JPH04152304A - 集積型光カップラ - Google Patents

集積型光カップラ

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JPH04152304A JP2278003A JP27800390A JPH04152304A JP H04152304 A JPH04152304 A JP H04152304A JP 2278003 A JP2278003 A JP 2278003A JP 27800390 A JP27800390 A JP 27800390A JP H04152304 A JPH04152304 A JP H04152304A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光導波路に設けられて波面分割型の光の分岐
、結合を行なう集積型の光カップラに関する。
[従来の技術] 従来、交差する光導波路の分岐、結合を行なう為に、第
13図に示す様に、導波路102の交差部に微細なスリ
ット101を層方向に形成し、光の透過、反射を制御す
るカップラを構成することが提案されている。こうした
集積カップラの試作例として、十字型の分岐干渉型のレ
ーザが報告されている(例えば、J、Saltzman
  et、al、  +Cross  coupled
  cavity   semiconductor 
  1aser”  、Appl、Phys、Lett
、52. 10、pp、767〜769  (Marc
h   1988)参照)。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記従来例では、光導波路の横方向の閉
じ込め構造(典型的にはリッジ型構造)が存在するので
、スリットを加工する前の十字分岐部が非平坦となり、
加工深さが中央部と両端では大きく異なっていた。一般
に、光導波路の横方向の界分布は導波路幅より広がって
おり、カップラ先端部の加工深さが異なることは結合効
率1分岐比の制御を困難にする。
この問題点を、第1図のA−A断面図及びB−B断面図
である第14図と第15図に沿って判り易く説明する。
第14図と第15図において、103は基板、104,
106はクラッド層、105は導波路コア層、107,
109は夫々A−A′断面、B−B’断面における光導
波路の界分布の様子、108は光導波路を形成するリッ
ジ部である。この様なりツジ導波路の交差部にFIBE
(集束性イオンビームエツチング)、RIBE(反応性
イオンビームエツチング)などでスリット101を形成
すると、第15図に示す様に、加工深さが不均一になり
、中央部B付近で、光導波路の層方向の界分布109を
分割する様にスリット101の加工深さをその界分布の
中央付近に設定しても、両端部A、Cでは加工深さが深
くなりすぎ(リッジ部]08がないので)、反射の効率
が高まる。その為、目標の分岐効率を得る為の加工深さ
の制御が極めて困難になる。即ち、スリットの先端位置
で分割比(透過/反射の比)を制御することが困難にな
る。
リッジ部を導波路コア層105の下部まで深く加工した
導波路構造も考えられるが、この場合も嘴のエツジ部で
加工深さが太き(なり、中央部との不均一性が発生する
と言う問題がある。
また、更に、埋め込み構造の導波路形成の方法もあるが
、埋め込み時に発生する段差の為、やはり少なからず加
工深さの不均一性を生じることになる。
よって5本発明の目的は、上記の課題に迄み、波面分割
型カップラ形成の際の加工深さの均一性を高めて分岐比
、結合効率の制御を容易にする構成を有する集積型カッ
プラを提供することにある[課題を解決する為の手段] 上記目的を達成する本発明では、リッジ構造などを持つ
チャンネル光導波路構造に光波の結合を行なう為に構成
された集積型の光カップラにおいて5誹光カップラの形
成部位は平坦化されており、波面分割型の分岐、結合を
行なう。
この様にカップラ形成部を予め平坦化しておくことによ
り、カップラを構成するスリット、エツチング部などの
加工深さが正確に制御され(例えば−様にされ)、分岐
比、結合効率の制御が容易になる。平坦化する為に、カ
ップラ形成部では、非平坦化の要因となる導波路構造の
横方向の閉じ込め構造(リッジ構造など)を消失させて
いる。
[実施例] 第1図は本発明による第1の実施例のデバイスの上面図
であり、同図において、■はリッジ導波路、2はカップ
ラとなる微細スリ・ソト、3は導波路交差部の平坦部で
ある。第2図は第1図のA−A″断面図(左右方向に伸
びる導波路1に沿った断面)であり、同図において、4
.】oは上下面に形成されたAu電極、5はn−GaA
s基板、6はn−AlGaAsクラッド層、7はG a
 A s活性層、8はp−AlGaAsクラッド層、9
はp”−GaAsキャップ層である。第2図に示す様に
、スリット2の加工先端は層方向の界分布11の中央付
近までとしく即ち、界分布11の中心が位置する活性層
7部分まで)、積層方向の波面分割を行なっている。ス
リット2は平坦部3に形成されているので、第1図のB
−B′断面図〔スリット2の水平方向伸長方向に沿った
断面)である第3図に示す如く、スリット2の水平方向
