JPH0414611A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH0414611A JPH0414611A JP2118324A JP11832490A JPH0414611A JP H0414611 A JPH0414611 A JP H0414611A JP 2118324 A JP2118324 A JP 2118324A JP 11832490 A JP11832490 A JP 11832490A JP H0414611 A JPH0414611 A JP H0414611A
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- Japan
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- magnetic recording
- filler
- recording medium
- plate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体に関する。
気記録層とする磁気記録媒体に関する。
従来の技術
記録、再生機器の小型化、高性能化の為に記録密度向上
の努力は継続的に行われており、最近では強磁性金属薄
膜を磁気記録層として実用化することが待望されるに至
っている〔アイイーイーイー トランザクションズオン
マグネティクス（ＩＥＥＥ ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮ
Ｓ ＯＮ ｋ［ＡＧＮＥＴＩｃｓ） Ｖｏｌ 、 Ｍ
Ａ Ｇ−２１Ｎｏ−３，Ｐ、Ｐ、１２１７〜１２２０（
１９８５））。強磁性金属薄膜は材料としての組合わせ
は多数考えられるが、現実的な可能性か示されているも
のは少なく、Ｃｏ−Ｃｒ等の垂直磁化膜〔特公昭５８−
９１号公報、特開昭６１−１２０３３１号公報〕やＣｏ
−Ｎｉ、 Ｃｏ−Ｎｉ−０等の斜め蒸着膜や湿式めっき
膜〔特公昭４１−１９３８９号公報、特開昭５３−４２
０１０号公報〕等で、実用化の目的で最近ではもっばら
、保護潤滑層の開発が検討の中心となっている。現状で
はポリエチレンテレフタレートフィルム等の高分子フィ
ルム上に直接あるいは微粒子などの下塗りを行った後、
電子ビーム蒸着法やスパッタリング法で強磁性金属薄膜
を配し、その面に直接溶剤に脂肪酸やパーフルオロポリ
エーテル等の潤滑剤を溶かした溶液を塗布乾燥する法〔
特開昭５７−１７９９４８号公報、特開昭６１−１７８
７１８号公報〕や、酸化膜を介して潤滑剤を配する〔特
開昭６１−１５８３０号公報〕ことや、炭素膜とクロロ
カーボン系の組み合わせ〔特開昭６１−１４２５２５号
公報〕等が提案され、磁気ディスクではまだ炭素膜が厚
いとはいうものの一部実用化され、炭素質についても検
討が進み、硬度を高めることの有用性〔米国特許４７１
７６２２号明細書〕も知られるに至っている。
の努力は継続的に行われており、最近では強磁性金属薄
膜を磁気記録層として実用化することが待望されるに至
っている〔アイイーイーイー トランザクションズオン
マグネティクス（ＩＥＥＥ ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮ
Ｓ ＯＮ ｋ［ＡＧＮＥＴＩｃｓ） Ｖｏｌ 、 Ｍ
Ａ Ｇ−２１Ｎｏ−３，Ｐ、Ｐ、１２１７〜１２２０（
１９８５））。強磁性金属薄膜は材料としての組合わせ
は多数考えられるが、現実的な可能性か示されているも
のは少なく、Ｃｏ−Ｃｒ等の垂直磁化膜〔特公昭５８−
９１号公報、特開昭６１−１２０３３１号公報〕やＣｏ
−Ｎｉ、 Ｃｏ−Ｎｉ−０等の斜め蒸着膜や湿式めっき
膜〔特公昭４１−１９３８９号公報、特開昭５３−４２
０１０号公報〕等で、実用化の目的で最近ではもっばら
