JPH04154991A - チタン材への低次酸化チタン皮膜の形成方法 - Google Patents

チタン材への低次酸化チタン皮膜の形成方法

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JPH04154991A
JPH04154991A JP27817190A JP27817190A JPH04154991A JP H04154991 A JPH04154991 A JP H04154991A JP 27817190 A JP27817190 A JP 27817190A JP 27817190 A JP27817190 A JP 27817190A JP H04154991 A JPH04154991 A JP H04154991A
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titanium
low
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oxide film
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Seishiro Ito
征司郎 伊藤
Takashi Onaka
大中 隆
Shinichi Ishida
石田 慎一
Michiaki Hirochi
広地 通明
Hideyuki Matsunaga
松永 秀之
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Nippon Aluminium Co Ltd
Tokai Denshi Inc
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Nippon Aluminium Co Ltd
Tokai Denshi Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、装飾品や建材又は還元剤その他電子部品など
に使用されるチタン材への低次酸化チタンの形成方法に
関する。
(従来の技術) 以前に、この種チタン材への低次酸化チタン皮膜の形成
方法として、特開平2−93097号公報を提案した。
この公報の記載内容は、チタン及びチタン合金から成る
チタン材を陽極酸化処理した後に、アンモニアや一酸化
炭素又は−酸化窒素などの還元雰囲気中において、少な
くとも600℃以上の温度で加熱することにより、黒色
系の低次酸化チタン皮膜を形成するようにしたものであ
る。
(発明が解決しようとする課題) 所で、以上のような低次酸化チタン皮膜の形成方法では
、チタン材を陽極酸化処理した後に、該チタン材を低次
酸化チタンに還元させるために、アンモニアや一酸化炭
素又は−酸化窒素などのガスを使用することから、工場
内に有害ガスや刺激臭などが発生し、これら有害ガスな
どを排出するために換気装置などの設備が別途必要とな
り、設備コストが高くなる問題があった。
本発明は以上のような問題に鑑みてなしなもので、その
目的は、有害成分を使用することなく、ン皮膜を得るこ
とができるチタン材への低次酸化チタン皮膜の形成方法
を提供することにある。
(課題を解決するための手段) 上記目的を達成するために、本発明にかかる低吹酸化チ
タン皮膜の形成方法は、チタン材を陽極酸化処理した後
に、10−’torr以下の減圧下で、300℃以上に
加熱することを特徴とするものである。
(作用・効果) チタン材を陽極酸化処理することにより、灰色系の二酸
化チタンが(TiO2)が形成され、この二酸化チタン
を10 ”−3torr以下の減圧下で、300℃以上
に加熱することにより、前記二酸化チタンが還元されて
、一般式T1n02n−1(但しn=1〜10)で示さ
れる低次酸化チタンの内、黒色系のンが黒色皮膜となっ
て前記チタン材の表面に表出され、外観良好で耐候性に
優れた装飾品や建材となる。また、前記低次酸化チタン
は、酸素吸着機能に優れているため、還元剤としても使
用可能である。尚、前記陽極酸化処理を施したチタン材
を還元するに際して、10−3torr以上の圧力条件
とする場合、また、300°C以下の加熱条件とする場
合には、何れも陽極酸化処理で形成された前記二酸化チ
タンの還元作用が行われ難く、即ち、前記−酸化チタン
や五酸化二チタンの形成が充分に行われず、初期の目的
が達成できないために、前述した条件下で行うものであ
る。
(実施例) 以下本発明にかかるチタン材への低次酸化チタン皮膜の
形成方法を、具体例を挙げて説明する。
具体例1 先ず、30 g/jの硫酸と、20 g/lのリン酸及
びLog/jの過酸化水素水とから成る電解浴を調製し
た。また、試料として純チタン板を使用し、この試料を
前記電解洛中において、電圧50,100.150.2
00Vで、それぞれ10分間陽極酸化した。そして、前
記各試料の表面に、電圧50Vの場合は150nm、電
圧100Vの場合は370 nm、電圧150Vの場合
は1.I  μm、電圧200Vの場合は5.3μmの
灰色皮膜をそれぞれ形成した。
次に、前記各試料を密封容器中にそれぞれ封入して、1
0−’torrに減圧し、これら各容器の全体を450
℃に加熱した電気炉中に装填して、120分間放置した
。この結果、次表で示すような皮膜の色調変化が得られ
た。
具体例2 前述した具体例1と同一条件で陽極酸化処理された各試
料を使用した。また、前記各試料の還元作用を促進させ
ることを目的として、該各試料と共に水素化チタンをそ
れぞれ密封容器中に封入して、10−’torrに減圧
し、これら各容器の全体を350°Cに加熱した電気炉
中に装填して、 10分間放置した。この結果、次表で
示すような皮膜の色調変化が得られた。
具体例3 前述した具体例1と同一条件で陽極酸化処理した各試料
を使用した。また、前記各試料の還元作用を促進させる
ことを目的として、該各試料と共にチタン粉末をそれぞ
れ密封容器中に封入して、10−’t、orrに減圧し
、これら各容器の全体を500勢℃に加熱した電気炉中
に装填して、120分間放置した。この結果、次表で示
すような皮膜の色調変化が得られた。また、前記具体例
1〜3で得られた皮膜について、X線による回折試験を
行った所、何れもが一酸化チタンと五酸化二チタンから
成る黒色皮膜であった。
次に示す表は、L、a、b系表色法における明度を示し
ている。尚、同表においては、本発明の比較例として、
以上の各具体例で示したような還元処理を施すことなく
、具体例1と同一条件で陽極酸化処理した各試料く灰色
)の明度を示している。
表〈皮膜の色調変化) 以上の表から明らかなように、具体例1〜3のものは、
その何れもが比較例に較べてL値が低下しており、この
ことから陽極酸化処理された皮膜が、前述した還元処理
によって黒色に変化していることが理解される。尚、前
記表中、具体例3の50V、1’OOV、150Vにつ
いては、L値及びa、b値についての試験を行っていな
い。
出願人 日本アルミニクム工業株式会社同  東海電子
株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)チタン材を陽極酸化処理した後に、10^−^3
    torr以下の減圧下で、300℃以上に加熱すること
    を特徴とするチタン材への低次酸化チタン皮膜の形成方
    法。
JP27817190A 1990-10-16 1990-10-16 チタン材への低次酸化チタン皮膜の形成方法 Granted JPH04154991A (ja)

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JPH0577759B2 JPH0577759B2 (ja) 1993-10-27

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