に亙る加工深さの均一性が良く、横方向の界分布12の
全体に亙って精度良く(この場合、均一な)層方向波面
分割を行なっている。よって、分岐比(界分布12のう
ちスリット2の断面と重なる反射成分とスリット2の断
面と重ならない透過成分との比)の制御が容易となる。
第4図は第1実施例のカップラを複合共振器の一種であ
る干渉分岐型レーザの構成に用いた適用例を示す。十字
に交差するりッジ型導波路]が形成され、夫々の導波路
1の外側の導波路端1aはへき開面で形成されるミラー
となっている。リッジ上部には電極4が、第4図に斜線
部で示すパターンで形成され、活性層7への電流注入を
可能としている。第5図には、第4図のc−c’線に沿
ったリッジ部の断面構造が示されており(第2図の符号
と同一のものは同一の部位を示す)、リッジ部キャップ
層9からの電流注入を行なう為にリッジ側部にはS i
 NX絶縁層13が施されている第4図のデバイスは、
縦方向と横方向の共振器がカップラ2を介して相互に結
合している構成となっている為、複合の共振器型のレー
ザを形成し、発振スペクトルの単一縦モード化及び安定
化を図ることが比来る。
次に、本例の作製プロセスを説明する。先ず、n−Ga
As基板5にMEE等でn−クラッド層6からキャップ
層9までエビ成長を行なう。次に、フォトリソグラフィ
ーによりリッジ導波路パターン(十字パターン)を形成
し、RIBEによりリッジ導波路lを加工する。更に、
S i N x 膜13を全面に堆積し、リッジ上部の
p  −GaAsキャップ層9の頭出しを行なう。この
際、カップラ形成部3のS iN X glは予めエツ
チングしておき、最後に基板研磨を行なって上下両面に
Au膜4.10を蒸着しコンタクトを取る為アロイ処理
を行なう。
カップラ部3の形成はFIBEによりエツチング加工し
で行なう。イオンとしてはGa”ビームを用い加速は4
0keVとした。
最後に、4端面1aのへき開を行ない、ステムに実装し
電極4のワイヤボンディングを施して完成する。
本例では、カップラ部は平坦部3となって横方向に閉じ
込めがなくなる為、平面内で完敗することになるが、カ
ップラ部の領域長はリッジ幅と同等の数t、1mで抑え
られる為、回折による結合損失は殆ど問題ない。
第6図は本発明による第2実施例を示す。本実施例にお
いては、カップラを形成する平坦部23がスリット2を
囲む溝状となっており、横方向に閉じ込めのない部分を
減らしている。この為、回折等による結合損失を更に小
さくすることが可能となる。また、カップラ部直前まで
電流注入が可能となる為、吸収による損失も小さ(抑え
られる第7図は、第2実施例のカップラを送受信部を内
蔵する光増幅器に応用した例を示す。縦方向のりッジ部
は、電流注入を行ない光アンプ部14゜15を形成する
。また、入出力端面にはARコート18.19が施され
ている。
入力してきた波長λ1の光はARコート18を通って導
波路1に入り、光アンプ部14で光増幅されてカップラ
2に達する。ここで、その光バヮ−の一部は反射されて
受信部17のフォトダイオドによって検出され、また他
部はカップラ2を透過して更に光アンプ部15で光増幅
を受は出力側に達する。
一方、送信部16はDFB構造から成るレーザを構成し
、波長ん2の光波カップラ2を介して出力側へ送出する
。この様に、カップラ2を含む集積化の構造により、入
力信号の検波、送出、及び自局信号の送出が可能な機能
的集積光ノードな実現することができる。
第8図は本発明による第3の実施例を示す。本実施例で
は、平坦部33に形成されたカップラ即ちスリット2は
導波路1の伝搬方向に対して垂直な面を形成し、反射及
び透過の比率を制御している。第3実施例のデバイス構
成は、第4図の応用例と同じ(、複合共服器型のレーザ
となり、安定した単一縦モードを維持することが可能と
なる。
すなわち、へき開面34.35とカップラ部2とから成
る2つの共振器A、Hの複合となり、共振器の長さを微
調することにより両者のリップル間隅が異なりビート周
波数を小さくすることが出来る為、複合共振器として発
振可能なスペクトル間隔を大きくし安定縦オードを達成
できる。
上記実施例においては、カップラとして、層方向の界分
布の中央付近で分割するタイプの波面分割分岐型のカッ
プラについて述べたが、界分布の下まで深く加工したタ
イプのカップラにも適用出来ることは勿論である。
第9図はこうしたタイプの第4実施例を示し、この第4
実施例では、第1〜第3実施例で分岐比を制(支)する
のに層方向の界分布を波面分割(層方向波面分割と称す
る)すべくスリットの加工深さを界分布の中央に設定し
ていたのに対して、水平方向の界分布の波面分割(水平
方向波面分割と称する)を行なう為に平坦部に形成され
たスリット42の深さは導波路1の下部に達するまで深
(し、スリット42の水平方向の加工長さを界分布の中
央に設定している。
第9図のD−D’断面図である第10図に示す通り、ス
リット42の加工深さは層方向界分布(斜線部で示す)
の下部に達するまで深くなっている。
第4実施例の場合、加工深さに対して厳しい制限はない
が、水平加工端、特に中央部Eでの加工形状に関しては
精度を高める必要がある。
第11図は本発明による第5実施例の上面図である。こ