、保護潤滑層の開発が検討の中心となっている。現状で
はポリエチレンテレフタレートフィルム等の高分子フィ
ルム上に直接あるいは微粒子などの下塗りを行った後、
電子ビーム蒸着法やスパッタリング法で強磁性金属薄膜
を配し、その面に直接溶剤に脂肪酸やパーフルオロポリ
エーテル等の潤滑剤を溶かした溶液を塗布乾燥する法〔
特開昭５７−１７９９４８号公報、特開昭６１−１７８
７１８号公報〕や、酸化膜を介して潤滑剤を配する〔特
開昭６１−１５８３０号公報〕ことや、炭素膜とクロロ
カーボン系の組み合わせ〔特開昭６１−１４２５２５号
公報〕等が提案され、磁気ディスクではまだ炭素膜が厚
いとはいうものの一部実用化され、炭素質についても検
討が進み、硬度を高めることの有用性〔米国特許４７１
７６２２号明細書〕も知られるに至っている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記した構成では、耐久性とＣ／Ｎを共に
改良することが困難で、より高密度化する上で、スペー
シング損失を改善した上で耐久走行性を確保できる構成
の磁気記録媒体が求められている。本発明は上記した事
情に鑑みなされたもので、Ｃ／Ｎ、耐久性共に優れた磁
気記録媒体を提供するものである。
改良することが困難で、より高密度化する上で、スペー
シング損失を改善した上で耐久走行性を確保できる構成
の磁気記録媒体が求められている。本発明は上記した事
情に鑑みなされたもので、Ｃ／Ｎ、耐久性共に優れた磁
気記録媒体を提供するものである。
課題を解決するための手段
上記した課題を解決するため本発明の磁気記録媒体は、
高分子フィルムに充てんしたフィラーが平板状で、かつ
そのフィラーを核とした平板状突起が磁気記録層表面に
反映したものである。
高分子フィルムに充てんしたフィラーが平板状で、かつ
そのフィラーを核とした平板状突起が磁気記録層表面に
反映したものである。
作用
本発明の磁気記録媒体は、上記した構成により、突起高
さか低くても荷重の均一分散性が良好で、耐久性も改善
されると共に、Ｃ／Ｎも改良されるのである。
さか低くても荷重の均一分散性が良好で、耐久性も改善
されると共に、Ｃ／Ｎも改良されるのである。
実施例
以下、図面を参照しなから、本発明の実施例について詳
しく説明する。第１図は本発明の実施例の磁気記録媒体
の拡大断面図である。第１図で、１はポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレ
ンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイ
ミド等の高分子フィルムである。２は平板状のフィラー
で、３は平板状のフィラーを核とした突起部で、突起の
高さは２００λ以下で５０人から１５０人が好ましく、
上面から投写した突起面積は０．３μ２〜１．５μ２の
範囲で、密度は０．１（ケ／μ２）〜０．０１（ケ／μ
２）の範囲が好ましい。平板状フィラーの材質は酸化物
、窒化物、炭素等特に限定されるものではないが、平板
状のフィラーが、表面に形成する突起が平板状であるよ
うにすることが容易にできるのはバリウムフェライト等
のように磁性を有する状態にして磁場配向処理技術を応
用するのがよい。
しく説明する。第１図は本発明の実施例の磁気記録媒体
の拡大断面図である。第１図で、１はポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレ
ンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイ
ミド等の高分子フィルムである。２は平板状のフィラー
で、３は平板状のフィラーを核とした突起部で、突起の
高さは２００λ以下で５０人から１５０人が好ましく、
上面から投写した突起面積は０．３μ２〜１．５μ２の
範囲で、密度は０．１（ケ／μ２）〜０．０１（ケ／μ
