JPH01128225A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH01128225A JPH01128225A JP62286079A JP28607987A JPH01128225A JP H01128225 A JPH01128225 A JP H01128225A JP 62286079 A JP62286079 A JP 62286079A JP 28607987 A JP28607987 A JP 28607987A JP H01128225 A JPH01128225 A JP H01128225A
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- Japan
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- film
- magnetic recording
- hard carbon
- thin film
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録再生に適する強磁性金属薄膜を
磁気記録層とする磁気記録媒体に関する。
磁気記録層とする磁気記録媒体に関する。
従来の技術
従来よシ、広く磁気記録層として用いられてきているい
わゆる塗布型磁性層は、磁性を担う微粒子を酸化鉄から
純鉄に切シ換えることで大幅な出力増を実現し、現在0
.7μm近い記録波長を実用化させている。しかし今後
−層短波長化が進む磁気記録に於て、必要なC/Nが得
にくくなってきテオリ、ソレニ代ッテ、C0−CrやG
o −Ni 、 C。
わゆる塗布型磁性層は、磁性を担う微粒子を酸化鉄から
純鉄に切シ換えることで大幅な出力増を実現し、現在0
.7μm近い記録波長を実用化させている。しかし今後
−層短波長化が進む磁気記録に於て、必要なC/Nが得
にくくなってきテオリ、ソレニ代ッテ、C0−CrやG
o −Ni 、 C。
−Ni−0等の強磁性金属薄膜を磁気記録層とする2
へ−ン 磁気記録媒体の実用化が期待されている〔アイイーイー
イー トランザクションズ オン マグネティクス(I
R:EE TRANSACTIONS ONMAG
NET[5)Vol、MAG−21,No−3,P、P
。
へ−ン 磁気記録媒体の実用化が期待されている〔アイイーイー
イー トランザクションズ オン マグネティクス(I
R:EE TRANSACTIONS ONMAG
NET[5)Vol、MAG−21,No−3,P、P
。
1217〜1220(1985)参照〕。
かかる構成の磁気記録媒体の実用化には、特に合金系の
磁気ヘッドとの高速摺動に於ける耐久性の確保が不可欠
で、その点からの改善提案が数多くなされている〔例え
ば、特開昭53−88704号公報、同59−1216
31号公報、同59−171026号公報、同62−1
97917号公報等参照〕。中でも磁気記録層に微細な
凹凸を形成する方法は、耐久性改善効果が大きく注目さ
れている〔アイイーイーイー トランザクションズオン
マグネティクス(IEEE TRANSACTION
SON MAGNETICS)Vo、d、MAG−21
、No、5゜P、P、1524〜1526(1985)
参照〕。
磁気ヘッドとの高速摺動に於ける耐久性の確保が不可欠
で、その点からの改善提案が数多くなされている〔例え
ば、特開昭53−88704号公報、同59−1216
31号公報、同59−171026号公報、同62−1
97917号公報等参照〕。中でも磁気記録層に微細な
凹凸を形成する方法は、耐久性改善効果が大きく注目さ
れている〔アイイーイーイー トランザクションズオン
マグネティクス(IEEE TRANSACTION
SON MAGNETICS)Vo、d、MAG−21
、No、5゜P、P、1524〜1526(1985)
参照〕。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、高分子フィルム上にk1203゜CaC
o 3.ポリエステル球等の微粒子全塗布固定しだ。微
粒子塗布層を配した上に電子ビーム蒸着。
o 3.ポリエステル球等の微粒子全塗布固定しだ。微
粒子塗布層を配した上に電子ビーム蒸着。
スパッタリング、イオンブレーティング等の方法で、強
磁性金属薄膜を配し、従来知られる保護潤滑層を配した
磁気記録媒体は、記録波長が0.57zm程度以下にな
るとC/Hの低下が著しく改善が望壕れて−た。
磁性金属薄膜を配し、従来知られる保護潤滑層を配した
磁気記録媒体は、記録波長が0.57zm程度以下にな
るとC/Hの低下が著しく改善が望壕れて−た。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、短波長で
もC/Nの良好な磁気記録媒体を提供するものである。
もC/Nの良好な磁気記録媒体を提供するものである。
問題点を解決するだめの手段
上記した問題点を解決するため本発明の磁気記録媒体は
、強磁性金属薄膜上に硬質炭素薄膜を配し、部分的にW
又はMo注入層を配したものである。
、強磁性金属薄膜上に硬質炭素薄膜を配し、部分的にW
又はMo注入層を配したものである。
作用
本発明の磁気記録媒体は、上記した構成により、硬質炭
素薄膜の硬さが部分的に異なることで、合金系の複合ヘ
ッドに対する研磨性かかん和されることで、短波長域で
問題となるスペーシング損失を小さくでき、結果的にC
/N を改善できることになる。
素薄膜の硬さが部分的に異なることで、合金系の複合ヘ
ッドに対する研磨性かかん和されることで、短波長域で
問題となるスペーシング損失を小さくでき、結果的にC