れまでの第1〜第4実施例では、微細なス+、lット型
のカップラについて説明してきたが、本実施例は、2等
辺三角形型のエツチング部(凹部)52を予め大きめに
削除した平坦部53に形成し、その頂、φ、52aを水
平方向の界分布の中心付近に設定し、加工深さを層方向
の界分布の下部まで深<シた構造となっている。
第5実施例では、DFBレーザ構造56及び27から送
出される光波(波長えよ及びえ、)は分岐カップラ52
によって合波され、更に光アンプ部55で光増幅を受け
、ARコート54が施された出力端面から2波多重化し
た光信号の送出を行なう。
第12図は第5実施例の変形例であり、7字型のスリッ
ト58が平坦部53に形成されている。
スリット58の加工深さは、やはり層方向の界分布の下
部まで深(した構造となり、同様の効果を得ている。
第11図のカップラ形態は頭載エツチングであるのでR
IBEなとのエツチング技術も適用可能となり、FIB
Eによるエツチングに頼らざるを得ないスリット型カッ
プラの形成に比べて、生産性を高めることができる。
[発明の効果] 以上説明した様に、本発明によれば、カップラ形成部位
を予め平坦化した構造としているので。
波面分割型カップラ形成の際に問題となる加工深さの制
御性(特に均一性)を著しく高めることができ、分岐比
、結合効率の安定したカップラの作製が可能となる。
また、カップラ形成部位の平坦化部分は導波路層により
近接している為、加工深さを小さくすることができるの
で、加工精度を更に高めることができ、加工時間の短縮
化、歩留りの向上に効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1実施例を示すカップラ上面図、第
2図と第3図は夫々第1図のA−A’断面図及びB−B
’断面図、第4図は第1実施例のカップラを干渉分岐型
レーザに適用した例を示すデバイス上面図、第5図はり
ッジ導波路部の構造を示す第4図のC−C断面図、第6
図は第2実施例を示すカップラ上面図、第7図は第2実
施例のカップラを送受信機能を有する光増幅器に通用し
た例を示すデバイス上面図、第8図は第3実施例を示す
カップラ上面図、第9図は第4実施例を示すカップラ上
面図、第10図は第9図のD−D断面図、第11図は波
長多重化送信デバイスである第5実施例を示すカップラ
上面図、第12区は第5実施例の変形例の上面図、第1
3図は従来例を示すカップラの上面図、第14図は第1
3図のA−A’断面図、第15図は第13図のB−B′
断面図である。 1・・・・・リッジ導波路、la、18.1954・ 
・ ・ ・ ・ARコート、2.42・・・・・スリッ
ト、3.23.33.43.53・・・・・平坦部、4
.10・・・・・電極、5・・・・・基板、6.8・・
・・・クラッド層、7・・・・・活性層、9・・・・・
キャップ層、13・・・・・絶縁層、14.15.55
・・・・・光アンプ部、16・・・・・送信部、17・
・・・・受信部、34.35・・・・・へき開面、52
・・・・・2等辺三角形型のエツチング部、56.57
・・・・・DFBレーザ構造、58・・・・・V字型ス
リット

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、チャンネル光導波路構造に光波の結合を行なう為に
    構成された集積型の光カップラにおいて、該光カップラ
    の形成部位は平坦化されており、波面分割型の分岐、結
    合を行なうことを特徴とする集積型光カップラ。 2、前記光カップラは層方向の光界分布の波面分割を行
    なう様に構成されている請求項1記載の集積型光カップ
    ラ。 3、前記光カップラは水平方向の光界分布の波面分割を
    行なう様に構成される請求項1記載集積型光カップラ。 4、前記チャンネル光導波路構造はリッジ構造である請
    求項1記載の集積型光カップラ。5、前記チャンネル光
    導波路構造は複数形成されて交差部を有し、該交差部に
    平坦部が形成されて、そこに光カップラが構成されて光
    波の分岐、結合を行なう請求項1記載の集積型光カップ
    ラ。 6、前記チャンネル光導波路構造の交差部はX字型であ
    る請求項5記載の集積型光カップラ。 7、前記チャンネル光導波路構造の交差部はT字型であ
    る請求項5記載の集積型光カップラ。 8、前記光カップラは、微細なスリットを形成すること
    で構成されている請求項1記載の集積型光カップラ。 9、前記平坦化された光カップラの形成部位は微細なス
    リットの水平方向の形状に合わせた細長い形状となって
    いる請求項8記載の集積型光カップラ。 10、前記光カップラは適当な形状のエッチング部を形
    成することで構成されている請求項1記載の集積型光カ
    ップラ。 11、前記チャンネル光導波路構造は半導体基板上に形
    成され、層方向には活性層を含む導波路が形成されてい
    る請求項1記載の集積型光カップラ。 12、前記光カップラによるチャンネル光導波路構造間
    の結合によって複合の共振器が形成されている請求項1
    記載の集積型光カップラ。
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