JPH04157149A - ステンレス製真空機器の表面処理方法 - Google Patents
ステンレス製真空機器の表面処理方法Info
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- JPH04157149A JPH04157149A JP28188790A JP28188790A JPH04157149A JP H04157149 A JPH04157149 A JP H04157149A JP 28188790 A JP28188790 A JP 28188790A JP 28188790 A JP28188790 A JP 28188790A JP H04157149 A JPH04157149 A JP H04157149A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、加速器、放射光施設（ＳＲまたはＳＯＲ）、
自由電子レーザ、などの配管（ビーム軌道）部に適用さ
れる表面処理方法に関する。
自由電子レーザ、などの配管（ビーム軌道）部に適用さ
れる表面処理方法に関する。
従来の真空機器の表面処理としては、■脱脂、■酸洗、
■電解研磨、■ベーキング（真空下で加熱処理）、■放
電洗浄などがあるが、近年、放電洗浄処理が注目を浴び
てきている。なお、放電洗浄は、低圧下で放電を長時間
おこして、真空機器をイオン照射し、不純物の除去や吸
蔵ガスのたたき出し等を行う清浄化方法である。
■電解研磨、■ベーキング（真空下で加熱処理）、■放
電洗浄などがあるが、近年、放電洗浄処理が注目を浴び
てきている。なお、放電洗浄は、低圧下で放電を長時間
おこして、真空機器をイオン照射し、不純物の除去や吸
蔵ガスのたたき出し等を行う清浄化方法である。
放電洗浄は真空機器表面を清浄にするが、別の意味では
活性な面を露出する処理方法であるため、処理後大気に
さらすと、大気中のガスが吸着したり、化学結合したり
して、処理効果が失なわれるため、工場でのあらかじめ
の処理としては不適当であった。
活性な面を露出する処理方法であるため、処理後大気に
さらすと、大気中のガスが吸着したり、化学結合したり
して、処理効果が失なわれるため、工場でのあらかじめ
の処理としては不適当であった。
特にステンレス材の場合の表面処理方法は確立していな
かった。
かった。
従って、工場での製作段階であらかじめ放電洗浄を行な
った後も、その効果が持続できる表面処理方法の開発が
望まれている。これにより、現地での立上げ時間の大幅
な短縮が可能となる。
った後も、その効果が持続できる表面処理方法の開発が
望まれている。これにより、現地での立上げ時間の大幅
な短縮が可能となる。
放電洗浄直後の表面を（大気にさらすことなく）、ち密
な酸化皮膜で保護する。そのための条件として、大気圧
の純酸素による加熱手段を採用する。
な酸化皮膜で保護する。そのための条件として、大気圧
の純酸素による加熱手段を採用する。
［作用］
大気圧の純酸素下で加熱して出来たち密な酸化皮膜は、
化学的に安定であるため、大気中のガスの吸着や化学結
合による表面汚染を抑える作用がある。
化学的に安定であるため、大気中のガスの吸着や化学結
合による表面汚染を抑える作用がある。
またこの皮膜は、ステンレスの母材に比較して、水素の
拡散係数が顕著に小さいため、超音真空領域などでは、
真空排気時に問題となる水素の真空機器からの放出を低
減する。
拡散係数が顕著に小さいため、超音真空領域などでは、
真空排気時に問題となる水素の真空機器からの放出を低
減する。
（実施例］
本発明を長尺の真空配管に適用した実施例を第１図につ
いて説明する。
いて説明する。
ステンレス製管を工場に於いて所定の寸法・形状に加工
した後、両端に盲板０２等をつけて真空配管０１とし、
これを真空ポンプ０３で真空排気する。
した後、両端に盲板０２等をつけて真空配管０１とし、
これを真空ポンプ０３で真空排気する。
その後、所定のガス（例えばアルゴン（Ａｒ）ガス＋１
０％酸素（０□））を所定の圧力加えたのち、真空配管
０１内部にあらかしめ（真空排気前に）設置した放電電
極０４と真空配管０１との間でグロー放電を行ない、表
面の不純物を除去したのち、真空排気し、その後純酸素
を大気圧まで導入してヒータ０６で２００℃〜４００℃
に加熱する。これによりち密酸化層０５を表面に形成す
る。その後大気開放し、出荷して現地組立を行なう。
０％酸素（０□））を所定の圧力加えたのち、真空配管
０１内部にあらかしめ（真空排気前に）設置した放電電
極０４と真空配管０１との間でグロー放電を行ない、表
面の不純物を除去したのち、真空排気し、その後純酸素
を大気圧まで導入してヒータ０６で２００℃〜４００℃
に加熱する。これによりち密酸化層０５を表面に形成す
る。その後大気開放し、出荷して現地組立を行なう。
次に、第２図により、真空排気の各段階での支配要因に
ついて説明する。
ついて説明する。
まず、大気圧の状態から排気をはしめると、容器内のガ
スの排出に要する速度が支配要因となる。
スの排出に要する速度が支配要因となる。
その後、今度は真空壁面に付着しているガスが表面から
脱離して出てくる速度が支配要因となる。
脱離して出てくる速度が支配要因となる。
表面のガスが少なくなってくると、今度は真空材料の内
部にいるガスが拡散によって出てくる速度が支配要因と
なり、最後には真空壁を通って大気側のガスが透過して
くる速度が支配要因となる。
部にいるガスが拡散によって出てくる速度が支配要因と
なり、最後には真空壁を通って大気側のガスが透過して
くる速度が支配要因となる。
上記の表面処理方法により、表面脱離、拡散の各過程で
の排気時間が短縮される。
の排気時間が短縮される。
（発明の効果〕
本発明は、ステンレス製真空機器を放を洗浄後、大気に
さらすことなく表面をち密な酸化処理する表面処理方法
において、あらかしめ機器内部に設置した放電電極によ
る放電洗浄後、大気圧の純酸素を導入し、２００〜４０
０℃に加熱して表面を酸化することにより、次の効果を