２）の範囲が好ましい。平板状フィラーの材質は酸化物
、窒化物、炭素等特に限定されるものではないが、平板
状のフィラーが、表面に形成する突起が平板状であるよ
うにすることが容易にできるのはバリウムフェライト等
のように磁性を有する状態にして磁場配向処理技術を応
用するのがよい。
４は磁気記録層であるが、強磁性金属薄膜から構成され
たものが適している。Ｃｏ−０，Ｃｏ−Ｎｉ。
たものが適している。Ｃｏ−０，Ｃｏ−Ｎｉ。
Ｃｏ−Ｃｒ、 Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、 Ｃｏ−Ｎｉ−０等
の電子ビーム蒸着膜、スパッタリング膜等が適当である
。５は保護潤滑層、６はバックコート層である。尚磁気
ディスクとして実施する時は６は不要か或いは両面アク
セス型とする場合は周知の構成とすればよい。
の電子ビーム蒸着膜、スパッタリング膜等が適当である
。５は保護潤滑層、６はバックコート層である。尚磁気
ディスクとして実施する時は６は不要か或いは両面アク
セス型とする場合は周知の構成とすればよい。
以下、更に具体的に本発明の実施例について比較例との
対比で説明する。
対比で説明する。
〔実施例１〕
厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの
内部にバリウムフェライト（六角平板状）を充てんし、
起伝導コイルで配向させ、異なる平板状突起条件の表面
を形成し、その上にＣ０Ｎｉ （Ｃｏ ８０ｗｔ％）を
直径１ｍの円筒キャンに沿わせ、最小入射角３０度で５
Ｘ １０−５（Ｔｏｒｒ）の酸素中で電子ビーム蒸着
し０．１６μｍのＣｏ−Ｎｉ０から成る磁気記録層を形
成し、その上にバーフルオロステアリン酸を５ＯＡ塗布
し、０．４μｍのバックコート層（炭素、炭化カルシウ
ム、ポリウレタン樹脂から成る）を配し、８ミリ幅の磁
気テープとした。
内部にバリウムフェライト（六角平板状）を充てんし、
起伝導コイルで配向させ、異なる平板状突起条件の表面
を形成し、その上にＣ０Ｎｉ （Ｃｏ ８０ｗｔ％）を
直径１ｍの円筒キャンに沿わせ、最小入射角３０度で５
Ｘ １０−５（Ｔｏｒｒ）の酸素中で電子ビーム蒸着
し０．１６μｍのＣｏ−Ｎｉ０から成る磁気記録層を形
成し、その上にバーフルオロステアリン酸を５ＯＡ塗布
し、０．４μｍのバックコート層（炭素、炭化カルシウ
ム、ポリウレタン樹脂から成る）を配し、８ミリ幅の磁
気テープとした。
比較例は厚み１０μｍの超平滑（平均粗さ３０人）ポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に、直径１００人と
２００人のＳｉＯ２微粒子を夫々２０（ケ／μ２）配し
、その上に実施例と同じＣｏ−Ｎｉ−０膜、潤滑剤を配
しバックコート層を配した上で同しく８ミリ幅のテープ
としたものを用いた。
エチレンテレフタレートフィルム上に、直径１００人と
２００人のＳｉＯ２微粒子を夫々２０（ケ／μ２）配し
、その上に実施例と同じＣｏ−Ｎｉ−０膜、潤滑剤を配
しバックコート層を配した上で同しく８ミリ幅のテープ
としたものを用いた。
夫々のテープを８ミリビデオ（ＥＶ−８９００ソニー■
製）により比較評価した結果を第１表にまとめて示した
。
製）により比較評価した結果を第１表にまとめて示した
。
（以 下 余 白 ）
〔実施例２〕
課題を解決するための別の手段は、高分子フィルム上に
配した球状微粒子塗布層上に入射角６０度以上の斜めス
パッタ蒸着で形成した酸化膜上に強磁性金属薄膜を配す
るようにしたものである。
配した球状微粒子塗布層上に入射角６０度以上の斜めス
パッタ蒸着で形成した酸化膜上に強磁性金属薄膜を配す
るようにしたものである。
本発明の磁気記録媒体は上記した構成により、球状微粒
子を小さくしても、斜めスノく・ツタ蒸着膜で形状異方
性か生し、かつスパッタのエネルギーで影がつかず付着
