、上記の
磁性塗料が塗布された支持体の裏面にバック層の厚さが
０．７μｍになるように、リバースロールを用いて塗布
した。

バー　　　　ノ　　　　・ カーボンブラック （平均粒子径：Ｏ，Ｏ５μｍ）　　　　３５部α−アル
ミナ（平均粒子径： ０．１５μｍ、最大粒子径： ０．３μｍ）　　　　　　　　　　１．８部ニトロセル
ロース　　　　　　　　　　　２０部ポリウレタン系樹
脂にツボラン Ｎ−２３０４、日本ポリウレタン■製）　　　１０部ポ
リイソンアネート化合物（コロ ネートし１日本ポリウレタン■製）　　１０部メチルエ
チルケトン　　　　　　　　６００部磁性塗料及びバッ
ク層塗料が塗布された非磁性支持体を、磁性塗料が未乾
燥の状態で３０００ガウスの磁石で磁場配向処理を行な
い、さらに乾燥後巻き取られる前に第１図に示すように
消磁ゾーンを設置した。

まず消磁ゾーンに入ったウェブ４は２０００ガウスの永
久磁石よりなる飽和ヘッドにより最大の残留磁束密度に
まで磁化され、続いて１６００ガウスの永久磁石よりな
る未飽和ヘッド２により残留磁束密度が殆ど０になるよ
うに逆方向に磁化される。

そして最後に１２００ガウスの交流電源を持つ電磁石（
フェライトヨーク）である交流ヘッド（３）により振幅
が減衰するような交流磁場を与えられほぼ完全に残留磁
束密度が０になる。

今回の実施例では交流ヘッドを通さなくてもウェブの残
留磁束密度は０．０２ガウスとなり、本発明の目的は達
成される。

そして、この後カレンダー処理を行ない、非磁性支持体
と磁性層及びバック層からなる積層体を調整した。

この積層体を６０℃で２４時間加熱処理を行ない磁性層
中に含有されるポリイソシアネート化合物を硬化させた
後、８閤にスリットし、表面粗さＲａが０５０７の研磨
テープ（Ｋ−１００００〔研磨材Ｃｒ２Ｏ，〕　：富士
写真フィルム■製）を第２図に示すように、研磨処理を
行なった後、スェード調不織布を用いて拭き取り処理を
施して８ミリビデオ用テープを製造した。

処理条件 研磨テープ５は回転ロールＩＩによってテープの送りと
反対方向に１．５ｃｍ／分の速さで移動し、上部からパ
ッド９によって押さえられることによりテープの磁性層
表面と接触し、研磨処理が行なわれた後、磁性層表面を
先端の角度が６０度のサファイヤブレード（巾：５■、
長さ３５■、京セラ■製）で接触角度は８０度、張力５
０　ｇ／８■にて接触させて研削した。

なお磁性層とサファイヤブレードとの接触はサファイヤ
ブレード４枚を一組として１回行なった。

比較例１ 実施例１において研磨テープによる研磨処理及びサファ
イヤブレード処理及びスェード調不織布を用いての拭き
取り処理を行なわなかった以外実施例１と同様にして８
ミリビデオテープを製造した。

比較例２ 実施例１において消磁ゾーンを設けなかった以外実施例
１と同様にして８ミリビデオテープを製造した。

評価方法 得られた８ミリビデオテープを使ってＶＴＲ１０分長の
記録をし、再生時の１５μＳ　　−１８ｄＢにおけるド
ロップアウトの１分間の発生個数を測定した。

第１表の結果より明らかな如く、実施例１と比較例２で
はり、　Ｏの個数にして約１４倍〜２４倍の差があり、
これは消磁の顕著な効果である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に従う消磁処理工程の一例の概略図であ
る。又第２図は本発明に従う研磨処理、研削処理および
拭き取り処理工程の一例の概略図である。 １：飽和ヘッド（永久磁石） ２：未飽和ヘッド（永久磁石） ３：交流ヘッド（フェライトヨーク） ４：ウェブ　　　　　　　５：コイル ６：交流電源　　　　　　７：不織布 ８：巻き取りロール ９：パッド（研磨テープ用） １０：パッド（不織布用） ｌｌ：回転ロール（研磨テープ用） １２：回転ロール（不織布用） １３：送りロール １４：送り出しロール　　　１５：研磨テープ１６：固
定ブレード 特許出願人　富士写真フィルム株式会社第 図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性支持体上に塗設された、強磁性粉末が結合
   剤に分散されてなる磁性層を配向し、表面平滑化処理し
   たのち、前記磁性層の表面を研磨テープによる研磨処理
   及び／又は研削処理することを特徴とする磁気記録媒体
   の製造方法において、前記磁性層の配向後、前記研磨処
   理及び又は研削処理の前の工程のいづれかで消磁するこ
   とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
2. （２）前記表面平滑化処理した磁性層の表面を前記研磨
   テープにより研磨処理した後、ブレードまたは回転ブレ
   ードによって前記研削処理を行ない、次に前記磁性層を
   不織布で拭き取り処理を行なうことを特徴とする請求項
   第（１）項記載の磁気記録媒体の製造方法。（３）前記
   消磁を飽和ヘッド次いで未飽和ヘッド最後に交流ヘッド
   を用いて行なうことを特徴とする請求項第（１）項記載
   の磁気記録媒体の製造方法。