有する。
さらすことなく表面をち密な酸化処理する表面処理方法
において、あらかしめ機器内部に設置した放電電極によ
る放電洗浄後、大気圧の純酸素を導入し、２００〜４０
０℃に加熱して表面を酸化することにより、次の効果を
有する。
■ 放電洗浄で真空機器表面の清浄化をした後、酸化さ
せることにより、ち密な皮膜を作ることができる。
せることにより、ち密な皮膜を作ることができる。
■ このち密な皮膜により、放電洗浄した表面を大気曝
露時に汚染から防ぐことができる。
露時に汚染から防ぐことができる。
■ 上記０項の処理を工場での製作時に施工することに
より、放電洗浄で得た清浄表面をち密な酸化皮膜で保護
した状態で、輸送、組立ができる。これにより、現地で
の組立時に早く真空排気ができ、また到達真空度も良い
。
より、放電洗浄で得た清浄表面をち密な酸化皮膜で保護
した状態で、輸送、組立ができる。これにより、現地で
の組立時に早く真空排気ができ、また到達真空度も良い
。
■ 上記０項で得られた皮膜は、表面へのガス吸着量が
少ないため、早く真空排気ができる。また、到達真空度
についても、超高真空領域で問題となる水素ガスの放出
を抑制できるので、極高真空域にまで到達できる。
少ないため、早く真空排気ができる。また、到達真空度
についても、超高真空領域で問題となる水素ガスの放出
を抑制できるので、極高真空域にまで到達できる。
■ 例えば、高エネルギー粒子による皮膜損傷が生して
も、内部には放電洗浄で清浄化した面があるので、真空
度が悪くなる心配がない。
も、内部には放電洗浄で清浄化した面があるので、真空
度が悪くなる心配がない。
■ また、この皮膜は酸化処理により、修復可能なため
、長期に使用できる。例えば、メンテナンスでやむをえ
ず、大気曝露が必要な際には、あらかじめこの処理を施
せば、ち密度膜が再生して、表面保護ができる。
、長期に使用できる。例えば、メンテナンスでやむをえ
ず、大気曝露が必要な際には、あらかじめこの処理を施
せば、ち密度膜が再生して、表面保護ができる。
第１図は本発明の実施例に係る表面処理方法の処理チャ
ートを示し、第２図は真空排気特性の支配要因を示す線
図である。 ０１・・・真空配管、０２・・・盲板。 ０３・・・真空ポンプ、０４・・・放電電極。
ートを示し、第２図は真空排気特性の支配要因を示す線
図である。 ０１・・・真空配管、０２・・・盲板。 ０３・・・真空ポンプ、０４・・・放電電極。
Claims (1)
- ステンレス製真空機器を放電洗浄後、大気にさらすこ
となく表面をち密な酸化処理する表面処理方法に於いて
、あらかじめ機器内部に設置した放電電極による放電洗
浄後、大気圧の純酸素を導入し、２００〜４００℃に加
熱して表面を酸化することを特徴とするステンレス製真
空機器の表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28188790A JP2862362B2 (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | ステンレス製真空機器の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28188790A JP2862362B2 (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | ステンレス製真空機器の表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04157149A true JPH04157149A (ja) | 1992-05-29 |
| JP2862362B2 JP2862362B2 (ja) | 1999-03-03 |
Family
ID=17645355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28188790A Expired - Fee Related JP2862362B2 (ja) | 1990-10-22 | 1990-10-22 | ステンレス製真空機器の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2862362B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003013181A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Nippon Steel Corp | 真空機器用オーステナイト系ステンレス鋼およびその製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10120663B2 (en) | 2014-03-28 | 2018-11-06 | Intel Corporation | Inter-architecture compatability module to allow code module of one architecture to use library module of another architecture |
-
1990
- 1990-10-22 JP JP28188790A patent/JP2862362B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003013181A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-15 | Nippon Steel Corp | 真空機器用オーステナイト系ステンレス鋼およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2862362B2 (ja) | 1999-03-03 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |