JPH0577759B2 - - Google Patents

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JPH0577759B2
JPH0577759B2 JP27817190A JP27817190A JPH0577759B2 JP H0577759 B2 JPH0577759 B2 JP H0577759B2 JP 27817190 A JP27817190 A JP 27817190A JP 27817190 A JP27817190 A JP 27817190A JP H0577759 B2 JPH0577759 B2 JP H0577759B2
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JP
Japan
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titanium
sample
order
low
titanium oxide
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Application number
JP27817190A
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English (en)
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JPH04154991A (ja
Inventor
Seishiro Ito
Takashi Oonaka
Shinichi Ishida
Michiaki Hirochi
Hideyuki Matsunaga
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Aluminium Co Ltd
Tokai Denshi Inc
Original Assignee
Nippon Aluminium Co Ltd
Tokai Denshi Inc
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Publication date
Application filed by Nippon Aluminium Co Ltd, Tokai Denshi Inc filed Critical Nippon Aluminium Co Ltd
Priority to JP27817190A priority Critical patent/JPH04154991A/ja
Publication of JPH04154991A publication Critical patent/JPH04154991A/ja
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Description

【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野) 本発明は、装飾品や建材又は還元剤その他電子
部品などに使用されるチタン材への低次酸化チタ
ンの形成方法に関する。 (従来の技術) 以前に、この種チタン材への低次酸化チタン皮
膜の形成方法として、特開平2−93097号公報を
提案した。この公報の記載内容は、チタン及びチ
タン合金から成るチタン材を陽極酸化処理した後
に、アンモニアや一酸化炭素又は一酸化窒素など
の還元雰囲気中において、少なくとも600℃以上
の温度で加熱することにより、黒色系の低次酸化
チタン皮膜を形成するようにしたものである。 (発明が解決しようとする課題) 所で、以上のような低次酸化チタン皮膜の形成
方法では、チタン材を陽極酸化処理した後に、該
チタン材を低次酸化チタンに還元させるために、
アンモニアや一酸化炭素又は一酸化窒素などのガ
スを使用することから、工場内に有害ガスや刺激
臭などが発生し、これら有害ガスなどを排出する
ために換気装置などの設備が別途必要となり、設
備コストが高くなる問題があつた。 本発明は以上のような問題に鑑みてなしたもの
で、その目的は、有害成分を使用することなく、
無公害でかつ設備コストの低減化を行うことがで
きながら、干渉膜程度の薄膜からミクロンオーダ
ーと厚い低次酸化チタン皮膜を得ることができる
チタン材への低次酸化チタン皮膜の形成方法を提
供することにある。 (課題を解決するための手段) 上記目的を達成するために、本発明にかかる低
次酸化チタン皮膜の形成方法は、チタン材を陽極
酸化処理した後に、10-3torr以下の減圧下で、
300℃以上に加熱することを特徴とするものであ
る。 (作用・効果) チタン材を陽極酸化処理することにより、灰色
系の二酸化チタンが(TiO2)形成され、この二
酸化チタンを10-3torr以下の減圧下で、300℃以
上に加熱することにより、前記二酸化チタンが還
元されて、一般式TaoO2o-1(但しn=1〜10)で
示される低次酸化チタンの内、黒色系の一酸化チ
タン(TiO)や五酸化三チタン(Ti3O5)へと変
化し、これら一酸化チタンや五酸化三チタンが黒
色皮膜となつて前記チタン材の表面に表出され、
外観良好で耐候性に優れた装飾品や建材となる。
また、前記低次酸化チタンは、酸素吸着機能に優
れているため、還元剤としても使用可能である。
尚、前記陽極酸化処理して施したチタン材を還元
するに際して、10-3torr以上の圧力条件とする場
合、また、300℃以下の加熱条件とする場合には、
何れも陽極酸化処理で形成された前記二酸化チタ
ンや還元作用が行われ難く、即ち、前記一酸化チ
タンや五酸化三チタンの形成が充分に行われず、
初期の目的が達成できないために、前述した条件
下で行うものである。 (実施例) 以下本発明にかかるチタン材への低次酸化チタ
ン皮膜の形成方法を、具体例を挙げて説明する。 具体例 1 先ず、30g/の硫酸と、20g/のリン酸及
び10g/と過酸化水素水とから成る電解浴を調
整した。また、試料として純チタン板を使用し、
この試料を前記電解浴中において、電圧50、100、
150、200Vで、それぞれ10分間陽極酸化した。そ
して、前記各試料の表面に、電圧50Vの場合は
150nm、電圧100Vの場合は370nm、電圧150Vの
場合は1.1μm、電圧200Vの場合は5.3μmの灰色皮
膜をそれぞれ形成した。 次に、前記各試料を密封容器中にそれぞれ封入
して、10-5torrに減圧し、これら各容器の全体を
450℃に加熱した電気炉中に充填して、120分間放
置した。この結果、次表で示すような比較の色調
変化が得られた。 具体例 2 前述した具体例1と同一条件で陽極酸化処理さ
れた各試料を使用した。また、前記各試料の還元
作用を促進させることを目的として、該各試料と
共に水素化チタンをそれぞれ密封容器中に封入し
て、10-3torrに減圧し、これら各容器の全体を
350℃に加熱した電気炉中に充填して、10分間放
置した。この結果、次表で示すような皮膜の色調
変化が得られた。 具体例 3 前述した具体例1と同一条件で陽極酸化処理し
た各試料を使用した。また、前記各試料の還元作
用を促進させることを目的として、該各試料と共
にチタン粉末をそれぞれ密封容器中に封入して、
10-4torrに減圧し、これら各容器の全体を500℃
に加熱した電気炉中に装填して、120分間放置し
た。この結果、次表で示すような皮膜の色調変化
が得られた。また、前記具体例1〜3で得られた
皮膜について、X線による回析試験を行つた所、
何れもが一酸化チタンと五酸化三チタンから成る
黒色皮膜であつた。 次に示す表は、L、a、b系表色法における明
度に示している。尚、同表においては、本発明の
比較例として、以上の各具体例で示したような還
元処理を施すことなく、具体例1と同一条件で陽
極酸化処理した各試料(灰色)の明度を示してい
る。
【表】
【表】 以上の表から明らかなように、具体例1〜3の
ものは、その何れもが比較例に較べてL値が低下
しており、このことから陽極酸化処理された皮膜
が、前述した還元処理によつて黒色に変化してい
ることが理解される。尚、前記表中、具体例3の
50V、100V、150Vについては、L値呼びa、b
値について試験を行つていない。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 チタン材を陽極酸化処理した後に、10-3torr
    以下の減圧下で、300℃以上に加熱することを特
    徴とするチタン材への低次酸化チタン皮膜の形成
    方法。
JP27817190A 1990-10-16 1990-10-16 チタン材への低次酸化チタン皮膜の形成方法 Granted JPH04154991A (ja)

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JP27817190A JPH04154991A (ja) 1990-10-16 1990-10-16 チタン材への低次酸化チタン皮膜の形成方法

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JPH04154991A JPH04154991A (ja) 1992-05-27
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JPH04154991A (ja) 1992-05-27

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