/N を改善できることになる。
実施例
以下、図面を参照し々から本発明の一実施例の磁気記録
媒体について詳しく説明する。図は本発明の磁気記録媒
体の拡大断面図である。図で1は、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレン
サルファイド、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド等
の高分子フィルムで、2はAg2O3、BaCO3,C
aO、Eu2O3、5i02 。
媒体について詳しく説明する。図は本発明の磁気記録媒
体の拡大断面図である。図で1は、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレン
サルファイド、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド等
の高分子フィルムで、2はAg2O3、BaCO3,C
aO、Eu2O3、5i02 。
TiO2、ZnO、ポリエステル球等の微粒子を塗布固
定した微粒子塗布層で3はCo−Ni 、 Go−Fe
。
定した微粒子塗布層で3はCo−Ni 、 Go−Fe
。
Co−0、Go−Or 、 Go −B 、 Go−B
i 、 Co −V 、 G。
i 、 Co −V 、 G。
−Ta 、 Go −W 、 Go−Ni −0、Co
−Cr −Ru 、 Go −Cr−Nb 、 Go−
Or−Nb−Ti等の強磁性金属薄膜で、電子ビーム蒸
着法、スパッタリング法等により形成されるもので、4
は硬質炭素薄膜で、グラフィイトをターゲットにしてス
パッタリング法で形成するか、炭化水素系気体の放電分
解を利用して形成する等により得られるもので5はW又
はMoイオンを注入し、硬度を部分的に調整しだイ51
\− オン注入部で面積比率で10チから33%までの範囲に
注入するのが好ましい。6は脂肪酸、脂肪酸エステル、
パーフルオロアルキルカルボン酸。
−Cr −Ru 、 Go −Cr−Nb 、 Go−
Or−Nb−Ti等の強磁性金属薄膜で、電子ビーム蒸
着法、スパッタリング法等により形成されるもので、4
は硬質炭素薄膜で、グラフィイトをターゲットにしてス
パッタリング法で形成するか、炭化水素系気体の放電分
解を利用して形成する等により得られるもので5はW又
はMoイオンを注入し、硬度を部分的に調整しだイ51
\− オン注入部で面積比率で10チから33%までの範囲に
注入するのが好ましい。6は脂肪酸、脂肪酸エステル、
パーフルオロアルキルカルボン酸。
パーフルオロポリエーテル等の潤滑剤層である。
上記構成によシ、硬質炭素薄膜のみで構成した従来技術
と比べて、膜厚が20〜35ヴ薄くできるのと、研磨性
の改善効果で、実効的なスペーシングを改良できる度合
は短波長域程顕著である。
と比べて、膜厚が20〜35ヴ薄くできるのと、研磨性
の改善効果で、実効的なスペーシングを改良できる度合
は短波長域程顕著である。
以下、更に具体的に実施例について比較例との対比で説
明する。厚み12μmのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に直径100人のEu2O3微粒子を13ケ/
(μXI+)2配し、その上に直径1mの円筒キャンに
沿わせて、5 X 10 ’(Torr )の酸素中で
最小入射角50度でCo−Ni (Co : 80wt
%)を電子ビーム蒸着し、0 、1871 mのG □
−N i−0膜を形成し、更にグラファイトをターゲ
ットにし、Ar十H2=o、0s(Torr)、Ar
: H2= 1: 4゜13.56(Ml−i□l
1.4(KW)のグロー放電により、ダイアモンド状硬
質炭素薄膜を80人形成し、60 (kev )のWイ
オンを、80μA/Cd で注入し、6へ−7 スポット径120μmのビームで約400μmの円形部
分をW注入層とし、その処理面積比率を全体の22チと
した。その上に真空蒸着法でパーフルオロステアリン酸
を40人蒸着し、8ミリ幅の磁気テープとした。一方比
較例人は、硬質炭素薄膜80人、パーフルオロステアリ
ンe40A、比較例Bは硬質炭素薄膜150人、パーフ
ルオロステアリン酸80八を配したもので、夫々8ミリ
幅の磁気テープとして準備した。
明する。厚み12μmのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に直径100人のEu2O3微粒子を13ケ/
(μXI+)2配し、その上に直径1mの円筒キャンに
沿わせて、5 X 10 ’(Torr )の酸素中で
最小入射角50度でCo−Ni (Co : 80wt
%)を電子ビーム蒸着し、0 、1871 mのG □
−N i−0膜を形成し、更にグラファイトをターゲ
ットにし、Ar十H2=o、0s(Torr)、Ar
: H2= 1: 4゜13.56(Ml−i□l
1.4(KW)のグロー放電により、ダイアモンド状硬
質炭素薄膜を80人形成し、60 (kev )のWイ
オンを、80μA/Cd で注入し、6へ−7 スポット径120μmのビームで約400μmの円形部
分をW注入層とし、その処理面積比率を全体の22チと
した。その上に真空蒸着法でパーフルオロステアリン酸
を40人蒸着し、8ミリ幅の磁気テープとした。一方比
較例人は、硬質炭素薄膜80人、パーフルオロステアリ
ンe40A、比較例Bは硬質炭素薄膜150人、パーフ
ルオロステアリン酸80八を配したもので、夫々8ミリ
幅の磁気テープとして準備した。
夫々のテープを8ミリビデオを改造し、C/Nと耐久性
を比較した。ギャップ長0.22μm のアモルファス
合金スパッタ積層ヘッドにより、キャリア周波数を7.