強度も増大するので、突起高さは低くても形状効果で摩
擦特性が改善され、Ｃ／Ｎと共に耐久性も改善されるこ
とになる。
子を小さくしても、斜めスノく・ツタ蒸着膜で形状異方
性か生し、かつスパッタのエネルギーで影がつかず付着
強度も増大するので、突起高さは低くても形状効果で摩
擦特性が改善され、Ｃ／Ｎと共に耐久性も改善されるこ
とになる。
第２図は第２の実施例の磁気記録媒体の拡大断面図であ
る。第２図で７はポリエチレンテレフタレート、ポリフ
ェニレンサルファイド等の高分子フィルムで、表面粗さ
は４０Å以下の平均粗さであるものが好ましい。８は５
ｉ０２．ＴｉＯ２，Ｚｒ０２Ａ１２０３等の微粒子で、
５０人から１００人の球状のものが好ましい。９は斜め
スパッタ蒸着によって形成された酸化物薄膜で、必ずし
も化学量論的にみて完全な酸化膜である必要はない。要
は斜めスパッタ蒸着による形状異方性が酸素を導入しな
からスパッタ蒸着することで強調される効果とまわり込
み効果で付着強度が増大する作用効果を利用するもので
あるからである。入射角は６０度以上とすることか好ま
しい。球状微粒子の大きさか大きくなれば、６０度以下
でもよいか第３図に示したように球状微粒子が５０人（
最小）の時には６０度以上とすることで、動摩擦係数の
安定性か得られることからこの条件を選んだ方か好まし
いといえる。
る。第２図で７はポリエチレンテレフタレート、ポリフ
ェニレンサルファイド等の高分子フィルムで、表面粗さ
は４０Å以下の平均粗さであるものが好ましい。８は５
ｉ０２．ＴｉＯ２，Ｚｒ０２Ａ１２０３等の微粒子で、
５０人から１００人の球状のものが好ましい。９は斜め
スパッタ蒸着によって形成された酸化物薄膜で、必ずし
も化学量論的にみて完全な酸化膜である必要はない。要
は斜めスパッタ蒸着による形状異方性が酸素を導入しな
からスパッタ蒸着することで強調される効果とまわり込
み効果で付着強度が増大する作用効果を利用するもので
あるからである。入射角は６０度以上とすることか好ま
しい。球状微粒子の大きさか大きくなれば、６０度以下
でもよいか第３図に示したように球状微粒子が５０人（
最小）の時には６０度以上とすることで、動摩擦係数の
安定性か得られることからこの条件を選んだ方か好まし
いといえる。
他の構成要素は第１の実施例で述べたものでよい。
以下、更に具体的に第２の実施例について比較例との対
比で説明する。
比で説明する。
厚み９μｍのポリエチレンナフタレート（平均表面粗さ
２５人）フィルム上に各種の球状微粒子を塗布し、直径
５０ｃｍの円筒キャンに沿わせて、酸素を導入しながら
最小入射角を変化させ、厚み４５０人の酸化膜を斜めス
パッタ法で配し、その上に直径１ｍの円筒キャンに沿わ
せ、４Ｘ１０−５（Ｔｏｒｒ）の酸素中でＣｏ−Ｎｉ
（Ｃｏ ８０ｙｔ％）を最小入射角３０度で８５０人電
子ビーム蒸看蒸着ことを２回くり返し、２層のＣｏ−Ｎ
ｉ−０膜を形成し、更にその上にグラファイトをターゲ
ットにし、Ａｒ＋ Ｈ＝＝ ０．０７ （Ｔｏｒｒ）、
Ａｒ ： Ｈ：＝ １・３，３００ （ＫＨｚ）、
１．２ （ＫＷ）のグロー放電でスパッタリングを行い
、硬質炭素膜を１００人配し、更にその上にモンテジソ
ン社製のパーフルオロポリエーテル“フォンプリンｚ−
２５”を３０（ｗ／ｎｆ）塗布し、バックコート層０．
４膜ｍを配し、８ミリ幅の磁気テープにした。比較例は
入射角が６０度で電子ビーム蒸着法により酸化膜を形成
したものと、酸化膜なしのものを用いた。
２５人）フィルム上に各種の球状微粒子を塗布し、直径
５０ｃｍの円筒キャンに沿わせて、酸素を導入しながら
最小入射角を変化させ、厚み４５０人の酸化膜を斜めス
パッタ法で配し、その上に直径１ｍの円筒キャンに沿わ
せ、４Ｘ１０−５（Ｔｏｒｒ）の酸素中でＣｏ−Ｎｉ
（Ｃｏ ８０ｙｔ％）を最小入射角３０度で８５０人電