5 (M)lZ) にし、帯域10(MHz )のC
/N を評価した。実施例と比較個人は比較例Bに比べ
て2.9(dB)良好なC/Nを示しだ。初期の動摩擦
係数は実施例は0,22 、比較個人は0.24 、比
較例Bは0.23 テ400010%RHで160回走
行後の値は夫々0,26.0.49゜0.28であった
。スチル特性は、初期出力から2(dB )出力が低下
するまでの時間で示すと、実施例は55分、比較例人は
18分、比較例Bは52分で、ヘッド相性のよさが実施
例の優れた特性を示しているものと考えられる。上記し
た結果より、実施例は従来技術の保護膜よシ薄くでき、
C/Nを改善できることがわかる。
を比較した。ギャップ長0.22μm のアモルファス
合金スパッタ積層ヘッドにより、キャリア周波数を7.
5 (M)lZ) にし、帯域10(MHz )のC
/N を評価した。実施例と比較個人は比較例Bに比べ
て2.9(dB)良好なC/Nを示しだ。初期の動摩擦
係数は実施例は0,22 、比較個人は0.24 、比
較例Bは0.23 テ400010%RHで160回走
行後の値は夫々0,26.0.49゜0.28であった
。スチル特性は、初期出力から2(dB )出力が低下
するまでの時間で示すと、実施例は55分、比較例人は
18分、比較例Bは52分で、ヘッド相性のよさが実施
例の優れた特性を示しているものと考えられる。上記し
た結果より、実施例は従来技術の保護膜よシ薄くでき、
C/Nを改善できることがわかる。
他にGo −Cr 垂直磁化膜であっても、硬質炭素
薄膜をやや厚く例えば100人程度でその保護効果は十
分であることを確認している。
薄膜をやや厚く例えば100人程度でその保護効果は十
分であることを確認している。
発明の効果
以上のように本発明によれば、短波長域でのC/N
の良好な磁気記録媒体が得られるといったすぐれた効果
がある。
の良好な磁気記録媒体が得られるといったすぐれた効果
がある。
図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図である。
1・・・・高分子フィルム、2・・・・微粒子塗布層、
3・・・・強磁性金属薄膜、4・・・・硬質炭素薄膜、
5・・・・Wイオン注入層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名f−
−−昆イ
3・・・・強磁性金属薄膜、4・・・・硬質炭素薄膜、
5・・・・Wイオン注入層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名f−
−−昆イ
【+フィノ弘
2− 悄欠救工拳手層
3−孜屓杜藤簿膜
4−扉】A漿簿順
、J−W (λソデL)J
Claims (1)
- 強磁性金属薄膜上に硬質炭素薄膜を配し、前記硬質炭素
薄膜に部分的にW又はMo注入層を配したことを特徴と
する磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62286079A JPH01128225A (ja) | 1987-11-12 | 1987-11-12 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62286079A JPH01128225A (ja) | 1987-11-12 | 1987-11-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01128225A true JPH01128225A (ja) | 1989-05-19 |
Family
ID=17699671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62286079A Pending JPH01128225A (ja) | 1987-11-12 | 1987-11-12 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01128225A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0325723A (ja) * | 1989-06-22 | 1991-02-04 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
1987
- 1987-11-12 JP JP62286079A patent/JPH01128225A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0325723A (ja) * | 1989-06-22 | 1991-02-04 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
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