子ビーム蒸看蒸着ことを２回くり返し、２層のＣｏ−Ｎ
ｉ−０膜を形成し、更にその上にグラファイトをターゲ
ットにし、Ａｒ＋ Ｈ＝＝ ０．０７ （Ｔｏｒｒ）、
Ａｒ ： Ｈ：＝ １・３，３００ （ＫＨｚ）、
１．２ （ＫＷ）のグロー放電でスパッタリングを行い
、硬質炭素膜を１００人配し、更にその上にモンテジソ
ン社製のパーフルオロポリエーテル“フォンプリンｚ−
２５”を３０（ｗ／ｎｆ）塗布し、バックコート層０．
４膜ｍを配し、８ミリ幅の磁気テープにした。比較例は
入射角が６０度で電子ビーム蒸着法により酸化膜を形成
したものと、酸化膜なしのものを用いた。
第２表に条件と評価結果を示した。用いた評価機器は第
１表に示したものと同じである。
１表に示したものと同じである。
又、第３図には５ｉＯ２（５０人直径）を３０ケ／μ２
配し、斜め入射の条件を変化させ（膜厚は４５０人一定
）実施例と同じ強磁性金属薄膜、保護潤滑層□を配し動
摩擦係数の変化を比較したものを示した。
配し、斜め入射の条件を変化させ（膜厚は４５０人一定
）実施例と同じ強磁性金属薄膜、保護潤滑層□を配し動
摩擦係数の変化を比較したものを示した。
第３図より入射角は６０度とするのか安定性より優れて
いることかわかる。
いることかわかる。
（以 下 余 白 ）
発明の効果
以上のように本発明によれば、耐久性とＣ／Ｎの優れた
磁気記録媒体が得られるといった優れた効果かある。
磁気記録媒体が得られるといった優れた効果かある。
記録媒体の拡大断面図、第３図は斜めスパッタ蒸着条件
と動摩擦係数の安定性の関係図である。
と動摩擦係数の安定性の関係図である。
２・・・・・・平板状フィラー ４・・・・・・磁気記
録層、８・・・・・・球状粒子、９・・・・・・斜めス
パッタ蒸着酸化膜。
録層、８・・・・・・球状粒子、９・・・・・・斜めス
パッタ蒸着酸化膜。
代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 ほか１名平板１大フ
イラー 第 図 Ｏ ４ρ ６ρ ８ρ 茶 小入宵１両 Ｃ贋）
イラー 第 図 Ｏ ４ρ ６ρ ８ρ 茶 小入宵１両 Ｃ贋）
Claims (2)
- （１）高分子フィルムに充てんしたフィラーが平板状で
かつ、そのフィラーを核とした平板状突起が磁気記録層
表面に反映していることを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）高分子フィルム上に配した球状微粒子塗布層上に
斜めスパッタ蒸着法で形成した酸化膜上に強磁性金属薄
膜を配したことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2118324A JPH0414611A (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2118324A JPH0414611A (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0414611A true JPH0414611A (ja) | 1992-01-20 |
Family
ID=14733856
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2118324A Pending JPH0414611A (ja) | 1990-05-07 | 1990-05-07 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0414611A (ja) |
-
1990
- 1990-05-07 JP JP2118324A patent/JPH0414611A/ja active Pending
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